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一种用于薄膜晶体管的立式膜生产线

阅读:223发布:2023-12-30

专利汇可以提供一种用于薄膜晶体管的立式膜生产线专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种立式 镀 膜 生产线为连续镀膜生产线,其中,包括TFT蒸镀室、OLED蒸镀室和后处理腔室,各蒸镀室通过传动辊连接成一个连续镀膜生产线,生产线上的各蒸镀室之间设有缓冲和调解腔室,以及收卷和放卷装置等辅助腔室,每个蒸镀室与周围的辅助腔室构成一个镀膜子线。本发明采用立式 薄膜 基材的展开方式,使得薄膜在镀膜过程中减少了环境中杂质对镀膜 质量 的影响,并且将膜面与生产线的 接触 降到最低,避免了膜面接触其他物体后破坏膜层的均匀性,巧妙地将OLED屏幕的各层处理方式结合起来,形成了一个完整的生产线,大大提高了生产效率,且一体化的生产过程降低了生产过程中的消耗,节能环保,生产的膜层质量更好。,下面是一种用于薄膜晶体管的立式膜生产线专利的具体信息内容。

1.一种立式膜生产线为连续镀膜生产线,其特征在于:包括TFT蒸镀室、OLED蒸镀室和后处理腔室,各蒸镀室通过传动辊连接成一个连续镀膜生产线,生产线上的各蒸镀室之间设有缓冲和调解腔室,以及收卷和放卷装置等辅助腔室,每个蒸镀室与周围的辅助腔室构成一个镀膜子线。
2.根据权利要求1所述的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,其特征在于,各子线依次独立地对薄膜进行立式镀膜,每一子线沿薄膜展开方向至少包括放卷室、镀膜室和收卷室,主驱动辊设于放卷室和收卷室内,多个传动辊设于子线各腔室内,张检测辊、张力调节辊设于子线至少一个腔室内;其中:
张力检测辊与张力调节辊为相邻设置的,张力检测辊用于实时监测薄膜张力,张力调节辊根据张力检测辊的反馈调节自身转速以调节薄膜于各腔室内传动速度,张力调节辊为非传动辊,薄膜经过张力检测辊与进过张力调节辊的展开轨迹为非直线轨迹。
3.根据权利要求1所述的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,其特征在于,张力调节辊与薄膜的接触面积大于等于张力检测辊及传动辊与薄膜的接触面积。
4.根据权利要求1所述的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,其特征在于,薄膜展开时,薄膜依次经过张力检测辊及相邻的张力调节辊。
5.根据权利要求1所述的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,其特征在于,辊轴沿垂直方向的末端设有万向轴承
6.根据权利要求1所述的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,其特征在于,各蒸镀室内设有立式线性蒸发源。
7.根据权利要求1所述的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,其特征在于,各子线还包括真空获得系统,真空获得系统包括总真空、独立真空泵、真空管道及主抽管道,其中主轴管道连接真空管道及总真空泵,真空管道连接主抽管道及独立真空泵,独立真空泵设于各腔室。
8.根据权利要求1所述的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,其特征在于,后处理腔内设有惰性气体灯和反射镜。
9.根据权利要求1所述的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,其特征在于,各蒸镀室内设有成对的组合式线性蒸发源,蒸发源是旋转的。
10.根据权利要求1所述的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,其特征在于,生产线内还包括各级加热模

说明书全文

一种用于薄膜晶体管的立式膜生产线

技术领域

[0001] 本发明涉及一种用于薄膜晶体管的立式镀膜生产线,属于真空镀膜领域。

背景技术

[0002] 随着便携式移动设备的普及,平面显示器以其轻薄的机身、自身能耗低、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。现有的平面显示器主要包括液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD),以及有机发光二极管显示器件。OLED与LCD相比,具有不需要背光源、对比度高、厚度薄、视广、反应速度快、使用范围广、制作简单等优点,已逐渐占据市场的主流。OLED显示装置根据驱动方式可以分为无源矩阵型OLED(Passive Matrix OLED,PMOLED)和有源矩阵型OLED(Active Matrix OLED,AMOLED)两类。AMOLED每个像素配备具有开关功能的低温多晶薄膜晶体管(LowTemperature Poly-Si Thin Film Transistor,LTP-Si TFT),而且每个像素配备一个电荷存储电容,外围驱动电路和显示阵列整个系统集成在同一玻璃基板上。有源驱动属于静态驱动方式,具有存储效应,可进行100%负载驱动,这种驱动不受扫描电极数的限制,可以对各像素独立进行选择性调节。有源驱动无占空比问题,驱动不受扫描电极数的限制,易于实现高亮度和高分辨率
[0003] OLED屏的由于膜层结构复杂,因此需要多次膜层沉积形成最后的OLED屏,传统的制作方法是在逐层镀膜,且由于传统的OLED屏采用的基板大部分是玻璃基板,故一般采用卧式镀膜方式进行镀膜,卧式镀膜由于虽然易于逐层进行镀膜,工艺难度较低,但是由于卧式镀膜的产线占地面积大、成膜均匀性较差、镀膜过程中容易沾染环境杂质等问题,对镀膜环境要求较高,且废品率较高。

发明内容

[0004] 针对现有技术存在的上述问题,本发明的目的是以柔性基材的OLED屏幕为基础,获得一种用于薄膜晶体管的立式镀膜生产线。
[0005] 为实现上述发明目的之一,本发明采用的用于薄膜晶体管的立式镀膜生产线的技术方案如下:
[0006] 本发明的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,包括TFT蒸镀室、OLED蒸镀室和后处理腔,各蒸镀室通过传动辊连接成一个连续镀膜生产线,生产线上的各蒸镀室之间设有缓冲和调解腔室,以及收卷和放卷装置等辅助腔室,每个蒸镀室与周围的辅助腔室构成一个镀膜子线。
[0007] 优选地,各子线依次独立地对薄膜进行立式镀膜,每一子线沿薄膜展开方向至少包括放卷室、镀膜室和收卷室,主驱动辊设于放卷室和收卷室内,多个传动辊设于子线各腔室内,张检测辊、张力调节辊设于子线至少一个腔室内;其中:
[0008] 张力检测辊与张力调节辊为相邻设置的,张力检测辊用于实时监测薄膜张力,张力调节辊根据张力检测辊的反馈调节自身转速以调节薄膜于各腔室内传动速度,张力调节辊为非传动辊,薄膜经过张力检测辊与进过张力调节辊的展开轨迹为非直线轨迹。
[0009] 优选的,张力调节辊与薄膜的接触面积大于等于张力检测辊及传动辊与薄膜的接触面积。
[0010] 优选的,薄膜展开时,薄膜依次经过张力检测辊及相邻的张力调节辊。
[0011] 优选的,辊轴沿垂直方向的末端设有万向轴承
[0012] 优选地,各蒸镀室内设有立式线性蒸发源。
[0013] 优选的,各子线还包括真空获得系统,真空获得系统包括总真空、独立真空泵、真空管道及主抽管道,其中主轴管道连接真空管道及总真空泵,真空管道连接主抽管道及独立真空泵,独立真空泵设于各腔室。
[0014] 优选地,后处理腔内设有惰性气体灯和反射镜。
[0015] 更优选地,惰性气体的灯照射在反射镜上,由反射镜反射至待处理的膜面。
[0016] 优选地,各蒸镀室内设有成对的组合式线性蒸发源,蒸发源是旋转的。
[0017] 优选地,生产线内还包括各级加热模
[0018] 与现有技术相比,本发明采用立式薄膜基材的展开方式,使得薄膜在镀膜过程中减少了环境中杂质对镀膜质量的影响,并且将膜面与生产线的接触降到最低,避免了膜面接触其他物体后破坏膜层的均匀性,巧妙地将OLED屏幕的各层处理方式结合起来,形成了一个完整的生产线,大大提高了生产效率,且一体化的生产过程降低了生产过程中的消耗,节能环保,生产的膜层质量更好。成对的立式线性蒸发源旋转靶提高了靶材的利用率和镀膜膜层的均匀性,靶材被轰击时不会出现凹坑,避免了溅射化层的形成。靶材利用率高,平均膜厚小,膜层均匀。

具体实施方式

[0019] 下面结合实施例对本发明提供的用于薄膜晶体管的立式镀膜生产线作进一步详细、完整地说明。下面描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
[0020] 下述实施例中的实验方法,如无特殊说明,均为常规方法。下述实施例中所用的实验材料如无特殊说明,均为市场购买得到。
[0021] 本发明的立式镀膜生产线为连续镀膜生产线,包括TFT蒸镀室、OLED蒸镀室和后处理腔,各蒸镀室通过传动辊连接成一个连续镀膜生产线,生产线上的各蒸镀室之间设有缓冲和调解腔室,以及收卷和放卷装置等辅助腔室,每个蒸镀室与周围的辅助腔室构成一个镀膜子线。
[0022] 各子线依次独立地对薄膜进行立式镀膜,每一子线沿薄膜展开方向至少包括放卷室、镀膜室和收卷室,主驱动辊设于放卷室和收卷室内,多个传动辊设于子线各腔室内,张力检测辊、张力调节辊设于子线至少一个腔室内;其中:
[0023] 张力检测辊与张力调节辊为相邻设置的,张力检测辊用于实时监测薄膜张力,张力调节辊根据张力检测辊的反馈调节自身转速以调节薄膜于各腔室内传动速度,张力调节辊为非传动辊,薄膜经过张力检测辊与进过张力调节辊的展开轨迹为非直线轨迹。
[0024] 张力调节辊与薄膜的接触面积大于等于张力检测辊及传动辊与薄膜的接触面积。
[0025] 薄膜展开时,薄膜依次经过张力检测辊及相邻的张力调节辊。
[0026] 辊轴沿垂直方向的末端设有万向轴承。
[0027] 各蒸镀室内设有立式线性蒸发源。
[0028] 各子线还包括真空获得系统,真空获得系统包括总真空泵、独立真空泵、真空管道及主抽管道,其中主轴管道连接真空管道及总真空泵,真空管道连接主抽管道及独立真空泵,独立真空泵设于各腔室。
[0029] 后处理腔内设有惰性气体灯和反射镜,惰性气体的灯照射在反射镜上,由反射镜反射至待处理的膜面。
[0030] 各蒸镀室内设有成对的组合式线性蒸发源,蒸发源是旋转的。
[0031] 生产线内还包括各级加热模块,加热模块可以由0~600℃调温,还可以远程控制调温。
[0032] 最后有必要在此说明的是:以上实施例只用于对本发明的技术方案作进一步详细地说明,不能理解为对本发明保护范围的限制,本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。
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