专利汇可以提供用于光刻机透镜热效应测量的测试标记及其测量方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种测试标记,所述测试标记为正方形,中心为透光方孔,由中心向外依次为具有一定宽度的方框;从所述透光方孔至最外侧方框,透光区和非透光区交替;从最外侧透光方框至所述透光方孔,所述透光区面积逐渐增大。一种使用所述测试标记的 光刻 机透镜热效应测量方法,所述测试标记位于掩模上,所述测试标记通过光束照射经由投影物镜在 工件 台上形成测试标记像,光强 传感器 用于探测所述测试标记像处的光强,包括以下步骤:对所述光强与所述投影物镜焦面漂移的关系进行预标定;进行热效应测量;确定所述热效应测量中的各时刻焦面漂移数据,拟合计算出透镜热效应双指数模型的参数。,下面是用于光刻机透镜热效应测量的测试标记及其测量方法专利的具体信息内容。
1. 一种测试标记,应用于透镜的热效应测量领域,其特征在于,
所述测试标记为正方形;
所述测试标记中心为透光方孔,由中心向外依次为具有一定宽度的方框;
从所述透光方孔至最外侧方框,透光区和非透光区交替;
从最外侧透光方框至所述透光方孔,所述透光区面积逐渐增大;
整个所述标记的尺寸与光强传感器的光敏直径大小相近,所述透光方孔的面积不低于所述测试标记面积的四分之一,所述最外侧透光方框的尺寸与光刻机分辨率相近。
2.根据权利要求1所述的测试标记,其特征在于,从所述最外侧透光方框至所述透光方孔,所述透光区面积成等比增大。
3.根据权利要求1所述的测试标记,其特征在于,多个所述测试标记在掩模上呈矩阵阵列分布,用于测量场曲和像散的热效应。
4.一种使用权利要求1所述测试标记的光刻机透镜热效应测量方法,所述测试标记位于掩模上,所述测试标记通过光束照射经由投影物镜在工件台上形成测试标记像,光强传感器用于探测所述测试标记像处的光强,包括以下步骤:
对所述光强与所述投影物镜焦面漂移的关系进行预标定;
进行热效应测量,包括在所述透镜加热或者冷却过程中,在需要进行焦面数据采集的时刻,所述光强传感器对所述光强进行采样,直至测量结束;
确定所述热效应测量中的各时刻焦面漂移数据,拟合计算出透镜热效应双指数模型的参数。
5.根据权利要求4所述的测量方法,其特征在于,所述预标定包括以下步骤:
步骤一,上载所述掩模,移动所述工件台至名义焦面位置;
步骤二,在所述名义焦面位置附近的焦深范围内轴向移动所述工件台,所述光强传感器对所述光强连续采样;
步骤三,记录第一组所述光强和所述工件台的第一组轴向位置,获得第一实测焦面;
步骤四,以所述第一实测焦面作为步骤一的所述名义焦面,重复所述步骤一至步骤三,记录第二组所述光强和所述工件台的第二组轴向位置;
步骤五,将所述第二组轴向位置均减去所述第一实测焦面,获得所述第二组所述光强与焦面漂移的关系。
6.根据权利要求4所述的测量方法,其特征在于,所述确定所述热效应测量中的各时刻焦面漂移数据的方法为通过所述预标定的所述光强与所述投影物镜焦面漂移的关系,利用三次样条插值而得到。
7.根据权利要求4所述的测量方法,其特征在于,所述掩模除所述测试标记外的区域均为透光区。
8.根据权利要求4所述的测量方法,其特征在于,所述测试标记为多个,多个所述测试标记在所述掩模上呈矩阵阵列分布。
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