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High data rate magnetoresistance head

阅读:508发布:2021-01-17

专利汇可以提供High data rate magnetoresistance head专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE: To form a device for sensing the change of magnetic field.
CONSTITUTION: This device is provided with a giant magnetoresistant element 20 arranged adjacently to the magnetic field. 1st, 2nd and 3rd contacts 30A, 30B and 30C are spatially arranged on the giant magnetoresistant element 20, a 1st current path having a 1st variable resistance value is formed between the 1st and 2nd contacts 30A and 30B, and a 2nd current path having a 2nd variable resistance value is formed between the 1st and 3rd contacts 30A and 30C. When the movable magnetic field is practically positioned on the downside of the 1st current path, the 1st variable resistance value of the 1st current path is changed and when the magnetic field is practically positioned on the downside of the 2nd current path, the 2nd variable resistance value of the 2nd current path is changed.
COPYRIGHT: (C)1995,JPO,下面是High data rate magnetoresistance head专利的具体信息内容。

【特許請求の範囲】
  • 【請求項1】 下側を移動する磁気記憶媒体の複数の縦方向トラックの一つから情報を読み取るセンサーであって、スライダに底面をもつサイドレールを設けそのサイドレールの底面が複数の縦方向トラックの最初のトラックに隣接させるように配置された前記スライダーと、前記サイドレールの底面上に配置されたジャイアント磁気抵抗素子と、第1及び第2の電気的接点間に第1の可変抵抗値をもつ第1の電流経路が形成され第1及び第3の電気的接点間に第2の可変抵抗値をもつ第2の電流経路が形成されるように前記最初のトラックに沿って前記ジャイアント磁気抵抗素子上に空間的に配置された前記第1、第2及び第3の電気的接点とを具備し、前記最初のトラックからの情報を表す第1の磁界が実質的に第1の電流経路の下側に位置する時に第1の磁界により前記第1の電流経路の第1の可変抵抗値が変化し、第1の磁界が実質的に第2の電流経路の下側に位置する時に第1の磁界により前記第2の電流経路の第2の可変抵抗値が変化する、センサー。
  • 【請求項2】 請求項1記載のセンサーであって、第1
    の電流経路の下側の第1の位置から第2の電流経路の下側の第2の位置への第1の磁界の移動により第1の可変抵抗値は増大し第2の可変抵抗値は減少する、センサー。
  • 【請求項3】 請求項1記載のセンサーであって、前記スライダーは更に、先縁と、後縁と、を具備し、前記ジャイアント磁気抵抗素子はスライダーの先縁よりもスライダーの後縁に近く配置されている、センサー。
  • 【請求項4】 請求項3記載のセンサーであって、前記ジャイアント磁気抵抗素子はコア内のスライダーの後縁近くに配置されている、センサー。
  • 【請求項5】 請求項1記載のセンサーであって、前記サイドレールは更に、外面を具備し、前記ジャイアント磁気抵抗素子は前記サイドレールの外面上に配置されている、センサー。
  • 【請求項6】 請求項1記載のセンサーであって、前記ジャイアント磁気抵抗素子は材料の複数の異なるストリップを具備する、センサー。
  • 【請求項7】 請求項6記載のセンサーであって、前記第1の電気的接点は第1のストリップ状材料上に配置され第2の電気的接点は第2のストリップ状材料上に配置され、前記第1のストリップ状材料は前記第2のストリップ状材料とは異なる、センサー。
  • 【請求項8】 請求項7記載のセンサーであって、前記第3の電気的接点は第3のストリップ状材料上に配置され、前記第1のストリップ状材料は前記第3のストリップ状材料とは異なる、センサー。
  • 【請求項9】 請求項6記載のセンサーであって、前記複数の異なるストリップ状材料は更に、強磁性及び非強磁性性材料の層を具備する、センサー。
  • 【請求項10】 請求項1記載のセンサーであって、前記スライダーは更に、底面を有する第2のサイドレールを具備し、その第2のサイドレールの底面が複数の縦方向トラックの第2のトラックに隣接するように配置されている、センサー。
  • 【請求項11】 請求項10記載のセンサーであって、
    更に、前記第2のサイドレールの底面上に配置された第2のジャイアント磁気抵抗素子と、第2のジャイアント磁気抵抗素子の長さに沿ってしかも前記第2のトラックに沿って空間的に配置された第4、第5、及び第6の電気的接点であって第4及び第5の電気的接点間に第3の可変抵抗値を有する第3の電流経路が形成され第4及び第6の電気的接点間に第4の可変抵抗値を有する第4の電流経路が形成される第4、第5及び第6の電気的接点とを具備し、前記第2のトラックからの情報を表す第2
    の磁界が実質的に第3の電流経路の下側に位置する時に第2の磁界により前記第3の可変抵抗値が変化し、第2
    のトラックからの第2の磁界が実質的に第4の電流経路の下側に位置する時に第2の磁界により前記第4の電流経路の第4の可変抵抗値が変化する、センサー。
  • 【請求項12】 請求項11記載のセンサーであって、
    前記スライダーは更に、先縁と、後縁とを具備し、前記第2のジャイアント磁気抵抗素子は前記スライダーの先縁よりもスライダーの後縁に近く配置されている、センサー。
  • 【請求項13】 請求項11記載のセンサーであって、
    前記サイドレールは更に、外面を備え、前記第2のジャイアント磁気抵抗素子は第2のサイドレールの外面上に配置されている、センサー。
  • 【請求項14】 請求項12記載のセンサーであって、
    前記第2のジャイアント磁気抵抗素子はコア内のスライダーの後縁近くに配置されている、センサー。
  • 【請求項15】 請求項11記載のセンサーであって、
    前記第2のジャイアント磁気抵抗素子は複数の異なるストリップ状材料を具備する、センサー。
  • 【請求項16】 請求項15記載のセンサーであって、
    前記第4の電気的接点は第4のストリップ状材料上に配置され前記第5の電気的接点は第5のストリップ状材料上に配置され、前記第4のストリップ状材料は前記第5
    のストリップとは異なる、センサー。
  • 【請求項17】 請求項16記載のセンサーであって、
    前記第6の電気的接点は第6のストリップ状材料上に配置され、前記第4のストリップ状材料は前記第6のストリップ状材料とは異なる、センサー。
  • 【請求項18】 請求項15記載のセンサーであって、
    複数の異なるストリップ状材料は更に、強磁性及び非強磁性材料の層を具備する、センサー。
  • 【請求項19】 ジャイアント磁気抵抗素子と、ジャイアント磁気抵抗素子上に空間的に配置された第1、第2
    及び第3の電気的接点であって第1の可変抵抗値を有するジャイアント磁気抵抗素子内の第1の電流経路を第1
    及び第2の電気的接点間に形成し第2の可変抵抗値を有するジャイアント磁気抵抗素子内の第2の電流経路を第1及び第3の電気的接点間に形成する前記第1、第2及び第3の電気的接点とを具備し、磁界が実質的に第1の電流経路の下側に位置する時に第1の電流経路の第1の可変抵抗値が前記磁界により変化し磁界が実質的に第2
    の電流経路の下側に位置する時に第2の電流経路の第2
    の可変抵抗値が前記磁界により変化する、磁界内の動きを感知するための感知装置。
  • 【請求項20】 請求項19記載の装置であって、前記磁界が実質的に第1の電流経路の下側に位置する時に第1の可変抵抗値が減少し前記磁界が実質的に第2の電流経路の下側に位置する時に第2の可変抵抗値が減少する、感知装置。
  • 说明书全文

    【発明の詳細な説明】

    【0001】

    【産業上の利用分野】本発明は高データレート応用に対する磁気抵抗ヘッドに関し、特にスライダーの後縁近くでサイドレール上に配置されたジャイアント磁気抵抗素子(giant MR element)を有し印加磁界によって生じるジャイアント磁気抵抗素子の長さに沿ったさまざまな位置における抵抗変化による情報を磁気記憶媒体から読み取る磁気抵抗ヘッドに関する。

    【0002】

    【従来の技術】磁気抵抗(MR)センサーは磁気記憶システムにおいて磁気記憶媒体すなわちディスクから磁気的に符号化された情報を検出するのに使用される。 磁気記憶媒体すなわちディスクからの時間依存磁界はMRセンサーの抵抗率を直接変調する。 MRセンサーの抵抗値の変化はMRセンサーにセンス電流を通してMRセンサーの両端間電圧を測定することにより検出することができる。 こうして得られる信号を使用して磁気記憶媒体すなわちディスクからの符号化された情報を回復することができる。

    【0003】実用的なMRセンサーは透磁率が高いために代表的には強磁性合金を使用して形成される。 強磁性合金は絶縁基板すなわちウエーハ上に薄膜として堆積される。 磁気記憶媒体からの変化する磁界によりMRセンサーの磁化方向が変化してセンサーの抵抗値が変化する。 この現象はMR効果と呼ばれる。

    【0004】MRセンサーはセンサーの活性領域に可動磁区境界や磁区境界が無い場合に信号対ノイズ比が最大となる。 すなわち、MRセンサーの活性センス領域は1
    磁区でなければならない。 磁界印加時に移動する磁区境界がセンサーの活性領域内に存在するとバルクハウゼンノイズが生じ、それは印加磁界が存在する場合に磁区の非可逆的移動により生じる現象である。 磁区境界が存在しなければバルクハウゼンノイズは発生しない。 代表的には、ジオメトリを(形状を特定して)使用するか、もしくは境界制御安定化や固有の縦方向磁界あるいはそれらの組み合わせにより単磁区MRセンサーが達成される。

    【0005】MRセンサーの信号出を予測するために、MRセンサーの電流密度ベクトルJ(バー)と磁化ベクトルM(バー)間の空間度依存、θ(x,y)、
    を知る必要がある。 一般的に、

    【数1】

    である。

    【0006】従来のMRセンサー構成では、

    【数2】

    で表される電流密度ベクトルJ(バー)の素子の抵抗率に対する僅かな依存度は無視できるものとして処理され無視されているかもしくは無視することができる(例えば、活性領域に直角な接点を有するMRセンサー)。 その理由は

    【外1】

    で定義される抵抗率のささいな変化は標準MRセンサー構成については比較的小さく、通常3.0%以下であるためである。 したがって、電流密度ベクトルJ(バー)


    のデバイスの抵抗率ρへの依存度は無視できる。 多くの実用的なMRデバイスでは、

    【外2】

    で定義される抵抗率の変化は一層小さく、0.5%から室温近くにおける2.0%程度である。

    【0007】

    【発明が解決しようとする課題】GMR材料から形成されるジャイアントMR(GMR)センサー(giant
    MR sensor)はMRセンサーファミリーの新しい領域である。 GMRセンサーは多層構造であるGMR
    素子から形成される。 これらのデバイスは強磁性および非強磁性膜もしくは同様な一組の膜を含んでいる。 層パターンの一部がパーマロイであってもなくてもよい。 G
    MRセンサーでは、

    【外3】

    により定義される抵抗率の変化は65%を越えることがある。 したがって、これらの材料により電流密度ベクトルJ(バー)が空間磁界勾配を介したρ(θ)の空間変動に機能的に依存するような種類のセンサーに対する見通しが開ける。 したがって、電流密度ベクトルJ(バー)のデバイスの抵抗率ρに対する依存度が重大になる。

    【0008】

    【課題を解決するための手段】本発明の一実施例はセンサーの下を移動する磁気記憶媒体の縦方向トラックから情報を読み取る磁気抵抗センサーである。 センサーはトラックに隣接するサイドレールの底面上に配置されたジャイアント磁気抵抗素子を含んでいる。 ジャイアント磁気抵抗素子へ磁界を印加することにより電流密度ベクトルJ(バー)を動的に調整することができる。 第1、第2及び第3の電気的接点がトラックに沿ってジャイアント磁気抵抗素子上に空間かつ好ましくは対照的に配置されている。 第1の可変抵抗値を有する第1の電流経路が第1及び第2の電気的接点間に形成され、第2の可変抵抗値を有する第2の電流経路が第1及び第3の電気的接点間に形成されている。 第1及び第2の電流経路は好ましくは第1の電気的接点に対して対照的に配置されている。 磁気記憶媒体のトラックからの情報を表す磁界がジャイアント磁気抵抗素子の下を通過し磁界が第1の電流経路の下を通過する時に第1の電流経路の第1の可変抵抗値が変化する。 同様に、磁界が第2の電流経路の下を通過する時に第2の電流経路の第2の可変抵抗値が変化する。 外部電気回路がこれらの抵抗変化により生じるさまざまな信号変化を処理して、磁気記憶媒体から所望の情報を回復することができる。 したがって、磁界の存在により大きな抵抗変化が見込めるジャイアント磁気抵抗センサーの性質を利用して外部回路が検出可能な電流を不平衡とすることができる。

    【0009】本発明の第2の実施例は磁界の変化を感知する装置である。 この装置には磁界に隣接して配置されたジャイアント磁気抵抗素子が含まれている。 第1、第2及び第3の電気的接点がジャイアント磁気抵抗素子上に空間的に配置されていて第1の可変抵抗値を有する第1の電流経路を第1及び第2の電気的接点間に形成し第2の可変抵抗値を有する第2の電流経路を第1及び第3
    の電気的接点間に形成する。 好ましくは、第1及び第2
    の電流経路は第2の接点に対して対照的に配置される。
    磁界が第1の電流経路の下側を通過する時に第1の電流経路の第1の抵抗値が変化し、磁界が第2の電流経路の下側を通過する時に第2の電流経路の第2の抵抗値が変化する。

    【0010】

    【実施例】図1はスライダー10の線図である。 スライダー10は先縁12、後縁14、第1のサイドレール1
    6、第2のサイドレール18、及びジャイアントジャイアント磁気抵抗素子(GMR)20を含んでいる。 第1
    のサイドレール16は外面22及び底面24を含み、第2のサイドレール18は外面26及び底面28を含んでいる。

    【0011】動作上、第1のサイドレール16上に配置されたGMR素子20を有するスライダー10はディスクドライブシステムのアームに取り付けられ磁気記憶媒体すなわちディスクに対して情報を記録したり読み取るのに使用される。 別の実施例では、GMR素子20と同様な第2のGMR素子が第2のサイドレール18上に配置されている。

    【0012】図2は本発明の第1の実施例を組み込んだスライダー10の後縁14の拡大線図である。 図2に示すスライダー10は後縁14、外面22及び底面24を有する第1のサイドレール16、外面26及び底面28
    を有する第2のサイドレール18、及びGMR素子20
    を含んでいる。

    【0013】図2に示すように、GMR素子20は電気的接点30A,30B,30Cを含み長さはLで高さH
    である。 GMR素子20の抵抗性により、電気的接点3
    0A及び30B間に第1の電流経路が形成され、接点3
    0A及び30C間に第2の電流経路が形成される。 (図2には図示されていない)電気的リードを使用して電気的接点30A、30B,30Cが外部回路に接続される。

    【0014】動作上、スライダー10は移動する磁気記憶媒体すなわちディスクの上に配置される。 磁気記憶媒体すなわちディスクは一連のデータトラックを含み、その中の一つをトラック32として示す。 トラック32は一連の縦方向遷移34を含んでいる。 トラック32上の各遷移はトラック32上に記憶される一つの特定データを表しそれには磁界が関連している。 (図2に示す)磁界36には縦方向遷移34が関連しており遷移34からの距離の関数としての垂直磁界プロファイルを示している。 図2に矢符で示すように、トラック32はスライダー10の先縁12から後縁14の方向へ移動する。

    【0015】遷移34に関連する磁界36が電気的接点30A及び30B間に形成された第1の電流経路の下を通過すると、GMR素子20の性質により第1の電流経路の抵抗値が減少する。 同様に、遷移34を表す磁界3
    6が電気的接点30A及び30C間に形成された第2の電流経路の下を通過すると、第2の電流経路の抵抗値が減少し第1の経路の抵抗値はその基本抵抗値まで増大する。 これらの抵抗値の変化は電気的接点30A,30
    B,30Cに接続された外部回路により操作することができる。

    【0016】図3は本発明の第2の実施例を組み込んだスライダー10の後縁14の拡大線図である。 図3に示す実施例は(図示なし)従来の記録装置の構造を付加することができる合成構造のもう一つの例である。 図3に示すように、GMR素子20が第1のサイドレール16
    の外面22上には配置されない点を除けば図3のスライダー10は図2のスライダーと同じである。 第1のGM
    R素子20が第1のサイドレール16の後縁14上に配置されたコア38内に配置され、第2のGMR素子40
    が第2のサイドレール18の後縁14上に配置されたコア42内に配置されている。 GMR素子40はGMR素子20の接点30A,30B,30Cと同様な(図示せぬ)接点を含んでいる。 GMR素子20及び40は同じであり、したがって判りやすくするためにGMR素子2
    0のみについて検討する。

    【0017】図2及び図3に示すように、GMR素子2
    0はその長さ方向が第1のサイドレール16の下を移動するトラック32に実質的に平行となるように配置される。 このような配置、及び接点30A,30B,30C
    の位置により磁界36が下を通過する時に第1及び第2
    の電流経路内で抵抗値が大きく変化することができ、外部回路が検出可能な電流が不平衡とされる。

    【0018】図4はGMR素子20の線図である。 GM
    R素子20は強磁性及び非強磁性膜もしくは同様な膜パターンの層を含む点において通常のMR素子とは異なっている。 標準パーマロイをパターンの一部とすることができる。 GMR素子20の新しい組成では磁界を移動させることによりGMR素子20の抵抗率の変化を著しく調整することができる。 電気的接点30A,30B,3
    0Cを適切に配置することにより、電気的接点30A,
    30B,30Cにより形成される第1及び第2の電流経路の抵抗値を変化させることができる。 この抵抗値の変化は外部回路で操作して磁界36に関連するトラック3
    2上の遷移34を復号することができる。

    【0019】電気的接点30A,30B,30CはGM
    R素子20の厚さTに沿って任意の位置に配置することができる。 一実施例では、接点30A,30B,30C
    は図4に示すようにGMR素子20の外面上に配置される。 逆に、GMR素子20の調整された抵抗率を変換するには接点30A,30B,30CをGMR素子20の長さLに沿って空間的に配置しなければならない。 一実施例では、接点30B,30CはMR素子20の長さL
    に沿って接点30AI対して対照的に配置されて二等辺三角形が形成される。 この種の設計では、さまざまな長さの電流経路による抵抗値の違いが解消される。 したがって、任意の抵抗値変化及び関連する電流分割はMR素子の下に位置する移動する遷移により生じる筈である。

    【0020】接点30Aが接点30Bもしくは30Cの直上もしくは直下に位置する場合には、遷移がセンサーを通過する時に接点が一致するため(図2及び図3に示す)移動磁界36により適切な電流経路の抵抗値は実質的に変化しない。 したがって、接点30A,30B,3
    0CはGMR素子20の長さLに沿って空間的に配置し接点30Aを接点30B及び30Cとは異なる高さに配置するのが最善である。 一実施例では、第1及び第2の電流経路が第1の接点30Aに対して対照的に配置されている。

    【0021】図5はGMR素子20及びその下を移動する磁気記憶媒体のトラック32の側面図である。 トラック32は図5に矢符で示す方向に移動する。 動作上、トラック32が移動する間に遷移34及び関連する磁界3
    6がGMR素子20の下を移動する。

    【0022】遷移34及び関連する磁界36が第1の接点30A及び第2の接点30B間に位置する場合には、
    磁界36により接点30A及び30B間の第1の電流経路の抵抗値が低減される。 この抵抗値の減少は接点30
    A及び30B間に形成される第1の接点経路へ電流を通すことにより外部回路で検出することができる。 同様に、遷移34及び関連する磁界36が第1の接点30A
    及び第3の接点30C間の位置へ位置すると、接点30
    A及び30Cにより形成される第2の電流経路の抵抗値が減少し接点30A及び30B間には磁界が無いため接点30A及び30Bにより形成される第1の電流経路の抵抗値が減少する。 この抵抗値の減少は接点30A及び30Cにより形成される第2の接点経路へ電流を通すことにより外部回路で検出することができ、遷移34が復号される。

    【0023】図6は本発明の第1の実施例を組み込んだスライダー10の後縁14の拡大線図である。 図6にはそれぞれ接点30A,30B,30Cに接続された電気リード44A,44B,44Cが示されている。 電気リード44A,44B,44Cにより(図6には図示せぬ)外部回路から接点30A,30B,30Cへの電流経路が提供される。 接点30A,30B,30CはGM
    R素子20の外面上に示されているが、これらの接点はGMR素子20の全幅にわたって配置することができる。

    【0024】図7は接点30A,30B,30C及びその間の抵抗経路を示す線図である。 任意の磁界が接点3
    0A及び30B間に位置する場合、抵抗R 1が減少する。 R 1の抵抗値のこの減少は複数の強磁性及び非強磁性層を有するGMR素子の性質によるものであり電気リード44A,44Bに接続された外部回路により検出及び操作することができる。 同様に、磁界が接点30A及び30C間に位置する場合には、抵抗R 2が減少する。
    この抵抗値の減少は接点44A及び44Cに接続された外部回路により検出及び操作することができる。 後記するように、外部回路はR 1及びR 2のこれらの抵抗値の変化をさまざまな目的に利用することができる。

    【0025】図8Aは第1の電気回路内に組み込まれた本発明を示す。 図8AにはGMR素子20、接点30
    A,30B,30C、電気リード44A,44B,44
    C、抵抗値が等しい抵抗R 3 ,R 4 、及び差動増幅器4
    6が含まれている。 GMR素子20は通常スライダー1
    0上に配置され、図2に示すように、第1のサイドレール16の外面22もしくは図3のコア38内に配置される。 図8Bは遷移34の位置及び関連する磁界36の関数としての差動増幅器46の出力電圧を示す。

    【0026】動作上、磁気記憶媒体すなわちディスクのトラック32は後縁14付近に配置されたGMR素子2
    0を有するスライダー10の下側を移動する。 遷移34
    及び関連する磁界36は移動して最後に接点30A及び30B間に位置するようになる。 この点において、接点30A及び30B間の第1の電流経路の抵抗値はGMR
    素子20の性質により減少する。 電流が供給されると、
    抵抗値の減少により第1の電流経路を接点30Aから3
    0Bへ流れる電流は第2の電流経路を接点30Aから3
    0Cへ流れる電流よりも増大する。 第1の電流経路を流れる電流が増大することにより抵抗R 3の両端間の電圧降下は抵抗R 4の両端間の電圧降下よりも大きくなる。
    抵抗R 3及びR 4の両端間の電圧降下の差が差動増幅器46により増幅されて正の出力電圧V 0が生じる。 この出力電圧を図8Bの左側に示す。

    【0027】最後に、遷移34及び関連する磁界36は接点30Aの直下に位置するようになる。 この点において、第1の電流経路の接点30A及び30B間の抵抗値の変化は第2の電流経路の接点30A及び30C間の抵抗値の変化に等しい。 したがって、抵抗R 3及びR 4の両端間の電圧降下には差が無い。 したがって、差動増幅器46から出力電圧V 0は生じない。 このデータ位置は図8Bのx=0に示され、差動増幅器46の出力電圧は0に等しい。

    【0028】遷移34及び関連する磁界36はGMR素子20の下を移動し続け、最後に接点30A及び30C
    間で実質的に第2の電流経路の下に位置するようになる。 第2の電流経路の抵抗値は減少し第1の電流経路の抵抗値は増大して、第1の電流経路よりも第2の電流経路をより多くの電流が流れるようになる。 次に第2の電流経路を流れる電流が増加することにより抵抗R 4の両端間の電圧が増加する。 抵抗R 3及びR 4の両端間の電圧降下の差が差動増幅器46により増幅され、負の出力電圧V 0が生じる。 この出力電圧を図8Bの右側に負の出力電圧として示す。

    【0029】最後に、遷移34及び関連する磁界36が移動して接点36A及び36B間の第1の接点経路もしくは接点30A及び30C間の第2の接点経路の下に磁界36が位置しないようにされる。 この点において、抵抗R 3の両端間の電圧降下は抵抗R 4の両端間の電圧降下に等しく差動増幅器46の利得はゼロすなわち公称値となる。 別の磁界を有する新しいデータがGMR素子2
    0の下を通過するまで出力はゼロすなわち公称値を持続する。

    【0030】図9Aは第2の電気回路に組み込んだ本発明を示す線図である。 図9AにはGMR素子20、接点30A,30B,30C、電気リード44A,44B,
    44C、 実質的に抵抗値の等しい抵抗R 3 、R 4 、及び比較器48が含まれている。 一実施例では、比較器4
    8はシュミットトリガー(すなわちヒステリシスを有する比較器)である。 図9Bは図9Aの比較器48の出力電圧を磁気スイッチ50の関数として示すグラフである。

    【0031】動作上、磁気スイッチ50は“a”位置から“a'”位置へ移動することができる。 磁石52を有する磁気スイッチ50が“a”位置にある場合には、G
    MR素子20の性質により第1の電流経路の接点30A
    及び30B間の抵抗値は低い。 電流が供給されると、抵抗値が低いために第1の電流経路を接点30Aから30
    Bへ流れる電流は第2の電流経路を接点30Aから30
    Cへ流れる電流よりも増大する。 第1の電流経路を流れる電流の増大により抵抗R 3の両端間の電圧降下は抵抗R 4の両端間の電圧降下よりも増大する。 図9Bに示すように、比較器48はこの差電圧を解釈してロー(低)
    電圧出力を発生する。

    【0032】磁気スイッチ50が“a'”の位置になると、第2の電流経路の抵抗値が減少して第1の電流経路の抵抗値が増大し、したがって第1の電流経路よりも第2の電流経路をより多くの電流が流れる。 第2の電流経路を流れる電流が増大することにより抵抗R 4の両端間の電圧が増大する。 図9Bに示すように、抵抗R 3及びR 4の両端間電圧の差が比較器48により検出されてハイ電圧出力が生じる。 したがって、本発明のこの実施例は共通スイッチとして使用することができる。 しかしながら、スイッチとして使用する場合、図9Aに示す本発明を組み込んだ実施例には摩耗したり破損したりする可動接点部や火花を発生して危険な応用において爆発を生じる可能性のある電気的接点は含んでいない。

    【0033】実施例について本発明を説明してきたが、
    当業者には本発明の精神及び範囲内で形状や詳細を変更できることが理解できよう。

    【図面の簡単な説明】

    【図1】ジャイアント磁気抵抗素子を含むスライダーの線図。

    【図2】本発明の第1の実施例を組み込んだスライダーの後縁の拡大線図。

    【図3】本発明の第2の実施例を組み込んだスライダーの後縁の拡大線図。

    【図4】ジャイアント磁気抵抗素子の線図。

    【図5】ジャイアント磁気抵抗素子及びその下を移動する磁気記憶媒体のトラックの側面図。

    【図6】本発明を組み込んだスライダーの後縁の拡大線図。

    【図7】ジャイアント磁気抵抗素子の接点及び接点間の抵抗経路を示す線図。

    【図8】Aは第1の電気回路に組み込んだ本発明を示す線図。 Bは図8Aの電気回路の出力電圧を磁気記憶媒体からの遷移位置の関数として示すグラフ。

    【図9】Aは第2の電気回路に組み込んだ本発明を示す線図。 Bは図9Aの電気回路の出力電圧を磁気記憶媒体の位置の関数として示すグラフ。

    【符号の説明】

    10 スライダー 16、18 サイドレール 20 ジャイアント磁気抵抗(GMR)素子 30A,30B,30C 電気的接点 44A,44B,44C 電気リード 46 差動増幅器 48 比較器 50 磁気スイッチ 52 磁石

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