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基于砷化镓基低漏电流悬臂梁开关或非的RS触发器

阅读:362发布:2024-01-04

专利汇可以提供基于砷化镓基低漏电流悬臂梁开关或非的RS触发器专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 的基于砷化镓基低漏 电流 双 悬臂梁 开关 或非 门 的RS触发器由直流偏置源、上拉 电阻 、GaAs基低 漏电流 双悬臂梁开关HEMT组成,在HMET栅极上方对称设计的两个悬臂梁作为 信号 的输入端,在悬臂梁下方各有一个下拉 电极 ,下拉电极上 覆盖 着一层绝缘的氮化 硅 介质层。当HMET两个输入为低电平时,悬臂梁都处于悬浮状态,此时HEMT的 沟道 被耗尽层阻断,漏极输出为高电平;当至少一个输入端为高电平时,高电平对应的悬臂梁被下拉,此时HEMT的沟道处于导通状态,漏极输出为低电平,从而实现了或非门逻辑功能。最后由两个基于GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT实现的或非门 电路 构成RS触发器。,下面是基于砷化镓基低漏电流悬臂梁开关或非的RS触发器专利的具体信息内容。

1.一种基于砷化镓基低漏电流悬臂梁开关或非的RS触发器,其特征是:该RS触发器以半绝缘GaAs衬底(1)为基底,在半绝缘GaAs衬底(1)上设有本征GaAs层(2)、本征+
AlGaAs层(3)、NAlGaAs层(4)、源极(13)、漏极(14)、栅极金属层(5)和悬臂梁(12);悬臂梁(12)材料为Au,其一端固定在锚区(8)上,锚区(8)和输入引线(9)相连,作为信号的输入端;在悬臂梁(12)的下方各有一个栅极金属层(5)和下拉电极(6),下拉电极(6)接地,下拉电极(6)的上面覆盖一层绝缘的氮化介质层(7),源极(13)、漏极(14)分别位于栅极金属层(5)的两侧,所述的漏极(14)与上拉电阻(17)相连,源极(13)接地,未与漏极(14)相连的另外两个输入引线(9)分别作为RS触发器的R端口和S端口,实现或非门逻辑功能;悬臂梁(12)的下拉电压设置为HEMT的阈值电压;本征GaAs层(2)和本征AlGaAs层(3)间的异质结形成的二维电子气通道,悬臂梁处于悬浮状态时被肖特基接触的耗尽区阻断,在施加偏置电压使悬臂梁(12)下拉时,肖特基接触的耗尽区变窄,二维电子气通道处于导通状态。
2.根据权利要求1所述的基于砷化镓基低漏电流双悬臂梁开关或非门的RS触发器,其特征是;两个悬臂梁(12)的输入引线(9)都输入低电平时,悬臂梁(12)处于悬浮态,由于二维电子气沟道被耗尽层阻断,漏极(14)输出为高电平;当至少一个悬臂梁(12)的输入引线(9)上输入高电平时,输入高电平的悬臂梁(12)被下拉,HMET的二维电子气沟道处于导通态,漏极(14)输出为低电平,由于没有栅极漏电流,使得电路中的功耗被有效地降低。

说明书全文

基于砷化镓基低漏电流悬臂梁开关或非的RS触发器

技术领域

[0001] 本发明提出了基于GaAs(砷化镓)基低漏电流双悬臂梁开关HEMT(高电子迁移率晶体管)或非门的RS触发器,属于MEMS(微电子机械系统)的技术领域。

背景技术

[0002] 触发器是数字电路中的一种基本单元,其中RS触发器是构成其它各种功能触发器的基本组成部分。目前常见的触发器单元都是采用基COMS工艺制造,应用于各种时序电路中。然而,随着对集成电路的速度和功耗的要求越来也高,GaAs基HEMT作为电路器件显示出一定的优越性。同硅材料相比,GaAs材料具备载流子迁移率高、衬底半绝缘以及禁带较宽等特征,因此用它制成的器件具有频率高、速度快、抗辐射强等优点。GaAs基HEMT以二维电子气为导电通道,电子迁移率相比普通GaAs器件更高,适用于低功耗数字集成电路领域。近年来,随着MEMS技术的快速发展,对梁结构有了比较深入的研究和认识,使本发明基于GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT或非门的RS触发器成为了可能。

发明内容

[0003] 技术问题:本发明的目的是提供一种基于GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT或非门的RS触发器,两个悬臂梁在HEMT栅极的上方,相当于开关,作为信号的输入端,通过双悬臂梁结构HEMT实现或非门功能,最后由两个或非门组合成RS触发器,电路结构得到简化,使用的晶体管数量减少,同时也减低了电路功耗。
[0004] 技术方案:本发明的基于砷化镓基低漏电流双悬臂梁开关或非门的RS触发器以+半绝缘GaAs衬底为基底,在半绝缘GaAs衬底上设有本征GaAs层、本征AlGaAs层、NAlGaAs层、源区、漏区、栅极金属层和悬臂梁;悬臂梁材料为Au,其一端固定在锚区上,锚区和输入引线相连,作为信号的输入端;在悬臂梁的下方各有一个栅极金属层和下拉电极,下拉电极接地,下拉电极的上面覆盖一层绝缘的氮化硅介质层,源区、漏区分别位于栅极金属层的两侧,所述的漏极与上拉电阻相连,源极接地,未与漏极相连的另外两个输入引线分别作为RS触发器的R端口和S端口,实现或非门逻辑功能;悬臂梁的下拉电压设置为HEMT的阈值电压;本征GaAs层和本征AlGaAs层间的异质结形成的二维电子气通道,悬臂梁处于悬浮状态时被肖特基接触的耗尽区阻断,在施加偏置电压使悬臂梁下拉时,肖特基接触的耗尽区变窄,二维电子气通道处于导通状态。
[0005] 两个悬臂梁的输入引线都输入低电平时,悬臂梁处于悬浮态,由于二维电子气沟道被耗尽层阻断,漏极输出为高电平;当至少一个悬臂梁的输入引线上输入高电平时,输入高电平的悬臂梁被下拉,HMET的二维电子气沟道处于导通态,漏极输出为低电平,由于没有栅极漏电流,使得电路中的功耗被有效地降低。
[0006] 有益效果:
[0007] 本发明相对于现有的RS触发器具有以下优点:
[0008] 1.本发明采用HEMT,具有截止频率高、工作速度快、短沟道效应小和噪声性能好的优点;
[0009] 2.本发明通过双悬臂梁开关HEMT实现或非门,结构简单,减少了晶体管的数量,降低了成本;
[0010] 3.本发明由于采用悬臂梁结构,使RS触发器在悬臂梁处于悬浮态时漏电流减小,从而有效地降低了功耗;
[0011] 4.本发明通过采用悬臂梁结构,HMET的导通和关断差异明显,有效地减少了RS触发器的逻辑错误。附图说明
[0012] 图1为本发明基于GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT或非门的RS触发器俯视图,
[0013] 图2为本发明GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT的P-P’向的剖面图,[0014] 图3为本发明GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT的A-A’向的剖面图,[0015] 图4为GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT在悬臂梁下拉时的沟道示意图,[0016] 图中包括:半绝缘GaAs衬底1,本征GaAs层2,本征AlGaAs层3,N+AlGaAs层4,栅极金属层5,下拉电极6,氮化硅介质层7,悬臂梁锚区8,输入引线9,下拉电极引线10,压焊11,悬臂梁12,源极13,漏极14,有源区引线孔15,有源区引线16,上拉电阻17。

具体实施方式

[0017] 下面结合附图对本发明的具体实施方式做进一步说明。
[0018] 参见图1-4,本发明提出了一种基于GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT或非门的RS触发器。触发器主要包括:直流偏置源、上拉电阻17、GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT。
[0019] GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT,用于实现或非门逻辑功能。选择半绝缘的+GaAs作为衬底1,在衬底1上含有本征GaAs层2、本征AlGaAs层3、NAlGaAs层4、源极13、漏极14、栅极金属层5和两个悬臂梁12。悬臂梁12分别横跨在两个锚区8上方,作用相当于开关,锚区与输入引线相连9相连,悬臂梁12的下方各有一个下拉电极6,下拉电极6接地,下拉电极6上覆盖一层氮化硅介质层7。本征GaAs层2和本征AlGaAs层3之间的异质结形成二维电子气通道,HEMT为增强型,悬臂梁12处于悬浮态时由于栅极金属层5与+
NAlGaAs层4形成肖特基接触,其耗尽区会阻断二维电子气通道;设置悬臂梁12的下拉电压等于HEMT的阈值电压,当悬臂梁12处于下拉状态时,对应的肖特基接触耗尽区变窄,二维电子气处于导通状态。
[0020] GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT的漏极14与上拉电阻17相连,源极13接地,组成了或非门电路。当两个悬臂梁12的输入引线都输入低电平时,悬臂梁12处于悬浮态,由于二维电子气沟道被耗尽层阻断,漏极14输出为高电平。当至少一个悬臂梁12的输入引线9上输入高电平时,输入高电平的悬臂梁12被下拉,HMET的二维电子气沟道处于导通态,漏极14输出为低电平。基于GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT实现的与非门电路对应真值表如下:
[0021]
[0022] RS触发器由两个或非门电路组合而成,其中每一个GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT的漏极14连接到另一个GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT的输入引线9上,而HEMT未与漏极14相连的另外两个输入引线9分别作为RS触发器的R端口和S端口。左边的为RS触发器的S端口,右边的为RS触发器的R端口,对应左边的漏极14为RS触发器输出端口Q,右边的漏极14为RS触发器输出端口Q非。当R端输入为高电平时,S端输入为低电平时,Q输出为高电平,Q非输出为低电平,触发器置1;当R端输入为低电平、S端输入为高电平时,Q输出为低电平,Q非输出为高电平,触发器置0;当RS端均输入为低电平时,触发器保持状态不变;RS端均有效时,触发器状态不确定。
[0023] 当悬臂梁的输入为低电平而处于悬浮态时,由于没有栅极漏电流,使得电路中的功耗被有效地降低。
[0024] 本发明的GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT制备方法如下:
[0025] 1)准备半绝缘GaAs衬底1;
[0026] 2)分子束外延法生长一层厚度为60nm的本征GaAs层2;
[0027] 3)分子束外延法生长一层厚度为20nm的本征AlGaAs层3;
[0028] 4)生长一层厚度为20nm的N+型AlGaAs层4,掺杂浓度为1×1018cm-3,控制厚度与掺杂浓度,使得HEMT管为增强型;
[0029] 5)生长一层厚度为50nm的N+型GaAs层,掺杂浓度为3.5×1018cm-3;
[0030] 6)台面腐蚀隔离有源区;
[0031] 7)生长氮化硅;
[0032] 8)光刻氮化硅层,刻出源漏区域,进行磷(P)离子注入,掺杂浓度为18
3.5×10 cm-3,形成源区13和漏区14;
[0033] 9)涂覆光刻胶,光刻去除电极接触位置的光刻胶;
[0034] 10)真空蒸发金锗镍/金;
[0035] 11)剥离,合金化形成欧姆接触
[0036] 12)涂覆光刻胶,光刻去除HEMT栅极5位置的光刻胶;
[0037] 13)生长一层Ti/Pt/Au,厚度为0.5μm;
[0038] 14)去除光刻胶以及光刻胶上的金属,形成肖特基接触的栅极金属层5;
[0039] 15)涂覆光刻胶,光刻去除下拉电极6、下拉电极引线10和悬臂梁锚区8位置的光刻胶;
[0040] 16)蒸发第一层金,厚度为0.3μm;
[0041] 17)去除光刻胶以及光刻胶上的金,形成下拉电极6和下拉电极引线10,以及悬臂梁锚区8的第一层金;
[0042] 18)生长一层氮化硅介质层7,厚度为0.2μm;
[0043] 19)涂覆光刻胶,保留下拉电极6上的光刻胶;
[0044] 20)利用反应离子刻蚀,形成下拉电极6上的氮化硅介质层7;
[0045] 21)淀积并光刻聚酰亚胺牺牲层:涂覆聚酰亚胺牺牲层,要求填满凹坑,聚酰亚胺牺牲层的厚度决定了悬臂梁12与栅极金属层5间的距离;光刻聚酰亚胺牺牲层,仅保留悬臂梁12下方的牺牲层;
[0046] 22)涂覆光刻胶,光刻去除悬臂梁12、输入引线9、悬臂梁锚区8、压焊块11位置的光刻胶;
[0047] 23)蒸发500/1500/300A°的Ti/Au/Ti的种子层,去除顶部的Ti层后再蒸发一层厚度为2μm的金层;
[0048] 24)去除光刻胶以及光刻胶上的金,形成悬臂梁12、输入引线9、悬臂梁锚区8、压焊块11;
[0049] 25)释放聚酰亚胺牺牲层:显影液浸泡,去除悬臂梁12下的聚酰亚胺牺牲层,去离子稍稍浸泡,无水乙醇脱水,常温下挥发,晾干。
[0050] 区分是否为该结构的标准如下:
[0051] 本发明的基于GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT或非门的RS触发器,在HEMT栅极的上方,对称设计有两个悬臂梁,其下拉电压的大小设置为HEMT的阈值电压,悬臂梁横跨在锚区上,锚区与输入引线相连,作为信号的输入端。在悬臂梁下方各有一个下拉电极,下拉电极上覆盖着一层绝缘的氮化硅介质层。GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT用于实现或非门逻辑,当HMET两个输入为低电平时,悬臂梁都处于悬浮状态,此时HEMT的沟道被耗尽层阻断,漏极输出为高电平;当至少一个输入端为高电平时,高电平对应的悬臂梁被下拉,此时HEMT的沟道处于导通状态,漏极输出为低电平。由两个基于GaAs基低漏电流双悬臂梁开关HEMT实现的或非门电路构成RS触发器。
[0052] 满足以上条件的结构即视为本发明的基于GaAs基低漏电流悬臂梁开关HEMT或非门的RS触发器。
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