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一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺 喷嘴

阅读：423发布：2023-01-18

专利汇可以提供一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明涉及集成电路制造单片湿法处理设备，具体地说是一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，包括药液盒盖板、线型喷嘴型板、药液分配孔板、喷嘴主架、隔离板及温控盒压板，药液分配孔板及隔离板分别安装在喷嘴主架的两侧，隔离板与喷嘴主架之间形成喷洒药液分散减压腔体，温控盒压板与喷嘴主架之间形成喷洒药液温控腔体；药液分配孔板与喷嘴型板之间以及药液分配孔板上分别设有相连通的喷洒药液线型分布均控流量腔体；喷嘴主架上分别设有进液通道及槽型孔，槽型孔的两侧分别连通喷洒药液分散减压腔体及药液分配孔板上的喷洒药液线型分布均控流量腔体。本发明喷洒药液温度、流量均匀一致，冲击压力低且均匀，实现精细湿法化学处理晶片目的。，下面是一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：包括药液盒盖板(1)、线型喷嘴型板(2)、药液分配孔板(3)、喷嘴主架(4)、隔离板(5)及温控盒压板(6)，其中药液分配孔板(3)及隔离板(5)分别安装在喷嘴主架(4)的两侧，隔离板(5)与喷嘴主架(4)之间形成喷洒药液分散减压腔体(C)，所述隔离板(5)外罩温控盒压板(6)，该温控盒压板(6)与喷嘴主架(4)及隔离板(5)之间形成喷洒药液温控腔体；所述药液分配孔板(3)的外侧依次安装线型喷嘴型板(2)及药液盒盖板(1)，药液分配孔板(3)与喷嘴型板(2)之间以及药液分配孔板(3)上分别设有相连通的喷洒药液线型分布均控流量腔体；所述喷嘴主架(4)上分别设有进液通道(14)及槽型孔(12)，该进液通道(14)沿喷嘴主架(4)的长度方向设置，一端与喷洒药液源相连，另一端与所述喷洒药液分散减压腔体(C)连通，所述槽型孔(12)的两侧分别连通喷洒药液分散减压腔体(C)及药液分配孔板(3)上的喷洒药液线型分布均控流量腔体。
2.按权利要求1所述低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：所述喷嘴主架(4)上开有排气孔(7)，该排气孔(7)通过喷嘴主架(4)内部开设的排气通道(13)与所述喷洒药液分散减压腔体(C)相连通。
3.按权利要求1或2所述低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：所述喷嘴主架(4)沿长度方向的一侧设有容置隔离板(5)的第三凹槽(11)，另一侧设有容置药液盒盖板(1)、线型喷嘴型板(2)及药液分配孔板(3)的第四凹槽(15)，所述第三凹槽(11)与第四凹槽(15)之间的喷嘴主架(4)上沿长度方向均布有多个槽型孔(12)，每个槽型孔(12)分别连通于其两侧的第三凹槽(11)和第四凹槽(15)。
4.按权利要求1或2所述低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：所述进液通道(14)的另一端向容置隔离板(5)的一侧弯折，并与所述喷洒药液分散减压腔体(C)相连通。
5.按权利要求1或2所述低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：所述温控盒压板(6)的内侧通过分隔条(8)隔成上下设置的第一凹槽(9)及第二凹槽(10)，其中第一凹槽(9)和第二凹槽(10)的一端分别与冷却水的进口及出口相连通，第一凹槽(9)和第二凹槽(10)的另一端彼此相连通。
6.按权利要求1或2所述低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：所述隔离板(5)为三角形，容置在喷嘴主架(4)一侧所开设的三角形第三凹槽(11)内。
7.按权利要求1或2所述低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：所述药液分配孔板(3)与线型喷嘴型板(2)相对的一侧设有内凹的第五凹槽(17)，该第五凹槽(17)的顶部沿药液分配孔板(3)长度方向均布有多个分配孔(16)，每个分配孔(16)均与所述槽型孔(12)相连通。
8.按权利要求7所述低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：所述第五凹槽(17)的上边缘为波浪状结构。
9.按权利要求1或2所述低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：所述线型喷嘴型板(2)与药液分配孔板(3)相对面的形状大小相同。
10.按权利要求1或2所述低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：所述药液盒盖板(1)与线型喷嘴型板(2)相对的一侧设有第六凹槽，所述线型喷嘴型板(2)与药液分配孔板(3)均容置在该第六凹槽内，并与药液盒盖板(1)一起容置在喷嘴主架(4)另一侧所开设的第四凹槽(15)内。

说明书全文

一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺 喷嘴

技术领域

[0001] 本发明涉及集成电路制造单片湿法处理设备，具体地说是一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴。

背景技术

[0002] 目前，在集成电路制造单片湿法处理设备中，喷洒的工艺喷嘴多种多样，所有湿法喷洒功能是通过工艺喷嘴系统、喷嘴辅助装置系统、载片旋转系统共同完成的，其中工艺喷嘴是影响湿法喷洒工艺的最主要因素。

[0003] 单片湿法处理工艺模块的加工过程特点是，载片台装载晶片按照既定的程序进行旋转，喷洒药液的工艺喷嘴按照既定的程序进行喷洒，其加工作业的工作腔体四周是封闭的。为保证待处理的晶片表面各处受到同样的湿法工艺化学处理，特别是集成电路制造进入生产纳米级工艺产品时，晶片表面必须同时接收到同样冲击压力、同样流量、同样温度的喷洒液体，才能实现晶片表面各处的湿法处理后的化学反应结果均匀一致。

[0004] 要实现上述化学反应结果，行业内选用的工艺喷嘴外形为长方形，喷洒药液要同时洒在晶片，配合喷洒的扫描动作或者晶片的旋转动作，实现均匀的湿法处理工艺。不同部件结构、不同喷洒方式构成了多种样式的工艺喷嘴。

发明内容

[0005] 本发明的目的在于提供一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴。

[0006] 本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：

[0007] 本发明包括药液盒盖板、线型喷嘴型板、药液分配孔板、喷嘴主架、隔离板及温控盒压板，其中药液分配孔板及隔离板分别安装在喷嘴主架的两侧，隔离板与喷嘴主架之间形成喷洒药液分散减压腔体，所述隔离板外罩温控盒压板，该温控盒压板与喷嘴主架之间形成喷洒药液温控腔体；所述药液分配孔板的外侧依次安装线型喷嘴型板及药液盒盖板，药液分配孔板与喷嘴型板之间以及药液分配孔板上分别设有相连通的喷洒药液线型分布均控流量腔体；所述喷嘴主架上分别设有进液通道及槽型孔，该进液通道沿喷嘴主架的长度方向设置，一端与喷洒药液源相连，另一端与所述喷洒药液分散减压腔体连通，所述槽型孔的两侧分别连通喷洒药液分散减压腔体及药液分配孔板上的喷洒药液线型分布均控流量腔体。

[0008] 其中：所述喷嘴主架上开有排气孔，该排气孔通过喷嘴主架内部开设的排气通道与所述喷洒药液分散减压腔体相连通；

[0009] 所述喷嘴主架沿长度方向的一侧设有容置隔离板的第三凹槽，另一侧设有容置药液盒盖板、线型喷嘴型板及药液分配孔板的第四凹槽，所述第三凹槽与第四凹槽之间的喷嘴主架上沿长度方向均布有多个槽型孔，每个槽型孔分别连通于其两侧的第三凹槽和第四凹槽；所述进液通道的另一端向容置隔离板的一侧弯折，并与所述喷洒药液分散减压腔体相连通；

[0010] 所述温控盒压板的内侧通过分隔条隔成上下设置的第一凹槽及第二凹槽，其中第一凹槽和第二凹槽的一端分别与冷却水的进口及出口相连通，第一凹槽和第二凹槽的另一端彼此相连通；所述隔离板为三角形，容置在喷嘴主架一侧所开设的三角形第三凹槽内；

[0011] 所述药液分配孔板与线型喷嘴型板相对的一侧设有内凹的第五凹槽，该第五凹槽的顶部沿药液分配孔板长度方向均布有多个分配孔，每个分配孔均与所述槽型孔相连通；所述第五凹槽的上边缘为波浪状结构；所述线型喷嘴型板与药液分配孔板相对面的形状大小相同；所述药液盒盖板与线型喷嘴型板相对的一侧设有第六凹槽，所述线型喷嘴型板与药液分配孔板均容置在该第六凹槽内，并与药液盒盖板一起容置在喷嘴主架另一侧所开设的第四凹槽内。

[0012] 本发明的优点与积极效果为：

[0013] 1.本发明喷洒的药液，可以非常均匀地涂布于晶片之上，并且冲击压力小，满足集成电路制造的精细湿法处理工艺制程，适合纳米级显影、刻蚀、清洗等工艺技术。

[0014] 2.本发明喷洒到晶片上的药液各项物理指标的均匀一致，达到精细湿法化学处理晶片的目的。附图说明

[0015] 图1为本发明的立体结构爆炸图之一；

[0016] 图2为本发明的立体结构爆炸图之二；

[0017] 图3为本发明横剖面结构示意图；

[0018] 图4为本发明喷嘴主架的结构主视图；

[0019] 图5为图4的后视图；

[0020] 图6为本发明喷嘴主架、药液分配孔板及线型喷嘴型板连接后的侧视图；

[0021] 图7为图6中的A-A剖视图；

[0022] 图8为图6中的B-B剖视图；

[0023] 其中：1为药液盒盖板，2为线型喷嘴型板，3为药液分配孔板，4为喷嘴主架，5为隔离板，6为温控盒压板，7为排气孔，8为分隔条，9为第一凹槽，10为第二凹槽，11为第三凹槽，12为槽型孔，13为排气通道，14为进液通道，15为第四凹槽，16为分配孔，17为第五凹槽，18为冷却水通道，19为第一通孔，20为第二通孔，A为第一喷洒药液线型分布均控流量腔体，B为第二喷洒药液线型分布均控流量腔体，C为喷洒药液分散减压腔体，D为第一喷洒药液温控腔体，E为第二喷洒药液温控腔体。

具体实施方式

[0024] 下面结合附图对本发明作进一步详述。

[0025] 如图1～8所示，本发明包括通过螺钉依次固接在一起的药液盒盖板1、线型喷嘴型板2、药液分配孔板3、喷嘴主架4、隔离板5及温控盒压板6，其中喷嘴主架4沿长度方向的一侧设有容置隔离板5的第三凹槽11，另一侧设有容置药液盒盖板1、线型喷嘴型板2及药液分配孔板3的第四凹槽15，隔离板5为三角形，容置在喷嘴主架4一侧所开设的三角形第三凹槽11内，隔离板5与喷嘴主架4之间形成喷洒药液分散减压腔体C；所述第三凹槽11与第四凹槽15之间的喷嘴主架4上沿长度方向均布有多个槽型孔12，每个槽型孔12分别连通于其两侧的第三凹槽11和第四凹槽15；在各槽型孔12上方，沿喷嘴主架4的长度方向设有进液通道14，该进液通道14的一端与喷洒药液源相连，另一端向容置隔离板5的一侧弯折，并与所述喷洒药液分散减压腔体C相连通；所述喷嘴主架4上开有排气孔7，该排气孔7通过喷嘴主架4内部开设的排气通道13与所述喷洒药液分散减压腔体C相连通，排气通道13位于进液通道14的上方，喷洒药液中的气体可经排气通道13由排气孔7排出。

[0026] 隔离板5外罩有温控盒压板6，温控盒压板6的内侧通过分隔条8隔成上下设置的第一凹槽9及第二凹槽10，其中第一凹槽9和第二凹槽10的一端分别与冷却水的进口及出口相连通，第一凹槽9和第二凹槽10的另一端彼此相连通；该第一凹槽9和第二凹槽10与喷嘴主架4及隔离板5之间形成了第一喷洒药液温控腔体D及第二喷洒药液温控腔体E，这两个喷洒药液温控腔体为一个盒型结构。

[0027] 药液盒盖板1与线型喷嘴型板2相对的一侧设有第六凹槽，线型喷嘴型板2与药液分配孔板3均容置在该第六凹槽内，并与药液盒盖板1一起容置在喷嘴主架4另一侧所开设的第四凹槽15内；药液分配孔板3与线型喷嘴型板2相对的一侧设有内凹的第五凹槽17，该第五凹槽17的顶部沿药液分配孔板3长度方向均布有多个分配孔16，每个分配孔16均与所述槽型孔12相连通，所述第五凹槽17的上边缘为波浪状结构，药液分配孔板3的结构尺寸，决定了喷洒药液的冲击力和流量的均匀性；线型喷嘴型板2与药液分配孔板3相对面的形状大小相同，药液分配孔板3与喷嘴型板2之间形成第一喷洒药液线型分布均控流量腔体A，而药液分配孔板3上各分配孔16则作为第二喷洒药液线型分布均控流量腔体B，这两个喷洒药液线型分布均控流量腔体为另一个盒型结构，并且相互连通。

[0028] 本发明的工作原理为：

[0029] 本发明为双盒型结构组件，组成了喷洒药液线型分布均控流量腔体、喷洒药液分散减压腔体及喷洒药液温控腔体三个工艺腔体，喷洒药液通过多个弯折的通道、喷洒药液线型分布均控流量腔体和喷洒药液分散减压腔体两个工艺腔体后呈线型喷洒，沿线型方向的喷洒药液流量均匀一致、冲击压力低且均匀一致；外控温度可控冷却水进入控温工艺腔体后，调整了喷嘴体及喷洒药液的温度，使得待喷洒药液的温度均匀一致。具体为：

[0030] 外控温度可控冷却水从喷嘴主架4端头下侧经冷却水通道18、由第一通孔19进入第二喷洒药液温控腔体E，流经第一喷洒药液温控腔体D，通过喷嘴主架4端头上侧的第二通孔20流出，流经的温控水调整了喷嘴体及喷洒药液的温度，使得喷洒药液温度均匀一致；喷洒药液从进液通道14流入，在喷嘴主架4中心上部弯折、喷在三角形的隔离板5的顶角处，经隔离板5的散射作用后，喷洒药液在喷洒药液分散减压腔体C内分散，再经过喷嘴主架4上各槽型孔12的减压，从药液分配孔板3上各分配孔16流出的喷洒药液压力又一次衰减，喷洒药液的压力呈线型均匀分布，使得喷洒药液冲击力低且均匀一致；从药液分配孔板3流出的喷洒药液经第二喷洒药液线型分布均控流量腔体B喷在线型喷嘴型板2上，反溅药液受药液分配孔板3上第五凹槽17上边缘加工的波浪形沟槽制约后，药液流量沿直线方向均匀分布，使得沿第一喷洒药液线型分布均控流量腔体A向下喷洒的药液流量均匀一致；以上三项功能的实现，使得喷洒到晶片上的药液各项物理指标的均匀一致，达到精细湿法化学处理晶片的目的。

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