专利汇可以提供用于在光学系统中测量反射模式显示器的绝对光产出量的方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种在具有折返光径的光学系统中测量偏振调制反射型显示器绝对产出量的方法。其步骤包括在具有第一偏振光束分离器,和反射型显示器的折返光径中测量第一光强度,LR。第二光强度,L0,是通过采用以第二 正交 转动的偏振光束分离器来代替反射型显示器的非折返光径来测量的。计算了绝对产出量TM此处TM=LR/L0。,下面是用于在光学系统中测量反射模式显示器的绝对光产出量的方法专利的具体信息内容。
1.一种用在具有折返光径的光学系统中,测量偏振调制的反射型显示器 的绝对光产出量的方法,其特征在于,该方法包括的步骤为:
a)测量在折返光径中传递的第一光强度,LR,其中由光学系统调制的光束 第一偏振分量被第一偏振光束分离器折返,以及光束第二偏振分量被第一偏 振光束分离器透射,其中偏振分量中的一个分量被反射出反射型显示器;
b)测量在非折返光径中被光学系统传递的第二光强度,LO,在该光径中反 射型显示器已被移走,该光径具有第一偏振光束分离器以及具有等效光学性 能特性的第二正交转动偏振光束分离器,其中,光束是由PBS中的一个透射 而由另一个反射,以及
c)计算绝对产出量TH,此处TM=LR/LO。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,被反射出反射型显示器的偏 振分量是第一偏振分量。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,被反射出反射型显示器的偏 振分量是第二偏振分量。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,测量步骤包括透光地测量第 一和第二光强度。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,测量步骤包括用辐射测量方 法测量第一和第二光强度。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,测量步骤包括用分光辐射测 量方法测量第一和第二光强度。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,光束包括红外辐射。
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,光束包括紫外辐射。
9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,其中测量第一和第二光强度 的步骤包括使用具有照明可变f/#的照明系统,该方法还包括重复对不同的照 明的f/#s测量第一和第二光强度以及对不同的照明的f/#s计算反射型显示 器的绝对产生量的步骤。
10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,其中测量第一和第二光强度 的步骤包括使用具有可变f/#s的投影系统,该方法还包括重复对不同投影的 f/#s测量第一和第二光强度以及对不同的投影f/#s计算反射型显示器的绝对 产生量的步骤。
11.如权利要求1所述的方法,其特征在于,其中测量第一和第二光强度 的步骤包括使用相干光束源。
12.如权利要求1所述的方法,其特征在于,其中测量和第一和第二光强 度的步骤包括使用平行光束源。
13.如权利要求1所述的方法,其特征在于,其中偏振调制反射型显示器 是一层压到平面镜的1/4波长薄膜,其中层压到平面镜的1/4波长薄膜,与 其它偏振调制反射型显示器相比较,成为已知产出量,TS的反射标准样品。
14.如权利要求13所述的方法,其特征在于,偏振调制反射型显示器的 产生量是通过下列步骤来测量的:
a)测量在折返光径中传递的第一光强度,LR,其中由光学系统调制的光束 第一偏振分量被第一偏振光束分离器折返,而光束第二偏振分量被第一偏振 光束分离器透射,其中偏振分量中的一个分量被反射出反射型显示器;
b)测量在折返光径中传递的第二光强度,LS,其中由光学系统调制的光束 第一偏振分量被第一偏振光束分离器折返,而光束第二偏振分量被第一偏振 光束分离器透射,其中偏振分量中的一个分量被反射出反射标准样品,以及
c)计算绝对产出量,TM,此处TM=(LR/LS)×TS。
在本案例中的光学系统规定为调制光以获得所要求光学图像的一个系 统。术语光学系统的意思包括诸如装在顶部的显示器和电子投影显示器的显 示系统。
在光学系统中的每个光学元件都有元件都有光产出量,即效率。透射型 光学元件的光产出量是该元件透射的入射光的份额,即不被该元件反射,吸 收,或散射的光的百分率。反射型光学元件的光产出量定义为该元件反射的 入射光的份额,即不被该元件透射,吸收,或散射的光的百分率。
在评定和设计诸如电子投影仪的光学显示系统中,光输出是一个重要因 子。在会议和展示中,报告人经常使用连接到个人计算机的电子投影仪来提 供电子显示(例如Microsoft Power TM显示仪)。系统的光输出帮助决定所 投影图像的亮度,所以希望有高的光输出。光输出受每个元件的影响,正比 于该元件的产出量。
一般,光学显示系统不是采用透射模式就是采用反射模式的显示器。在 透射模式的系统中,光经显示器或成像器通过。在反射模式的系统中,显示 器反射光。
许多公司集中于开发反射模式显示器以寻求较低成本和较高的分辨率。 有前途的新的反射模式显示器包括在硅上的液晶(LCOS)装置。这些装置采 用偏振入射光并反射偏振调制光。
反射模式显示器的设计者们传统地采用一个模型或通过在系统中每个元 件透射的光的测量,确定用分数表示的透射值,然后计算所有这些透射值的 乘积(参阅,E.H.Stupp,M.S.Brennesholtz,Projection Displays,Wiley-SID Series in Display Technology,239 ff.(1999),E.E.Doany,R.N.Singh, A.E.Rosenbluth,and G.L.-T.Chiu,“Projection display throughput: Efficiency of optical transmission and light-source collection,”IBM J.Res.Develop.,42,387-399(1998),它们包括在此供参考)。到目前为止, 要建立用于硅土液晶(LCOS)微显示器这样一种用分数表示的透射度是困难 的,或即使将一个LCOS装置的产出量特性与另一个的作比较都很困难。这是 由于对这些装置准确建模或测量产出量很困难所致。
由于显示器的反射本性而导致测量产出量是困难的。因为它们是反射的, 所以一般用与通常是层压到颊镜上1/4波长薄膜(QWF)的参照物作比较来测 量LCOS微显示器的产出量。一种用于计算在系统中反射型显示器输出的传统 方法首先是采用1/4-波长片和平面镜代替反射型显示器来测量系统的产出 量。J.H.Morrissy等人,在“Reflective Microdisplays for Projection or Virtinal-View Applications”,880,SID 1999 Digest中描述了一个方法, 其中采用了光耦合到宽带1/4波长延迟片,或QWF的铝平面镜来测定反射模 式显示器的反射率。在这个技术中,首先把成象器驱动到它的全亮状态,再 测量其所得到的光输出。然后用上面描述的1/4波长层压片代替该成象器并 再次测量其输出。第一个测量结构除以第二个测量结果来确定一个产出量值。
尽管这种测量能给出在各种LCOS微显示器间良好的比较结果,但是在这 个情况中,微显示器的绝对产出量有赖于知道参考平面镜和QWF的反射系数。 当所要求的是光谱产出量时,这就特别困难。这方法的问题包括平面镜和QWF 这两者都把未知的不精确性引进测量结果的事实。由于没有理想的光学装置, 平面镜和QWF这两者都有自己的产出量,而它们在计算中是被忽略的。没有 能用于这些测量的标准平面镜或1/4波长片,所以对相同显示器的测量不是 一样的。结果,测试者面临试图来限定平面镜和1/4波长片的光学特性的工 作(参阅,例如,M.D.Wilson,“Methods of Measuring Performance of LCOS Microdisplays”,Microdisplay 2000,August 7-9,2000)。
此外,在不同的系统中每个显示器可能有不同的表现。例如,传统上,1/4 波长片只在一个波长的1/4波长是精确的,所以每次测试都必须使用对红, 绿,和蓝的(“RGB”,在传统的显示系统中,用来产生各种其它颜色的原色) 至少三种不同的1/4波长长片/薄膜。不同的波长片和不同的RGB测试将给出 不同的结果。即使是宽带QWF对RGB各色也具有不同的透射率。诸如具体光 学系统的入射角,温度,灯光光谱,以及输入和输出f/#s等的其它因素也会 影响测量。
对在一系统中以精确和可重复的方式来计算反射型显示器绝对产出量方 法的需要依然存在。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
---|---|---|
用于无线辅助混合定位系统中位置确定的方法和装置 | 2021-08-18 | 0 |
具有失配容忍度的RF功率放大器电路 | 2020-07-30 | 1 |
一种屋顶绿化装置 | 2020-08-31 | 1 |
用于噪声抵消接收器的阻断器滤波 | 2020-11-11 | 1 |
视频编码装置、视频解码装置、视频编码方法、视频解码方法及程序 | 2020-11-20 | 0 |
印刷装置、以及印刷材料供应系统 | 2021-05-14 | 1 |
一种快速的脑电信号中眼电伪迹自动识别和去除的方法 | 2021-07-05 | 1 |
Color separating/synthesizing element and projector | 2023-06-21 | 0 |
Multi-axis force sensor and acceleration sensor | 2021-11-29 | 0 |
Waveguide for use in dual polarisation probe system | 2023-02-04 | 0 |
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。