基板及其制造方法和电子面板
阅读：721发布：2023-12-22
专利汇可以提供基板及其制造方法和电子面板专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 提供一种 基板 的制造方法所述制造方法包括：提供初始基板；形成包括第一辅助 电极 层的图形；在形成有所述第一辅助电极层的初始基板上形成包括开口限定层的图形，所述开口限定层包括绝缘基体层和第二辅助电极层，所述开口限定层限定多个开口，所述第二辅助电极层与所述第一辅助电极层绝缘间隔；向所述第一辅助电极层提供第一参考 电压 ，向所述第二辅助电极层提供第二参考电压，以使得所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层之间形成 电场 ；形成至少一层功能层。本发明还提供一种基板和一种 电子 面板。所述制造方法可以精确控制各功能层的厚度及形状。，下面是基板及其制造方法和电子面板专利的具体信息内容。
1.一种基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：
提供初始基板；
形成包括第一辅助电极层的图形；
在形成有所述第一辅助电极层的初始基板上形成包括开口限定层的图形，所述开口限定层包括绝缘基体层和第二辅助电极层，所述开口限定层限定多个开口，所述第二辅助电极层与所述第一辅助电极层绝缘间隔；
形成至少一层功能层，形成每层所述功能层的步骤都包括：
向所述初始基板上喷涂油墨，同时，向所述第一辅助电极层提供第一参考电压，向所述第二辅助电极层提供第二参考电压，以使得所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层之间形成电场；
对喷涂油墨后的初始基板进行固化处理，以使所述油墨固化在开口中形成功能部，同一层的功能部共同形成所述功能层。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述初始基板上形成包括开口限定层的图形的步骤包括：
形成包括所述绝缘基体层的图形，所述绝缘基体层包括所述开口；
形成包括所述第二辅助电极层的图形，所述第二辅助电极层包括所述开口。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述初始基板上形成包括开口限定层的图形的步骤包括：
形成包括第一绝缘基体层的图形，所述第一绝缘基体层包括所述开口；
形成包括所述第二辅助电极层的图形，所述第二辅助电极层包括所述开口；
形成包括第二绝缘基体层的图形，所述第二绝缘基体层包括所述开口，其中，所述绝缘基体层包括所述第一绝缘基体层和所述第二绝缘基体层。
4.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述初始基板上形成包括开口限定层的图形的步骤包括：
形成包括所述第二辅助电极层的图形的步骤，所述第二辅助电极层包括所述开口；
形成包括所述绝缘基体层的图形的步骤，所述绝缘基体层包括所述开口。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的制造方法，其特征在于，所述第一辅助电极层包括多个第一辅助电极，所述第一辅助电极至少位于所述开口处。
6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述开口限定层限定的开口为像素单元开口，所述基板包括多个有机发光二极管，所述有机发光二极管的阳极形成为所述第一辅助电极，所述基板包括多层所述功能层，多层所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层、发光材料层；所述第二参考电压与所述第一参考电压之间的压差在20V至30V之间；所述开口限定层的开口的侧面与垂直于初始基板的面之间的夹角在45°至75°之间；或者多个所述第一辅助电极形成一体，以使得所述第一辅助电极层形成为整面电极，所述功能层包括多个微凸透镜；所述微凸透镜的曲率为10deg至20deg；所述第二参考电压与所述第一参考电压之间的压差在60V至80V之间。
7.一种基板，其特征在于，所述基板包括初始基板、第一辅助电极层、开口限定层和至少一层功能层，所述开口限定层限定多个开口，每层所述功能层都包括由喷墨打印并固化而形成多个功能部，每个所述开口中均形成有所述功能部，所述开口限定层包括绝缘基体层和第二辅助电极层，所述第二辅助电极层与所述第一辅助电极层绝缘间隔。
8.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，所述绝缘基体层满足以下情况中的任意一者：
所述第二辅助电极层覆盖所述绝缘基体层，所述第二辅助电极层包括所述开口，所述绝缘基体层包括所述开口；
所述绝缘基体层包括第一绝缘基体层和第二绝缘基体层，所述第一绝缘基体层形成在所述初始基板上，所述第二辅助电极层位于所述第一绝缘基体层和所述第二绝缘基体层之间，所述第一绝缘基体层包括所述开口，所述第二绝缘基体层包括所述开口，所述第二辅助电极层包括所述开口；
所述第二辅助电极层形成在所述初始基板上，所述绝缘基体层包覆所述第二辅助电极层，所述第二辅助电极层包括所述开口，所述绝缘基体层包括所述开口。
9.根据权利要求7或8所述的基板，其特征在于，所述开口限定层限定的开口为像素单元开口，所述第一辅助电极层包括多个阳极，所述基板包括多层功能层，多层所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层、发光材料层，所述开口限定层的侧面与垂直于初始基板的面之间的夹角在45°至75°之间；或者
所述功能层包括多个微凸透镜，所述微凸透镜的曲率为10deg至20deg。
10.一种电子面板，所述电子面板包括基板，其特征在于，所述基板为权利要求7至9中任意一项所述的基板。
基板及其制造方法和电子面板
技术领域
[0001] 本发明涉及显示设备领域，具体地，涉及一种基板、该基板的制造方法和包括所述基板的电子面板。
背景技术
[0003] 但是，当将油墨滴入较小开口(例如，像素界定层限定的像素开口中)时，油墨的非润湿行为(non-wetting behavior)、润湿(over wetting)行为等流体特性，会导致油墨干燥后产生膜厚不均匀等现象，从而降低产品质量。例如，在对厚度均匀性要求较高的产品中，喷墨打印形成的膜层容易出现中间薄、边缘厚的现象。
[0004] 因此，如何对喷墨打印形成的元件的厚度进行精确控制以提高产品质量成为本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
[0005] 本发明的目的在于提供一种基板的制造方法、利用该制造方法制造的基板和一种包括该基板的电子设备面板，利用所述制造方法制得的基板中，喷墨打印形成的元件膜厚均匀。
[0006] 为了实现上述目的，作为本发明的一个方面，提供一种基板的制造方法，其中，所述制造方法包括：
[0007] 提供初始基板；
[0009] 在形成有所述第一辅助电极层的初始基板上形成包括开口限定层的图形，所述开口限定层包括绝缘基体层和第二辅助电极层，所述开口限定层限定多个开口，所述第二辅助电极层与所述第一辅助电极层绝缘间隔；
[0010] 形成至少一层功能层，形成每层所述功能层的步骤都包括：
[0012] 对喷涂油墨后的初始基板进行固化处理，以使所述油墨固化在开口中形成功能部，同一层的功能部共同形成所述功能层。
[0013] 优选地，在所述初始基板上形成包括开口限定层的图形的步骤包括：
[0014] 形成包括所述绝缘基体层的图形，所述绝缘基体层包括所述开口；
[0015] 形成包括所述第二辅助电极层的图形，所述第二辅助电极层包括所述开口。
[0016] 优选地，在所述初始基板上形成包括开口限定层的图形的步骤包括：
[0017] 形成包括第一绝缘基体层的图形，所述第一绝缘基体层包括所述开口；
[0018] 形成包括所述第二辅助电极层的图形，所述第二辅助电极层包括所述开口；
[0019] 形成包括第二绝缘基体层的图形，所述第二绝缘基体层包括所述开口，其中，所述绝缘基体层包括所述第一绝缘基体层和所述第二绝缘基体层。
[0020] 优选地，在所述初始基板上形成包括开口限定层的图形的步骤包括：
[0021] 形成包括所述第二辅助电极层的图形的步骤，所述第二辅助电极层包括所述开口；
[0022] 形成包括所述绝缘基体层的图形的步骤，所述绝缘基体层包括所述开口。
[0023] 优选地，所述第一辅助电极层包括多个第一辅助电极，所述第一辅助电极至少位于所述开口处。
[0024] 优选地，所述开口限定层限定的开口为像素单元开口，所述基板包括多个有机发光二极管，所述有机发光二极管的阳极形成为所述第一辅助电极，所述基板包括多层所述功能层，多层所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层、发光材料层；所述第二参考电压与所述第一参考电压之间的压差在20V至30V之间；所述开口限定层的开口的侧面与垂直于初始基板的面之间的夹角在45°至75°之间；或者
[0025] 多个所述第一辅助电极形成一体，以使得所述第一辅助电极层形成为整面电极，所述功能层包括多个微凸透镜，所述微凸透镜的曲率为10deg至20deg；所述第二参考电压与所述第一参考电压之间的压差在60V至80V之间。
[0026] 作为本发明的第二个方面，提供一种基板，其中，所述基板包括初始基板、第一辅助电极层、开口限定层和至少一层功能层，所述开口限定层限定多个开口，每层所述功能层都包括由喷墨打印并固化而形成多个功能部，每个所述开口中均形成有所述功能部，所述开口限定层包括绝缘基体层和第二辅助电极层，所述第二辅助电极层与所述第一辅助电极层绝缘间隔。
[0027] 优选地，所述绝缘基体层满足以下情况中的任意一者：
[0028] 所述第二辅助电极层覆盖所述绝缘基体层，所述第二辅助电极层包括所述开口，所述绝缘基体层包括所述开口；
[0029] 所述绝缘基体层包括第一绝缘基体层和第二绝缘基体层，所述第一绝缘基体层形成在所述初始基板上，所述第二辅助电极层位于所述第一绝缘基体层和所述第二绝缘基体层之间，所述第一绝缘基体层包括所述开口，所述第二绝缘基体层包括所述开口，所述第二辅助电极层包括所述开口；
[0030] 所述第二辅助电极层形成在所述初始基板上，所述绝缘基体层包覆所述第二辅助电极层，所述第二辅助电极层包括所述开口，所述绝缘基体层包括所述开口。
[0031] 优选地，所述开口限定层限定的开口为像素单元开口，所述第一辅助电极层包括多个阳极，所述基板包括多层功能层，多层所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层、发光材料层，所述开口限定层的侧面与垂直于初始基板的面之间的夹角在45°至75°之间；或者[0032] 所述功能层包括多个微凸透镜，所述微凸透镜的曲率为10deg至20deg。
[0033] 作为本发明的第三个方面，提供一种电子面板，所述电子面板包括基板，其中，所述基板为本发明所提供的上述基板。
[0034] 由于第一辅助电极层和第二辅助电极层之间形成了电场，因此，开口中的油墨的电润湿特性发生变化。也就是说，在本发明所提供的制造方法中，通过控制电场强度可以控制开口中油墨与开口限定层的侧壁之间的接触角，以及油墨的表面张力，还可以使墨水在干燥的过程中溶质均匀分散，从而可以精确地控制最终获得的产品的形态。附图说明
[0036] 图1是本发明所提供的基板的制造方法的流程图；
[0037] 图2是液滴在油中时，与疏水材料层接触时的示意图；
[0038] 图3是图2中的液体在电场中与疏水材料层接触时的示意图；
[0039] 图4是液滴在空气中时，与疏水材料层接触时的示意图；
[0040] 图5是图4中的液滴在电场中与疏水材料层接触时的示意图；
[0041] 图6是喷墨打印形成有机发光二极管时，油墨与像素界定层的接触角的示意图；
[0042] 图7所示的是本发明所提供的基板制造方法的原理图；
[0043] 图8是本发明所提供的基板为显示基板时的第一种实施方式的示意图；
[0044] 图9是本发明所提供的基板为显示基板时的第二种实施方式的示意图；
[0045] 图10是本发明所提供的基板为显示基板时的第三种实施方式的示意图；
[0046] 图11是本发明所提供的基板为微凸透镜阵列时的示意图。
[0047] 附图标记说明
[0048] 1：疏水介质层 2：电极层
[0049] 100：第一辅助电极层 200：开口限定层
[0050] 210：绝缘基体层 220：第二辅助电极层
[0051] 211：第一绝缘基体层 212：第二绝缘基体层
[0052] 300：初始基板 410：空穴传输层
[0053] 420：发光材料层 430：电子传输层
具体实施方式
[0055] 以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
[0056] 经本申请的发明人观察发现，喷墨打印的产品出现厚度不可控的原因在于，为了限定喷墨打印获得的元件的形状，通常需要先制造开口限定层。当油墨位于开口限定层所限定的开口中时，边缘的油墨与开口限定层的侧壁接触。由于材料的润湿特性以及表面张力，油墨的边缘处于开口限定层的侧壁之间形成接触角，这就使得油墨厚度不均匀，并且在后续的烘干工艺中，也难以达到均匀。如图6中所示，在喷墨打印形成有机发光二极管显示面板的有机发光二极管时，油墨材料粘附在像素界定层P的侧壁上，这就导致了固定成型后，薄膜的中间部分厚度小于边缘部分的厚度。
[0057] 有鉴于此，作为本发明的一个方面，提供一种基板的制造方法，其中，如图1所示，所述制造方法包括：
[0058] 在步骤S110中，提供初始基板；
[0059] 在步骤S120中，形成包括第一辅助电极层的图形；
[0060] 在步骤S130中，在形成有所述第一辅助电极层的初始基板上形成包括开口限定层的图形，所述开口限定层包括绝缘基体层和第二辅助电极层，所述开口限定层限定多个开口，所述第二辅助电极层与所述第一辅助电极层绝缘间隔；
[0061] 在步骤S140中，形成至少一层功能层，形成每层所述功能层的步骤包括：
[0062] 在步骤S141中，向所述初始基板上喷涂油墨，同时，向所述第一辅助电极层提供第一参考电压，向所述第二辅助电极层提供第二参考电压，以使得所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层之间形成电场；
[0063] 在步骤S142中，对喷涂油墨后的初始基板进行固化处理，以使所述油墨固化在开口中形成功能部，同一层的功能部共同形成所述功能层。
[0064] 本发明的发明人想要指出的是，液体的浸润性、表面张力与周围环境有关。
[0065] 如图2中所示的是液滴位于疏水介质层1上、且周围环境为油时的形态，通过图2可以看出，液滴A为球形，液滴A与疏水介质层1的接触角为θγ。如图3中所示的是液滴位于疏水介质层1上、且周围环境为油、且利用电极层2向液滴A施加电压时的形态，通过图3可以看出，液滴A在疏水介质层1上铺展开，且液滴A与疏水介质层1的接触角减小为θV。
[0066] 如图4中所示的是液滴位于疏水介质层1上、且周围环境为空气时的形态，通过图4可以看出，液滴A的下半部分铺展在疏水介质层1上，液滴A与疏水介质层1的接触角为θγ。如图5中所示的是液滴位于疏水介质层1上、且周围环境为油、且利用电极层2向液滴A施加电压时的形态，通过图5可以看出，液滴A在疏水介质层1上铺展开，且液滴A与疏水介质层1的接触角减小为θV。
[0067] 在本发明所提供的制造方法中，利用了电场对液滴的浸润特性以及表面张力的影响，在进行喷墨打印时(即，步骤S140至步骤S150)，利用第一辅助电极层和第二辅助电极层提供改变油墨表面张力以及浸润特性的电场。
[0068] 在步骤S150中，向初始基板上喷涂了油墨后，油墨落入开口限定层限定的开口中。由于第一辅助电极层和第二辅助电极层之间形成了电场，因此，开口中的油墨的电润湿特性发生变化。也就是说，在本发明所提供的制造方法中，通过控制电场强度可以控制开口中油墨与开口限定层的侧壁之间的接触角，以及油墨的表面张力，还可以使墨水在干燥的过程中溶质均匀分散，从而可以精确地控制最终获得的产品的形态。
[0069] 例如，如图7中所示，向第一辅助电极层100和第二辅助电极层220提供电压获得第一电场时，可以使得开口限定层200的开口中的油墨获得外凸的表面；向第一辅助电极层100和第二辅助电极层220提供电压获得第二电场时，可以使得开口限定层200的开口中的油墨获得内凹的表面。不同的材料施加不同的电场，成膜后可以获得不同的形状。
[0070] 在本发明中，对第二辅助电极层220与绝缘基体层210之间的位置关系并没有特殊的限制，只要可以确保由第二辅助电极220和绝缘基体层210所共同形成的结构能够限定出多个开口即可。
[0071] 除此之外，在本发明中，对第二辅助电极层220的具体材料以及绝缘基体层的具体材料都不做特殊的限定。例如，可以利用丙烯酸塑料(即，常说的亚克力材料)制成绝缘基体层，并利用透明电极材料ITO制成第二辅助电极层。
[0072] 作为本发明的一种优选实施方式，可以将绝缘基体层与辅助电极层层叠设置。具体地，如图8所示，第二辅助电极层220层叠设置在绝缘基体层210上。具体地，步骤S130可以包括：
[0073] 在步骤S131a中，形成包括所述绝缘基体层的图形，，所述绝缘基体层包括所述开口；
[0074] 在步骤S132a中，形成包括所述第二辅助电极层的图形，所述第二辅助电极层包括所述开口。
[0075] 如上文中所述，可以利用聚丙烯酸塑料制成绝缘基体层，因此，步骤S131a可以包括：
[0076] 在初始基板上涂覆绝缘基体材料层；
[0077] 对绝缘基体材料层进行光刻，以获得所述绝缘基体层；
[0078] 沉积透明电极材料层；
[0079] 对透明电极材料层进行图形化，获得所述第二辅助电极层。
[0080] 在这种实施方式中，绝缘基体层的厚度可以为1.5μm。
[0081] 在图9中所示的具体实施方式中，第二辅助电极层220嵌入在绝缘基体层210中，即，绝缘基体层210包括第一绝缘基体层211和第二绝缘基体层212，第二辅助电极层220位于第一绝缘基体层211和第二绝缘基体层212之间。具体地，步骤S130可以包括：
[0082] 在步骤S131b中，形成包括第一绝缘基体层的图形，所述第一绝缘基体层包括所述开口；
[0083] 在步骤S132b中，形成包括所述第二辅助电极层的图形，所述第二辅助电极层包括所述开口；
[0084] 在步骤S133b中，形成包括第二绝缘基体层的图形，所述第二绝缘基体层包括所述开口，其中，所述绝缘基体层包括所述第一绝缘基体层和所述第二绝缘基体层。
[0085] 进一步地，步骤S131b包括：
[0086] 形成包括第一绝缘基体材料层；
[0087] 对所述第一绝缘基体材料层进行图形化，以获得第一绝缘基体层，所述第一绝缘基体层包括所述开口。
[0088] 进一步地，步骤S132b包括：
[0089] 形成辅助电极材料层；
[0090] 对所述辅助电极材料层进行图形化，以获得所述第二辅助电极层，所述第二辅助电极层包括所述开口。
[0091] 进一步地，步骤S133b包括：
[0092] 形成第二绝缘基体材料层；
[0093] 对所述第二绝缘基体材料层进行图形化，以获得第二绝缘基体层，所述第二绝缘基体层包括所述开口。
[0094] 图10中所示的是第开口限定层200的第三种具体实施方式，在这种实施方式中，绝缘基体层210包覆第二辅助电极层220。具体地，步骤S130可以包括：
[0095] 在步骤S131c中，形成包括所述第二辅助电极层的图形的步骤，所述第二辅助电极层包括所述开口；
[0096] 在步骤S132c中，形成包括所述绝缘基体层的图形的步骤，所述绝缘基体层包括所述开口。
[0097] 在本发明中，对所述第一辅助电极层的具体结构没有特殊的要求。所述第一辅助电极层包括多个第一辅助电极，所述第一辅助电极至少位于所述开口处。
[0098] 在本发明中，可以根据基板的具体用途确定开口限定层的具体图形。例如，所述基板可以是有机发光二极管显示面板的显示基板，即，所述基板包括多个有机发光二极管，相应地，所述开口限定层则为像素界定层，即，所述开口限定层限定的开口为像素单元开口。所述有机发光二极管的阳极形成为所述第一辅助电极。在这种实施方式中，第二辅助电极层为网状，可以通过在基板的周边区域设置供电盘，利用该供电盘为第二辅助电极层供电。
利用本发明所提供的制造方法可以防止产生咖啡环、云纹(Mura)、Hajiki等缺陷。
利用本发明所提供的制造方法可以防止产生咖啡环、云纹(Mura)、Hajiki等缺陷。
[0099] 为了简化工艺步骤，可以将有机发光二极管的阳极层用作所述第一辅助电极层，初始基板300可以包括栅线和数据线。容易理解的是，在这种实施方式中，所述第一辅助电极层包括多个阳极，可以利用栅线和数据线向第一辅助电极层供电。
[0100] 如图8至图10中所示，所述基板包括多层所述功能层，多层所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层410、发光材料层420。当然，所述基板还包括电子传输层430，相应地，打印形成空穴注入层的材料包括PEDOT：PSS，形成空穴传输层的油墨包括TFB，打印形成发光材料层的油墨包括量子点溶液。在本发明中，形成电子传输层的材料包括ZnO或者ET041，可以通过旋涂或者蒸镀的方式形成电子传输层。
[0101] 为了确保各个功能层的厚度均匀一致，优选地，所述第二参考电压与所述第一参考电压之间的压差在20V至30V之间。
[0102] 所述开口限定层限定的开口的侧面与垂直于初始基板的面之间的夹角在45°至75°之间。
[0103] 在步骤S140中，可以通过阵列基板的测试盘(Arry test pad)向所述初始基板供电，具体地，驱动晶体管的栅极提供0V电压，将数据线接地，并向第二辅助电极提供20V至30V的直流电压。
[0104] 为了便于控制像素开口中的油墨的形态，优选地，所述开口限定层的侧面与垂直于初始基板的面之间的夹角在45°至75°之间。在图8至图10中所示的实施方式中，垂直于初始基板的面为竖直面，开口限定层的侧面与竖直面之间的角度α在45°至75°之间，从而可以确保油墨位于像素开口中而不会外溢。
[0105] 在制备有机发光二极管显示面板时，第二参考电压和第一参考电压之间的压差可以是35V。
[0106] 在本发明中，对油墨的具体组分并不做特殊的限制。
[0107] 例如，所述发光材料层油墨可以包括以下质量百分比的以下组份：
[0108] 可溶性溶质或者量子点材料：0.1wt％-10wt％；
[0109] 表面活性剂：0-5wt％；
[0110] 黏度调整添加剂：0-1wt％；
[0111] 除泡剂：0-1wt％；
[0112] 黏结剂：0-1wt％，其中，除泡剂和粘结剂质量之和也在0-1wt％范围内；
[0114] 在本发明中，对有机溶剂的具体成分并不做特殊的限定，例如，有机溶剂可以选自以下材料中的任意一者或者任意几者：
[0115] DMSO、乙二醇(ethylene glycol)、甲酰胺(formamide)、丁内酯(butyrolactone)、N-甲基甲酰胺(N-methyl formamide)、碳酸丙烯酯(propylene carbonate)、丙二醇(propylene glycol)、2-吡咯酮(2-pyrrodidone)、乙腈(Acetonitrile)、甲醇(Methenol)、乙醇(Ethanol)、丙酮(Acetone)、氮杂环己烷(Piperidine)、1-戊醇(1-pentanol)、1-己醇(1-hexanol)、二氯甲烷(Dichloromethane)、二溴甲烷(Dibromomethane)、THF、间二氯苯(m-Dichlorobenzene)、氯仿(chloroform)。
[0116] 在所述基板为有机发光二极管显示基板的具体实施方式中，所述初始基板可以是薄膜晶体管阵列基板，所述初始基板上设置有薄膜晶体管阵列。相应地，提供初始基板的步骤可以包括：
[0117] 提供衬底基板；
[0118] 对衬底基板进行清洗；
[0119] 在衬底基板上沉积栅极金属层；
[0120] 对栅极金属层进行图形化，以获得包括栅极和栅线的图形；
[0121] 形成栅极绝缘层；
[0122] 形成有源材料层；
[0123] 对有源材料层进行图形化，以获得包括有源层的图形；
[0124] 形成源漏金属层；
[0125] 对源漏金属层进行图形化，以获得包括源极和漏极的图形，以获得多个薄膜晶体管，多个所述薄膜晶体管包括驱动晶体管；
[0127] 形成贯穿钝化层的过孔，所述过孔的位置与驱动晶体管漏极对应；
[0128] 形成阳极材料层，所述阳极材料层的材料填充在所述过孔中；
[0129] 对所述阳极材料层进行图形化，以获得包括阳极的图形。
[0130] 为了确保第一辅助电极层与第二辅助电极层之间绝缘间隔，第一辅助电极层和第二辅助电极层之间的间隔优选大于1μm。
[0131] 由于所述基板为有机发光二极管显示基板，因此，所述制造方法还包括：
[0132] 形成阴极材料层；
[0133] 封装。
[0135] 在图8至图10中，阴极440并非整面电极，但是，本领域技术人员应当理解的是，阴极440可以形成为整面电极。
[0136] 如上文中所述，通过控制油墨的材料以及第二参考电压和第一参考电压之间的压差可以控制开口中油墨的表面张力，因此，可以利用本发明所提供的方法制造的基板可以为微凸透镜阵列。
[0137] 作为一种具体实施方式，所述功能层可以为微凸透镜层，即，如图11所示，所述功能层包括多个微凸透镜500，打印形成所述微凸透镜层的油墨包括NOA89，所述微凸透镜的曲率为10deg至20deg。多个第一辅助电极形成为一体，以使得所述第一辅助电极层形成为整面电极。
[0138] 所述第二参考电压与所述第一参考电压之间的压差在60V至80V之间。
[0139] 作为一种实施方式，当微凸透镜的曲率为16deg时，第二参考电压与第一参考电压之间的压差可以为75V。具体地，可以将第一辅助电极层100接地，向第二辅助电极层220提供75V的直流电压。
[0140] 如图11中所示的是一种微凸透镜阵列，如图所示，开口限定层200包括由喷墨打印形成的微凸透镜50。
[0141] 作为本发明的第二个方面，提供利用本发明所提供的上述制造方法所制造的一种基板，其中，所述基板包括初始基板、第一辅助电极层、开口限定层和至少一层功能层，所述开口限定层限定多个开口，每层所述功能层都包括由喷墨打印并固化而形成多个功能部，每个所述开口中均形成有所述功能部，所述开口限定层包括绝缘基体层和第二辅助电极层，所述第二辅助电极层与所述第一辅助电极层绝缘间隔。
[0142] 所述基板为本发明所提供的上述制造方法制得，因此，所述开口部的形状符合预期，从而使得所述基板具有较高的良率。
[0143] 在本发明中，对绝缘基体层210具体结构并不做特殊的限定。在图8中所示的具体实施方式中，第二辅助电极层220覆盖绝缘基体层210，绝缘基体层210和第二辅助电极层220均包括所述开口。
[0144] 在图9中所示的具体实施方式中，绝缘基体层210包括第一绝缘基体层211和第二绝缘基体层212，第一绝缘基体层211形成在初始基板300上，第二辅助电极层220位于第一绝缘基体层211和第二绝缘基体层212之间，第一绝缘基体层211、第二绝缘基体层212和第二辅助电极层220均包括所述开口。
[0145] 在图10中所示的具体实施方式中，第二辅助电极层220形成在初始基板300上，绝缘基体层210包覆第二辅助电极层220，绝缘基体层210和第二辅助电极层220均包括所述开口。
[0146] 作为本发明的一种具体实施方式，所述基板为有机发光二极管显示基板。相应地，开口限定层限定200为像素界定层，即，开口限定层200所限定的开口为像素单元开口。
[0147] 作为一种优选实施方式，所述有机发光二极管显示面板的阳极层形成为第一辅助电极层100，即，第一辅助电极层100包括多个阳极。相应地，多层所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层410、发光材料层420。并且，所述基板还包括电子传输层430。
[0148] 相应地，打印形成空穴注入层的材料包括PEDOT：PSS，打印形成空穴传输层的油墨包括TFB，打印形成发光材料层的油墨包括量子点溶液，形成电子传输层的材料包括ZnO，所述开口限定层的侧面与垂直于初始基板的面之间的夹角在45°至75°之间。
[0149] 作为本发明的另一种具体和实施方式，所述功能层为包括多个微凸透镜的微凸透镜层。打印形成所述功能层的油墨包括NOA89，所述微凸透镜的曲率为10deg至20deg。
[0150] 作为本发明的第三个方面，提供一种电子面板，所述电子面板包括基板，其中，所述基板为本发明所提供的上述基板。
[0151] 当所述基板为有机发光二极管显示基板时，所述电子面板为显示面板。由于所述显示面板的有机发光二极管中，利用喷墨打印形成的各个膜层厚度均匀，因此，所述显示面板具有良好的显示效果。
[0152] 实施例
[0153] 实施例1
[0154] 本实施例1提供一种制造图9中所示的基板的制造方法，该制造方法包括：
[0155] 在步骤S110中，提供初始基板，包括：
[0156] 在步骤S111中，对透明衬底进行清洗；
[0157] 在步骤S112中，沉积厚度为200nm的钼金属层，以形成栅极金属层；
[0158] 在步骤S113中，对所述栅极金属层进行图形化处理，以获得的包括栅极和栅线的图形；
[0160] 在步骤S115中，沉积40nm的IGZO材料，作为有源材料层；
[0161] 在步骤S116中，对有源材料层进行图形化处理，以获得包括有源层的步骤；
[0162] 在步骤S120中，形成包括第一辅助电极层的图形，包括：
[0163] 在步骤S121中，形成ITO材料层；
[0164] 在步骤S122中，对所述ITO材料层进行图形化，以获得包括多个阳极的图形，包括多个所述阳极的图形形成为所述第一辅助电极层；
[0165] 在步骤S130中，在形成有所述第一辅助电极层的初始基板上形成包括开口限定层的图形，所述开口限定层包括绝缘基体层和第二辅助电极层，所述开口限定层限定多个开口，所述第二辅助电极层与所述第一辅助电极层绝缘间隔，包括：
[0166] 在步骤S131中，旋涂沉积亚克力材料层；
[0167] 在步骤S132中，对亚克力材料层进行光刻，固化出第一绝缘基体层，所述第一绝缘基体层限定出多个所述开口；
[0168] 在步骤S133中，沉积ITO材料层；
[0169] 在步骤S134中，对ITO材料层进行图形化处理，以获得包括第二辅助电极层的图形，所述第二辅助电极层的形状与所述第一绝缘基体层的形状一致；
[0170] 在步骤S135中，旋涂沉积亚克力材料层；
[0171] 在步骤S136中，对亚克力材料层进行光刻，固化出第二绝缘基体层，所述第二绝缘基体层的形状与所述第一绝缘基体层的形状一致，以使得所述第一绝缘基体层、所述第二辅助电极层和所述第二绝缘基体层共同构成像素界定层，其中，像素界定层的厚度为0.7μm，像素既定层的侧面与竖直面之间的夹角为60°；
[0172] 在步骤S137中，利用等离子体处理形成有开口界定层的初始基板的表面；
[0173] 在步骤S140中，向所述第一辅助电极层提供第一参考电压，向所述第二辅助电极层提供第二参考电压，以使得所述第一辅助电极层和所述第二辅助电极层之间形成电场，其中，给初始基板的栅线提供0V电压，将初始基板的数据线接地，第二辅助电极层接入30V直流电压；于此同时，向所述初始基板上喷涂形成空穴注入层的油墨，干燥后获得空穴注入层，其中，形成空穴注入层的油墨为PEDOT：PSS；向形成有所述空穴注入层的初始基板喷涂形成空穴传输层的油墨，干燥后获得空穴传输层，其中，形成所述空穴传输层的油墨为TFB，其中，空穴注入层和空穴传输层的总体厚度为50nm-100nm；打印量子材料发光层，随后整面旋涂ZnO，以获得电子传输层；需要指出的是，在喷墨的过程中需要确保第二辅助电极层和第一辅助电极层之间存在上述30V的压差。
[0174] 在步骤S160中，对喷涂油墨后的基板进行干燥；
[0175] 在步骤S170中，蒸镀LiF：Al层，以形成阴极层，其中，阴极层的厚度为50nm-100nm；
[0176] 在步骤S180中，进行封装，并切割，获得有机发光二极管显示面板。
[0177] 实施例2
[0178] 利用实施例1中的方法制备有机发光二极管显示面板，不同之处在于，步骤S130包括：
[0179] 旋涂沉积亚克力材料层；
[0180] 对亚克力材料层进行光刻，固化出绝缘基体层，所述绝缘基体层限定出多个所述开口；
[0181] 沉积ITO材料层；
[0182] 对ITO材料层进行图形化处理，以获得包括第二辅助电极层的图形，所述第二辅助电极层的形状与所述绝缘基体层的形状一致。
[0183] 实施例3
[0184] 利用实施例1中的方法制备有机发光二极管显示面板，不同之处在于，步骤S130包括：
[0185] 沉积ITO材料层；
[0186] 对所述ITO材料层进行图形化处理，以获得包括第二辅助电极层的图形，所述第二辅助电极层的图形限定像素开口；
[0187] 旋涂沉积亚克力材料层；
[0188] 对亚克力材料层进行光刻，固化出绝缘基体层，所述绝缘基体层的图形与所述第二辅助电极层的图形一致，且所述绝缘基体层覆盖所述第二辅助电极层。
[0189] 实施例4
[0190] 按照本发明所提供的方法制造微透镜阵列，所述制造方法包括：
[0191] 在步骤S110中，提供初始基板，包括：对透明衬底进行清洗，清洗后的透明衬底即为所述初始基板；
[0192] 在步骤S120中，沉积ITO材料，厚度40nm；
[0193] 在步骤S130中，沉积SiO2材料层，厚度300nm；沉积ITO材料层，厚度为40nm；图形化，获得开口限定层；
[0194] 在步骤S140中，将第一辅助电极层接地，向第二辅助电极层提供75V直流电压，同时，向初始基板喷墨打印油墨，所述油墨为NOA89光感应树脂溶于溶剂，溶剂为65wt％的甲苯与35wt％的1-己醇的混合物；利用波长为365nm的紫外光照射喷墨打印后的初始基板，固化持续时间为5min。
[0195] 可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
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