专利汇可以提供一种用于2.5~25μm波长范围内的减反射材料的制备方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 属于减反射材料制备技术领域,公开了一种用于2.5~25μm 波长 范围内的减反射材料的制备方法。该方法是利用 加速 器产生的重粒子在 真空 室中双面辐照厚度为20~50μm的聚酯膜,并将辐照过后的样品在清洁的大气环境中放置1~3个月,使聚酯膜中的潜径迹发生光致 氧 化过程,然后利用氢氧化钠蚀刻液进行蚀刻得到所需减反射材料。该方法具有工艺较简单、核孔孔径深度增大、辐照粒子 密度 要求降低且能够实现在2.5~25μm波长范围内反射率小于1%的优点。,下面是一种用于2.5~25μm波长范围内的减反射材料的制备方法专利的具体信息内容。
1.一种用于2.5~25μm波长范围内的减反射材料的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
(1)辐照
利用加速器产生的重粒子在真空室中双面辐照聚酯膜,使辐照后聚酯膜两面的孔密
6 6 2
度均达到5×10~10×10 /cm;所述重粒子为质量数大于32的粒子,粒子能量为120~
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500MeV,束流密度为1×10~1×10 /cm,所述聚酯膜的厚度为20~50μm;
(2)光致氧化
辐照过后的样品在清洁的大气环境中放置1~3个月,使聚酯膜中的潜径迹发生光致氧化过程;
(3)蚀刻
(ⅰ)将步骤(2)得到的聚酯膜置入装有分析纯酒精的干净表面皿中,浸泡5~15分钟,取出并放在干净的滤纸上晾干;
(ⅱ)将步骤(ⅰ)得到的聚酯膜置入蚀刻槽内进行预蚀刻,聚酯膜两面都浸入蚀刻液中;
(ⅲ)用紫外灯辐照以敏化步骤(ⅱ)得到的聚酯膜,敏化后重新放入蚀刻液中在超声波作用下间歇蚀刻,蚀刻完成后清洗晾干即得到所需减反射材料;
步骤(ⅱ)~步骤(ⅲ)所述蚀刻液为氢氧化钠溶液。
2.根据权利要求1所述的一种用于2.5~25μm波长范围内的减反射材料的制备方法,其特征在于,所述聚酯膜的厚度为20~35μm。
3.根据权利要求1所述的一种用于2.5~25μm波长范围内的减反射材料的制备方法,其特征在于,所述蚀刻槽置于超声波发生器内,所述超声发生器里装有去离子水或自来水,超声发生器的设定温度为50~70℃,超声波频率为27.5kHz,功率为1kw。
4.根据权利要求1所述的一种用于2.5~25μm波长范围内的减反射材料的制备方法,其特征在于,所述氢氧化钠溶液的浓度为2~6mol/L。
5.根据权利要求1所述的一种用于2.5~25μm波长范围内的减反射材料的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中步骤(ⅱ)所述预蚀刻时间为2~4min。
6.根据权利要求1所述的一种用于2.5~25μm波长范围内的减反射材料的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中步骤(ⅲ)所述间歇蚀刻是每隔2-5min开启超声波,作用
1-3min后关闭,间歇蚀刻的次数为3~10次。
7.根据权利要求1所述的一种用于2.5~25μm波长范围内的减反射材料的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中步骤(ⅲ)所述紫外灯发出紫外线的波长为360nm。
法
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