专利汇可以提供一种雪崩光电二极管专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种 雪 崩光电 二极管 ,涉及 光电二极管 技术领域,包括底层,其包括衬底、 缓冲层 和光吸收层,衬底的下表面设有 阴极 ;顶层,其设置于底层上方,顶层包括雪崩增益层和锌扩散层;锌扩散层包括非扩散区和锌扩散区,非扩散区和部分锌扩散区被 刻蚀 ,锌扩散区未被刻蚀的部分为光敏区,锌扩散区被刻蚀的部分为环形槽;非扩散区与部分环形槽的上方蒸 镀 有绝缘层,未蒸镀绝缘层的环形槽和绝缘层上方蒸镀有环形 阳极 ;环形阳极、绝缘层和阴极构成MIS结构。本实用新型的 雪崩光电二极管 ,可产生阳极电容效应,改变阳极下方p型掺杂区域边缘的 电场 分布,减小耗尽区边缘 曲率 ,降低边缘电场强度,从而抑制边缘预先击穿。(ESM)同样的 发明 创造已同日 申请 发明 专利,下面是一种雪崩光电二极管专利的具体信息内容。
1.一种雪崩光电二极管,其特征在于,其包括:
底层,其包括自下而上的衬底(1)、缓冲层(2)和光吸收层(3),所述衬底(1)的下表面设有阴极(4);
顶层,其设置于所述底层上方,所述顶层包括雪崩增益层(5)和设置于雪崩增益层(5)上方的锌扩散层(6);
所述锌扩散层(6)包括非扩散区(61)和锌扩散区(62),所述非扩散区(61)和部分锌扩散区(62)被刻蚀,所述锌扩散区(62)未被刻蚀的部分为光敏区(622),锌扩散区(62)被刻蚀的部分为环形槽(621);
所述非扩散区(61)与部分所述环形槽(621)的上方蒸镀有绝缘层(7),未蒸镀绝缘层(7)的环形槽(621)和绝缘层(7)上方蒸镀有环形阳极(8),且所述环形阳极(8)覆盖至少部分绝缘层(7);
所述环形阳极(8)、绝缘层(7)和阴极(4)构成MIS结构。
2.如权利要求1所述的雪崩光电二极管,其特征在于:所述环形阳极(8)的内侧面与所述光敏区(622)接触,所述环形阳极(8)与所述绝缘层(7)重叠部分的宽度超过10μm。
3.如权利要求1所述的雪崩光电二极管,其特征在于:所述光敏区(622)上方蒸镀有增透膜(11),所述增透膜(11)厚度为所述雪崩光电二极管的工作波长的四分之一。
4.如权利要求3所述的雪崩光电二极管,其特征在于:所述增透膜(11)由氮化硅材料制成。
5.如权利要求1所述的雪崩光电二极管,其特征在于:所述绝缘层(7)的厚度为10-
200nm,所述环形阳极(8)的环宽为12-30μm,所述光敏区(622)的上表面高于所述环形槽(621)上表面1.5-2.5μm。
6.如权利要求1所述的雪崩光电二极管,其特征在于:所述底层还包括电荷层(9),其设置于所述雪崩增益层(5)和光吸收层(3)之间;所述电荷层(9)由n型掺杂的InP材料制成。
7.如权利要求6所述的雪崩光电二极管,其特征在于:所述底层还包括渐变层(10),其设置于所述电荷层(9)和光吸收层(3)之间;所述渐变层(10)由n型InGaAsP材料制成。
8.如权利要求1所述的雪崩光电二极管,其特征在于:所述顶层由n型低掺杂或本征InP材料制成。
9.如权利要求1所述的雪崩光电二极管,其特征在于:所述衬底(1)由InP材料制成,所述缓冲层(2)由n型低掺杂的InP材料制成,所述光吸收层(3)由本征InGaAs材料制成。
10.如权利要求1所述的雪崩光电二极管,其特征在于:所述绝缘层(7)由二氧化硅或氮化硅材料制成。
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