专利汇可以提供一种基于全息聚合物分散液晶光栅的有机激光器专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种基于全息 聚合物 分散 液晶 光栅的有机 激光器 及其制备方法,包括以下步骤:(1)将有机发光材料溶于 有机 溶剂 ,制成有机溶液;(2)将有机溶液 真空 蒸 镀 或者 旋涂 到透明基底上,获得有机发光 薄膜 ;(3)将具有有机发光薄膜的透明 基板 与另一片干净的透明基板堆叠,用隔垫物在基板四个 角 隔开,用 固化 胶封边,制备成液晶盒;(4)在暗室中,将光敏 单体 、液晶、光引发剂、共引发剂、交联剂混合均匀,并通注入到上述液晶盒中;(5)将液晶盒在两束相干光下曝光,形成干涉图案,经固化后得到基于全息聚合物分散液晶光栅的有机激光器。其中所述全息聚合物分散液晶光栅为所述激光器的 谐振腔 ,所述有机发光薄膜为所述激光器的增益介质。,下面是一种基于全息聚合物分散液晶光栅的有机激光器专利的具体信息内容。
1.一种基于全息聚合物分散液晶光栅的有机激光器,其特征在于,该器件结构为透明基底/有机发光薄膜/全息聚合物分散液晶光栅/透明基底,激光器参数可独立调整,改变全息聚合物分散液晶光栅的周期,出射激光波长随之改变,对所述激光器施加电压时,激光器出射波长可连续调谐。
2.权利要求1所述的一种基于全息聚合物分散液晶光栅的有机激光器,其特征在于,其制作方法包括以下步骤:
(1)将有机发光材料溶解在有机溶剂中,制成浓度为 5~50mg/ml 的有机溶液;
(2)将有机溶液真空蒸镀或者旋涂到透明基底上,获得有机发光薄膜,薄膜厚度为60~
200 nm;
(3)将上述具有有机发光薄膜的基板与另一片干净的透明基板堆叠,用隔垫物在基板四个角隔开,用固化胶封边,制备成液晶盒,液晶盒厚度为3~20μm;
(4)在暗室中,将50~70 wt.%的光敏单体、20~40 wt.%的液晶、0.01~10 wt.%的光引发剂、0.01~10 wt.%的共引发剂、5~20 wt.%的交联剂混合均匀,并通过毛细作用灌注到上述液晶盒中;
(5)将液晶盒在两束相干光下曝光,形成干涉图案,经固化后得到基于全息聚合物分散液晶光栅的有机激光器。
3.按照权利要求2的方法,其特征在于,所述有机发光材料为8-羟基喹啉铝(Alq3)、并五苯、三苯基胺、富勒烯、酞菁、苝衍生物、花菁等有机小分子材料,或者9,9- (二辛基芴 -2,
7)- 交替共聚 -(1, 4-{2,1’,3}- 苯并噻唑)(F8BT)、(9,9- 二辛基芴 -2,7)- 共聚 - 二 (4- 甲氧基苯基 )- 芴 (F8DP)、(9,9- 二辛基芴 -2,7)- 共聚 - 双 -N,N’-(4- 丁基苯基)-双 -N,N’- 苯基 -1,4- 苯 3 二胺 (PFB)、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1,4-苯乙炔] (MEH-PPV)、聚对苯乙炔(PPV)等高分子发光材料中的一种。
4.按照权利要求2的方法,其特征在于,所述有机溶剂为苯、二甲苯、甲苯、氯苯、二氯苯、四氢呋喃、氯仿、三氯甲烷、环己烷、戊烷、己烷或辛烷中的一种。
5.按照权利要求2的方法,其特征在于,所述透明基底为玻璃、硅片等硬性基底,或者聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)超薄玻璃等柔性基底,基底表面涂覆有氧化氧化铟锡(ITO)或掺氟二氧化锡(FTO)导电材料。
6.按照权利要求2的方法,其特征在于,所述光敏单体为丙烯酸酯类单体或者硫醇烯基单体,其中所述丙烯酸酯类单体为二季戊四醇羟基五丙烯酸酯 (DPHPA)、邻苯二甲酸二烯二醇酯(PDDA)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)中的一种或者几种,硫醇烯基单体为季戊四醇四-3-巯基丙酸酯 (PETMA)、三羟甲基丙烷二烯丙基醚(TMPDE)、异佛尔酮二异氰酸酯(NOA65(I))、苯并菲酮(NOA65(II))中的一种或者几种。
7.按照权利要求2的方法,其特征在于,所述液晶为TEB30A、E7、5CB、7CB、8CB、5CT中的一种或者几种。
8.按照权利要求2的方法,其特征在于,所述光引发剂为孟加拉玫瑰红、Irgacure 784、薯红Y、罗丹明6G、亚甲基蓝、香豆素6、香豆素343、二碘荧光素中的一种或者几种。
9.按照权利要求2的方法,其特征在于,所述共引发剂为N-乙基马来酰胺(NEMA)、N-苯基甘氨酸(NPG)、三乙醇胺(TEA)、乙酰苯基甘氨酸(APG)、3-溴苯基甘氨酸(3-PTG)、N-苯基甘氨酸乙酯(NPGEE)、对苯基甘氨酸(PPG)中的一种或者几种;所述交联剂为N-乙烯基吡咯烷酮(NVP)、邻苯二甲酸二丁酯(DBP)、邻苯二甲酸二环己酯(DCHP)和邻苯二甲酸二异丁酯(DIBP)中的一种或者几种。
10.按照权利要求2的方法,其特征在于,所述两束相干光形成干涉图案的激光光源为波长450~550nm的连续激光,曝光光强为1~20mW/cm2。
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