专利汇可以提供一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法,涉及激光照明、投影和加工等激光整形应用领域。发明针对微透镜列阵实现激光光束整形匀化时,由于微透镜列阵的周期性和激光的相干性,在目标面产生周期性点阵,降低了光束匀化效果的问题,提出一种利用中心离轴型微透镜列阵结构消除点阵效应以实现激光光束匀化的方法。通过设计微透镜列阵中的子透镜单元 位置 ,获取子透镜单元中心离轴分布的微透镜列阵,利用离轴量的随机性打破微透镜列阵的周期性,消除目标面处的相干条纹,实现高均匀性的光斑分布。本发明能够有效消除激光光束整形中的点阵效应,是一种实用的光束整形方法,具有较大的应用前景。,下面是一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法专利的具体信息内容。
1.一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法,其特征在于:中心离轴型微透镜列阵将入射激光光束分成多个小光束,再经过周期性微透镜列阵以及傅里叶透镜作用,使所有的小光束相互叠加铺满整个目标光斑区域,从而相互抵消小光束间的不均匀性,以实现激光光束的匀化;
所述中心离轴型微透镜列阵中的各个子透镜单元的口径和焦距相同;
所述中心离轴型微透镜列阵中的各个子透镜单元的中心离轴分布,中心离轴量随机产生。
2.根据权利要求1所述的基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法,其特征在于:所述周期性微透镜列阵中的各个子透镜单元的周期性分布。
3.根据权利要求1所述的基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法,其特征在于:所述周期性微透镜列阵中的子透镜单元的口径、焦距以及阵列数与所述中心离轴型微透镜列阵中的子透镜单元相同。
4.根据权利要求1所述的基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法,其特征在于:所述周期性微透镜列阵中的子透镜单元的口径与所述中心离轴型微透镜列阵中的子透镜单元的口径一一对准。
5.根据权利要求1所述的基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法,其特征在于:所述周期性微透镜列阵放置于所述中心离轴型微透镜列阵之后,两个微透镜列阵之间的距离可以自由设计。
6.根据权利要求1所述的基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法,其特征在于:所述傅里叶透镜放置于所述周期性微透镜列阵之后的任意位置,该位置根据应用需求自由设计。
7.根据权利要求1所述的基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法,其特征在于:在所述傅里叶透镜的焦平面上获得匀化后的光斑。
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