专利汇可以提供Manufacture for semiconductor device专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE:To reduce the switching loss without increasing the forward voltage drop, by injecting Au ions by the use of a mask for a part of the surface of a gate region before thermal diffusion, when forming diffusion region such as Au shich is the center of carrier trapping for the required parts of the gate region.,下面是Manufacture for semiconductor device专利的具体信息内容。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
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