VORRICHTUNG ZUR HANDHABUNG EINER HALBLEITERSCHEIBE IN EINEM EPITAXIE-REAKTOR UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER HALBLEITERSCHEIBE MIT EPITAKTISCHER SCHICHT
专利汇可以提供VORRICHTUNG ZUR HANDHABUNG EINER HALBLEITERSCHEIBE IN EINEM EPITAXIE-REAKTOR UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER HALBLEITERSCHEIBE MIT EPITAKTISCHER SCHICHT专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且Vorrichtung zur Handhabung einer Halbleiterscheibe in einem Epitaxie-Reaktor und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe mit epitaktischer Schicht. Die Vorrichtung umfasst einen Suszeptor; durch den Suszeptor führende Langlöcher; eine Scheiben-Hebewelle; Scheiben-Hebestifte, die durch die Langlöcher geführt sind; eine Suszeptor-Tragwelle; Suszeptor-Tragarme; Suszeptor-Stützstifte; Führungshülsen, die in den Suszeptor-Tragarmen verankert sind; und Führungselemente, die aus den Führungshülsen ragen und an oberen Enden Bohrungen aufweisen, in denen die Scheiben-Hebestifte stecken, und die mittels der Scheiben-Hebewelle zusammen mit den Scheiben-Hebestiften heb- und absenkbar sind.，下面是VORRICHTUNG ZUR HANDHABUNG EINER HALBLEITERSCHEIBE IN EINEM EPITAXIE-REAKTOR UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER HALBLEITERSCHEIBE MIT EPITAKTISCHER SCHICHT专利的具体信息内容。
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