工作台

阅读:307发布:2020-05-11

专利汇可以提供工作台专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 工作台 ,包括平台、多个 支撑 件及气流导引单元。平台具有相对的承载面与背面以及从承载面贯穿至背面的多个容置孔。支撑件分别设置于容置孔内,而气流导引单元从平台的背面连接至容置孔。此外,每一支撑件包括壳体及滚动件,其中壳体具有容置槽,而滚动件设置于容置槽内,且滚动件局部凸出至容置槽外。本发明的工作台在更换承载面上的板材时,因可通过气流推动支撑件,使支撑件的滚动件局部凸出于承载面以支撑板材,因此,能有效减少推动板材时的 摩擦 力 ,进而使板材容易移动或更换。,下面是工作台专利的具体信息内容。

1.一种工作台,其特征在于,包括:
一平台,具有相对的一承载面与一背面以及从该承载面贯穿至该背面的多个容置孔;
多个支撑件,分别设置于该些容置孔内,每一支撑件包括:
一壳体,具有一容置槽;
一滚动件,设置于该容置槽内,且该滚动件局部凸出至该容置槽外;以及
一气流导引单元,从该平台的该背面连接至该些容置孔。
2.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,每一支撑件还包括一套筒,该壳体设置于该套筒内。
3.根据权利要求2所述的工作台,其特征在于,该套筒的一底部设有一凸缘,每一容置孔包括相连通的一第一容置空间与一第二容置空间,该第一容置空间通至该承载面,该第二容置空间设置于该第一容置空间与该背面之间,该第一容置空间的内径小于该第二容置空间的内径,且该第一容置空间与该第二容置空间的连接处设有一挡壁,为提供该凸缘一限位高度。
4.根据权利要求3所述的工作台,其特征在于,每一支撑件还包括一密封环,环绕设置于该凸缘的外侧。
5.根据权利要求4所述的工作台,其特征在于,该凸缘设有一环形槽,该密封环固定于该环形槽内,且部分该密封环凸出于该环形槽外。
6.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,该些滚动件为万向滚珠或滚柱。
7.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,还包括多个连接垫,分别设置于该些容置孔内,且邻接该背面,该气流导引单元包括多个支管,分别连接至该些连接垫,每一连接垫具有一连接孔。
8.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,还包括一盖板,配置于该平台的该承载面,以遮盖该些容置孔。
9.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,还包括一基座,以承载该平台。
10.根据权利要求9所述的工作台,其特征在于,还包括一导热板,配置于该基座与该平台之间,其中该导热板内设有一液体流道单元。
11.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,该平台内更设有多个支撑销,且该些支撑销适于伸出该平台的该承载面外。
12.根据权利要求1所述的工作台,其特征在于,每一容置孔内设有一限位部,为提供对应的该壳体一限位高度。

说明书全文

技术领域

发明涉及一种工作台,且尤其涉及一种用气流来驱动支撑件的工作台。

背景技术

图1是现有一种曝光设备的工作台的示意图。请参照图1,现有曝光设备的工作台100包括平台110及金属盖板120。平台110具有承载面112,而金属盖板120设置于平台110的承载面112上。
上述的金属盖板120用以承载待曝光的基板,且金属盖板120的厚度约数厘米。金属盖板120上设有保护涂层(图未示),以防止基板因摩擦金属盖板120而受损。此外,金属盖板120的尺寸是配合基板的尺寸。换言之,当基板的尺寸更换时,金属盖板120也需更换。另外,当保护涂层磨损时,也需更换新的金属盖板120,以防止基板磨损。
在更换金属盖板120时,需施(如推力F)于金属盖板120,以将金属盖板120推离平台110的承载面112。然而,由于金属盖板120是整面接触承载面112,所以金属盖板120与承载面112的接触面积较大,导致金属盖板120与承载面112之间的摩擦力较大。而且,因金属盖板120的厚度较薄,导致施力不易。因此,现有曝光设备的工作台100具有金属盖板120不易更换的缺点。此外,由于金属盖板120不易更换,所以在更换金属盖板120时容易造成金属盖板120与平台110彼此刮伤,且金属盖板120也容易因施力不当而变形

发明内容

本发明提供一种工作台,以使工作台上的板材较容易移动。
为达上述优点,本发明提出一种工作台,其包括平台、多个支撑件及气流导引单元。平台具有相对的承载面与背面以及从承载面贯穿至背面的多个容置孔。支撑件分别设置于容置孔内,而气流导引单元从平台的背面连接至容置孔。此外,每一支撑件包括壳体及滚动件,其中壳体具有容置槽,而滚动件设置于容置槽内,且滚动件局部凸出至容置槽外。
在本发明的一实施例中,上述的每一支撑件更包括套筒,而壳体设置于套筒内。
在本发明的一实施例中,上述的套筒的底部设有凸缘,每一容置孔包括相连通的第一容置空间与第二容置空间,第一容置空间通至承载面,而第二容置空间设置于第一容置空间与背面之间。第一容置空间的内径小于第二容置空间的内径,且第一容置空间与第二容置空间的连接处设有挡壁。此挡壁为提供凸缘一限位高度。
在本发明的一实施例中,上述的每一支撑件更包括密封环,环绕设置于凸缘的外侧。
在本发明的一实施例中,上述的凸缘设有环形槽,而密封环固定于环形槽内,且部分密封环凸出于环形槽外。
在本发明的一实施例中,上述的滚动件为万向滚珠或滚柱。
在本发明的一实施例中,上述的工作台更包括多个连接垫,分别设置于容置孔内,且邻接背面。气流导引单元包括多个支管,分别连接至连接垫。而且,每一连接垫具有一连接孔。
在本发明之一实施例中,上述之工作台更包括盖板,配置于平台之承载面,以遮盖容置孔。
在本发明的一实施例中,上述的工作台更包括基座,以承载平台。
在本发明的一实施例中,上述的工作台更包括导热板,配置于基座与平台之间,其中导热板内设有液体流道单元。
在本发明的一实施例中,上述的平台内更设有多个支撑销,且支撑销适于伸出平台的承载面外。
在本发明的一实施例中,上述的每一容置孔内设有限位部,提供对应的壳体一限位高度。
本发明的工作台在更换承载面上的板材时,因可通过气流推动支撑件,使支撑件的滚动件局部凸出于承载面以支撑板材,因此,能有效减少推动板材时的摩擦力,进而使板材容易移动或更换。
以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1是现有一种曝光设备的工作台的示意图;
图2是本发明一实施例的一种工作台的示意图;
图3是图2的支撑件及连接垫的立体分解图;
图4A是图2的工作台用于承载板材时的示意图;
图4B是施力推动图2的工作台上的板材的示意图;
图5是本发明另一实施例的滚动件的示意图;
图6是本发明另一实施例的工作台的示意图;
图7是本发明另一实施例的工作台的示意图;
图8是图7的支撑件的立体分解图;
图9是本发明另一实施例的工作台的示意图;
图10是本发明另一实施例的工作台的示意图。
其中,附图标记:
100:工作台
110:平台
112:承载面
120:金属盖板
200、200a、200b、200c:工作台
210、210b、210c:平台
211:支撑销
212:承载面
213、216、216c:容置孔
214:背面
217:第一容置空间
218:第二容置空间
219:挡壁
220、220’、220”、220c:支撑件
221:环形槽
222:壳体
223:容置槽
224、224’:滚动件
225:顶面
226:套筒
227、227”:凸缘
228:密封环
230:气流导引单元
232:支管
240:连接垫
242:连接孔
250:盖板
260:基座
270:导热板
300:板材
A:气流
D1、D2:内径
F:推力
P:限位处

具体实施方式

图2是本发明一实施例的一种工作台的示意图,而图3是图2的支撑件及连接垫的立体分解图。请参照图2与图3,本实施例的工作台200包括平台210、多个支撑件220及气流导引单元230。平台210具有相对的承载面212与背面214以及从承载面212贯穿至背面214的多个容置孔216。支撑件220分别设置于容置孔216内,而气流导引单元230从平台210的背面214连接至容置孔216。此气流导引单元230可连接至气体供应装置(图未式)。此外,每一支撑件220包括壳体222及滚动件224,其中壳体222具有容置槽223,而滚动件224设置于容置槽223内,且滚动件224局部凸出至容置槽223外。
上述的每一支撑件220例如还包括套筒226,而壳体223设置于套筒226内,且套筒226的底部例如设有凸缘227。每一支撑件220的滚动件224例如为万向滚珠。此外,每一容置孔216例如包括相连通的第一容置空间217与第二容置空间218。第一容置空间217通至承载面212,而第二容置空间218设置于第一容置空间217与背面214之间。第一容置空间217的内径D1例如是小于第二容置空间218的内径D2,且第一容置空间217与第二容置空间218的连接处设有挡壁219。此挡壁219提供凸缘227一限位高度。另外,本实施例的工作台200可更包括多个连接垫240,分别设置于容置孔216内,且邻接平台210的背面214。气流导引单元230包括多个支管232,而这些支管232分别连接至连接垫240。具体而言,每一连接垫240具有一连接孔242,而支管232分别连接至这些连接孔242。连接垫240除了供支管232连接外,还可将容置孔216的第二容置空间218的底部密封。
图4A是图2的工作台用于承载板材时的示意图,而图4B是施力推动图2的工作台上的板材的示意图。请先参照图4A,在未通入气流至气流导引单元230时,支撑件220因重力的关系而处于容置孔216的底部,且滚动件224并未凸出于平台210的承载面212。此时,板材300可放置于平台210的承载面212,以进行作业。
请参照图4B,当欲移动板材300或将板材300搬离平台210时,可通过气体供应装置提供气流A至气流导引单元230中。气流A可经由气流导引单元230的支管232通入容置孔216内,以推动支撑件220,使滚动件224局部凸出于平台210的承载面212。如此,可通过支撑件220来支撑板材300,以使板材300与平台210的承载面212分离。此外,由于第一容置空间217与第二容置空间218的连接处设有挡壁219,所以当套筒226的凸缘227被气流A推动至挡壁219时,挡壁219会抵住凸缘227。因此,挡壁219能提供凸缘227一限位高度,以防止支撑件220被气流A推出容置槽216外。
承上述,有别于现有技术的面接触方式,本实施例在移动板材300时,是通过支撑件220的滚动件224来支撑板材300,所以能大幅减少板材300与工作台200的接触面积,以降低移动板材300时的摩擦力。而且,在移动板材300时,由于滚动件224可滚动,所以可大幅降低板材300与滚动件224之间的摩擦力,使板材300更易于被移动。因此,本实施例的工作台200具有易于移动板材300及更换板材300的优点。
此外,由于本实施例的滚动件224为万向滚珠,所以可从不同的方向施力推动板材300。在图5所示的另一实施例中,支撑件220’的滚动件224’也可为滚柱。滚柱也具有使板材易于被推动的优点,但由于滚柱的滚动方向固定,所以可用来限制板材的移动方向。本发明的滚动件可视需求而选用滚柱或万向滚珠,但本发明的滚动件不以此两者为限。
另外,如图6与图7所示,为了防止漏气,每一支撑件220”可更包括密封环228,其环绕设置于套筒226”的凸缘227”的外侧。更详细地说,凸缘227”设有环形槽221,而密封环228固定于环形槽221内,且部分密封环228凸出于环形槽221外,并抵靠于第二容置空间218的侧壁。如此,可提供密封的效果,以进一步防止漏气。
图8是本发明另一实施例的工作台的示意图。请参照图8,本实施例的工作台200a与上述的工作台200相似,差别处在于工作台200a更包括盖板250,配置于平台210的承载面212,以遮盖容置孔216。当工作台200a应用于曝光设备时,待曝光的基板是设置于盖板250上。本实施例因通过盖板250遮盖容置孔216,所以可防止曝光工艺受到容置孔216的影响而产生缺陷
上述的盖板250例如是金属板,但不以此为限。盖板250的尺寸例如配合待曝光的基板的尺寸。当需更换不同尺寸的盖板250板时,可通过气流导引单元230导引气流来推动支撑件220,以通过支撑件220来支撑盖板250,使盖板250易于更换。如此,能防止盖板250与平台210彼此刮伤,并避免盖板250因施力不当而变形。
本实施例的工作台200a例如更包括用以承载平台210的基座260。此外,工作台200a可更包括导热板270,配置于基座260与平台210之间。当此工作台200a用于曝光工艺时,导热板270可与盖板250的进行热交换,以避免盖板250及设置于盖板250上的基板过热。另外,导热板270内可设有液体流道单元(图未示),以供通入冷却液,进而提升导热板270的散热效率。
图9是本发明另一实施例的工作台的示意图。请参照图9,本实施例的工作台200b与上述的工作台200相似,差别处在于工作台200b的平台210b内更设有多个支撑销211。这些支撑销211适于伸出平台210b的承载面212外。更详细地说,当要将板材置于平台210b的承载面212时,可使容置于容置孔213内的支撑销211伸出平台210b的承载面212外,以承接板材。接着,将支撑销211收回平台210b的容置孔213内,以使板材被放置于平台210b的承载面212上。
图10是本发明另一实施例的工作台的示意图。请参照图10,本实施例的工作台200c与上述的工作台200的结构与优点相似,以下仅针对其结构的主要差异处进行说明。本实施例的工作台200c的平台210c的每一容置孔216c内设有限位部215,而支撑件220c例如包括壳体222及滚动件224。限位部215例如是从容置孔216c的孔壁向内延伸而出的销体,以提供支撑件220c的壳体222的限位高度。也即,当通入气流A至气流导引单元230以推动支撑件220c时,支撑件220c的壳体222的顶面225会被限位部215抵住,以防止支撑件220c被推出容置孔216c外。
综上所述,在本发明的工作台中,由于气流导引单元从平台的背面连接至容置孔,所以当要移动位于承载面的板材时,气流可经由气流导引单元通入容置孔内,以推动支撑件,使滚动件局部凸出于承载面,进而支撑板材。如此,在移动板材时,由于板材与滚动件之间的摩擦力较小,所以较容易移动板材或更换板材。
当然,本发明还可有其它多种实施例,在不背离本发明精神及其实质的情况下,熟悉本领域的技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形,但这些相应的改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
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