专利汇可以提供X-ray photoelectronic analysis专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE:To perform analysis of specimen by radiating electron beams of a minute focus to a thin-film-form target, allowing the X-ray locally produced thereby to pass thorugh the thin film specimen and detecting the photoelectrons generated by the photoelectric effect of X-ray radiation.,下面是X-ray photoelectronic analysis专利的具体信息内容。
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