一种可调焦均匀辐照光学系统
专利汇可以提供一种可调焦均匀辐照光学系统专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型涉及一种可调焦均匀辐照光学系统，特别是一种基于简单透镜列阵的可调焦均匀辐照光学系统。包括平-凸面型透镜列阵（1）、凸-平面型聚焦透镜（2），平-凸面型透镜列阵（1）将 激光束 分割成大量子光束，凸-平面型聚焦透镜（2）使经平-凸面型透镜列阵（1）分割的激光束在目标靶面形成光斑，通过调整平-凸面型透镜列阵（1）与凸-平面型聚焦透镜（2）之间的距离，能使目标光斑的尺寸发生线性改变。本实用新型可在目标靶面获得均匀的光斑强度分布，并且可灵活地改变目标光斑的大小。本实用新型在用于 惯性约束聚变 及高能 密度 物理实验研究的大型高功率激 光驱 动装置、用于激光加工的高功率 激光器 以及 光刻 等领域有重要的应用价值。，下面是一种可调焦均匀辐照光学系统专利的具体信息内容。
1.一种可调焦均匀辐照光学系统，其特征在于包括有平-凸面型透镜列阵（1）、凸-平面型聚焦透镜（2），平-凸面型透镜列阵（1）将激光束分割成大量子光束，凸-平面型聚焦透镜（2）使经平-凸面型透镜列阵（1）分割的激光束在目标靶面形成光斑，通过调整平-凸面型透镜列阵（1）与凸-平面型聚焦透镜（2）之间的距离，能使目标光斑的尺寸发生线性改变。
2.根据权利要求1所述的可调焦均匀辐照光学系统，其特征在于上述平-凸面型透镜列阵（1）由若干个相同的平-凸面型正小透镜元构成。
3.根据权利要求1所述的可调焦均匀辐照光学系统，其特征在于上述平-凸面型透镜列阵（1）的口径为D，小透镜元的厚度为e1，小透镜元的口径为d，焦距为f1；上述凸-平面型聚焦透镜（2）的口径为D，厚度为e2，焦距为f2；上述参数满足以下关系： 。
4.根据权利要求1所述的可调焦均匀辐照光学系统，其特征在于上述平-凸面型透镜列阵（1）的像方主面经过其凸面顶点，上述凸-平面型聚焦透镜（2）的物方主面经过其凸面顶点；平-凸面型透镜列阵（1）的凸面顶点与凸-平面型聚焦透镜（2）的凸面顶点之间的距离为s。
5.根据权利要求1所述的可调焦均匀辐照光学系统，其特征在于上述经平-凸面型透镜列阵（1）分割的激光束在凸-平面型聚焦透镜（2）的焦平面C上形成的是准近场光斑，具有近似于平顶的均匀强度包络。
一种可调焦均匀辐照光学系统
技术领域
背景技术
具体实施方式
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