Ion implanter
专利汇可以提供Ion implanter专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且PURPOSE: To perform the ion implanting work of a wafer in a processing room with much dust and prevent the reduction of a yield by controlling the operation of an ion implanter with a particle detecting unit provided in the wafer processing room and the signal from the detecting unit.
CONSTITUTION: A particle measuring equipment 1 using laser rays is provided in a processing room 5 as a particle detecting unit, particles floating in the processing room 5 are detected, the signal is sent to an arithmetic unit 3. The arithmetic unit 3 converts the number of particles in the processing room 5 based on this signal. When the converted number of particles exceeds the fixed value, a controller 4 closes an isolation valve 7 and stops the rotation of a disk 8 with this signal to perform the control, and the operation of an ion implanter is stopped. The damage in the processing room caused by the sticking of dust or cracks on a wafer can be prevented.
COPYRIGHT: (C)1989,JPO&Japio，下面是Ion implanter专利的具体信息内容。
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