专利汇可以提供Manufacture of surface-wave filter element专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE:To increase greatly the formation precision of a transducer, upon which curvature of a wafer due to the roughening of the reverse depends, by roughening the reverse after forming the transducer on the top of the piezoelectric wafer. CONSTITUTION:On previously mirror-finished surface 2 of wafer 1, a transducer is formed. With reverse 3 outside, wafer 1 is equipped to chuck board 11 by rubber chuck 12 and rubber chuck holder 13 and corpuscles are jetted to the reverse surface 3 by nozzle 14 for fine-surface work. Consequently, since a wafer whose reverse surface has not been roughened has a little curvature, wafer cracking lessenes in a photoetching process and at the same time, photoetching precision is improved, so that characteristics and yield of a surface-wave filter can both be improved.,下面是Manufacture of surface-wave filter element专利的具体信息内容。
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