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内锅和烹饪器具

阅读：181发布：2020-05-08

专利汇可以提供内锅和烹饪器具专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明提供一种内锅和烹饪器具，所述内锅包括在顶部形成开口的锅壁，所述锅壁包括铁基层，所述铁基层的内表面和/或外表面形成有第一搪瓷层和覆盖在所述第一搪瓷层上的第二搪瓷层，其中所述第二搪瓷层由第二搪瓷料制成，所述第二搪瓷料的主要成分包括氧化硅、氧化铝、氧化锆和氧化钛，其中所述氧化铝在所述第二搪瓷料中的占比为5％～15％。上述方案可以使内锅具有较高的硬度和耐磨度，并且成型工艺简单，使内锅更加牢固可靠。，下面是内锅和烹饪器具专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种内锅，其特征在于，所述内锅(1)包括在顶部形成开口的锅壁，所述锅壁包括铁基层(4)，所述铁基层的内表面和/或外表面形成有第一搪瓷层(5)和覆盖在所述第一搪瓷层(5)上的第二搪瓷层(6)，其中所述第二搪瓷层由第二搪瓷料制成，所述第二搪瓷料的主要成分包括氧化硅、氧化铝、氧化锆和氧化钛，其中所述氧化铝在所述第二搪瓷料中的占比为5％～15％。
2.根据权利要求1所述的内锅，其特征在于，所述第一搪瓷层(5)由第一搪瓷料制成，所述第一搪瓷料的主要成分包括氧化钴和氧化镍。
3.根据权利要求1所述的内锅，其特征在于，所述第二搪瓷料的颗粒度为110～130目。
4.根据权利要求1所述的内锅，其特征在于，所述锅壁还包括不粘涂层(7)，所述不粘涂层覆盖在位于所述锅壁的内表面的第二搪瓷层(6)上。
5.根据权利要求4所述的内锅，其特征在于，所述不粘涂层(7)为陶瓷材料。
6.根据权利要求1所述的内锅，其特征在于，所述第二搪瓷层(6)的厚度为40～100um。
7.根据权利要求1所述的内锅，其特征在于，所述第一搪瓷层(5)的厚度为80～160um。
8.一种烹饪器具，其特征在于，包括如权利要求1-7中任一项所述的内锅。

说明书全文

内锅和烹饪器具

技术领域

[0001] 本发明总地涉及烹饪器具领域，且更具体地涉及一种内锅和烹饪器具。

背景技术

[0002] 现在市场上有很多通过电磁感应进行加热的烹饪器具，这种烹饪器具通常采用铁质内胆。但是由于铁材质容易生锈，因而通常在铁质内胆的表面进行搪瓷处理以形成一层搪瓷层。但是现有的搪瓷处理产生的搪瓷层比较脆、不耐碰撞，碰撞后容易发生绷瓷，从而导致铁材质失去保护层而生锈，产生有毒物质而影响消费者健康。

[0003] 因此，需要提供一种内锅和烹饪器具，以至少部分地解决上面提到的问题。

发明内容

[0004] 为至少部分地解决上述技术问题，根据本发明的第一方面，提供了一种内锅，所述内锅包括在顶部形成开口的锅壁，所述锅壁包括铁基层，所述铁基层的内表面和/或外表面形成有第一搪瓷层和覆盖在所述第一搪瓷层上的第二搪瓷层，其中所述第二搪瓷层由第二搪瓷料制成，所述第二搪瓷料的主要成分包括氧化硅、氧化铝、氧化锆和氧化钛，其中所述氧化铝在所述第二搪瓷料中的占比为5％～15％。

[0005] 根据本发明的内锅通过在锅壁的内表面和/或外表面首先形成第一搪瓷层，可以提高搪瓷材料与铁基材料的结合力，并且可以为内锅提供基本的防护性能；另外，通过在第一搪瓷层上形成第二搪瓷层，并使氧化铝在第二搪瓷料中的占比为5％～15％，不仅可以提高锅壁的硬度和耐磨度，并且还可以使成形后的第二搪瓷层具有一定的粗糙度，还可以使内锅实现不粘功能。上述方案成型工艺简单，使内锅更加牢固耐用。

[0006] 优选地，所述第二搪瓷料的颗粒度为110～130目。该方案可以提高第二搪瓷层的致密度，从而可以提高锅壁的硬度和耐磨度。

[0007] 优选地，所述第一搪瓷层由第一搪瓷料制成，所述第一搪瓷料的主要成分包括氧化钴和氧化镍。该方案可以促进第一搪瓷层与铁基层的附着性能。

[0008] 优选地，所述锅壁还包括不粘涂层，所述不粘涂层覆盖在位于所述锅壁的内表面的第二搪瓷层上。该方案可以进一步提高内锅的不粘性能，并且由于第二搪瓷层具有一定的粗糙度，还可以省略在第二搪瓷层上进行喷砂等粗糙化步骤，而将不粘涂层直接喷涂在第二搪瓷层上，从而可以节省材料，降低成本。

[0009] 优选地，所述不粘涂层为陶瓷材料。由于陶瓷材料和搪瓷材料都属于无机材料，性能接近，因而结合力更好。

[0010] 优选地，所述第二搪瓷层的厚度为40～100um。该方案可以提高锅壁的硬度和耐磨度。

[0011] 优选地，所述第一搪瓷层的厚度为80～160um。该方案可以提高搪瓷材料与铁基材料的结合力，并提高锅壁的硬度和耐磨度。

[0012] 本发明还提供一种烹饪器具，其包括如上任一项所述的内锅。根据本发明的烹饪器具通过在锅壁的内表面和/或外表面首先形成第一搪瓷层，可以提高搪瓷材料与铁基材料的结合力，并且可以为内锅提供基本的防护性能；另外，通过在第一搪瓷层上形成第二搪瓷层，并使氧化铝在第二搪瓷料中的占比为5％～15％，不仅可以提高锅壁的硬度和耐磨度，并且还可以使成形后的第二搪瓷层具有一定的粗糙度，还可以使内锅实现不粘功能。上述方案成型工艺简单，使内锅更加牢固耐用。附图说明

[0013] 为了使本发明的优点更容易理解，将通过参考在附图中示出的具体实施方式更详细地描述上文简要描述的本发明。可以理解这些附图只描绘了本发明的典型实施方式，因此不应认为是对其保护范围的限制，通过附图以附加的特性和细节描述和解释本发明。

[0014] 图1为根据本发明的一个优选实施方式的内锅的整体示意图；

[0015] 图2为根据本发明的一个优选实施方式的内锅的局部放大示意图；

[0016] 图3为根据本发明的一个优选实施方式的内锅的制备方法的流程图。

具体实施方式

[0017] 在下文的讨论中，给出了细节以便提供对本发明更为彻底的理解。然而，本领域技术人员可以了解，本发明可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在特定的示例中，为了避免与本发明发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行详尽地描述。需要说明的是，本文中所使用的术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并非限制。

[0018] 本发明公开了一种内锅和包括该内锅的烹饪器具。根据本发明的内锅优选地可以应用于通过电磁感应的方式进行加热的烹饪器具，当然其也可以应用于通过例如加热盘进行加热的烹饪器具。根据本发明的烹饪器具可以是电饭煲、电压力锅或其它电烹饪器具。除了内锅的结构之外，根据本发明的烹饪器具具有与常规烹饪器具大致相同的结构，因此下文将对本发明的内锅进行详细描述。

[0019] 如图1所示，根据本发明的内锅1包括锅壁，内锅1为由锅壁绕其中心轴线形成的回转体，内锅1包括上部开口。锅壁包括锅口部2，锅口部2形成上部开口。

[0020] 优选地，锅口部2还包括相对于锅壁向外延伸的翻边3，从而方便用户把持内锅1。

[0021] 如图2所示，锅壁包括铁基层4，铁基层4的主基材为铁。铁基层4的内表面形成有第一搪瓷层5和形成在第一搪瓷层5上的第二搪瓷层6，优选地，铁基层4的外表面也形成有第一搪瓷层5和形成在第一搪瓷层5上的第二搪瓷层6。第二搪瓷层6优选地全部覆盖第一搪瓷层5。需要说明的是，本文中所提及的方向性术语“内”是指朝向内锅1内部的方向，“外”是指背对内锅1内部的方向。

[0022] 第一搪瓷层5的厚度优选为80～160um，进一步优选地，第一搪瓷层5的厚度可以为90～120um，例如本领域技术人员可以根据需要将第一搪瓷层5的厚度设置为90um、95um或者100um。第一搪瓷层5直接与铁基层4接触，附着在铁基层4上。第一搪瓷层5由第一搪瓷料制成，第一搪瓷料的主要成分包括氧化钴和氧化镍。该方案可以提高第一搪瓷层5与铁基层
4的附着性能，使其不易脱落，从而可以为内锅1提供基本的防护性能，并且提高内锅的稳定性。当然，本领域技术人员也可以根据实际需要增加其他成分，例如为提高耐酸性，可以加入氧化钛。

[0023] 第二搪瓷层6附着在第一搪瓷层5上，用于加强对内锅1的防护性能。第二搪瓷层6的厚度为40～100um，进一步优选地，第二搪瓷层6的厚度可以为60～80um，例如本领域技术人员可以根据需要将第二搪瓷层6的厚度设置为60um、70um或者80um。该方案通过在第一搪瓷层5之上喷涂第二搪瓷层6，可以提高锅壁的内表面和外表面的硬度和耐磨度，从而使内锅1的结构更坚固耐用，进而可以提高使用寿命。

[0024] 第二搪瓷层6由第二搪瓷料构成，其中第二搪瓷料包括氧化硅、氧化铝、氧化锆和氧化钛，其中氧化铝在第二搪瓷料中的占比为5％～15％，优选为8％～12％。该方案可以增加第二搪瓷层6的表面粗糙度，并且该方案当在应用至锅壁的内表面时尤其有利，因为其可以在一定程度上增加内锅的不粘性能，此外，该方案中通过增加第二搪瓷层6的表面粗糙度还可以便于在第二搪瓷层6上附着不粘涂层7(后文描述)。优选地，第二搪瓷层6的表面粗糙度在3～5um之间，例如本领域技术人员可以根据需要将第二搪瓷层6的表面粗糙度设置为3um、4um或者5um等。

[0025] 可以理解，本领域技术人员也可以根据需要仅在铁基层4的内表面设置第一搪瓷层5和第二搪瓷层6，或者仅在铁基层4的外表面设置第一搪瓷层5和第二搪瓷层6，但是优选是在铁基层4的内外表面都设置第一搪瓷层5和第二搪瓷层6。

[0026] 为了进一步提高内锅的不粘性能，优选地，锅壁的内表面还设置有不粘涂层7，不粘涂层7覆盖在第二搪瓷层6上。如上文所述，由于第二搪瓷层6具有一定的表面粗糙度，因而还可以省略在喷涂不粘涂层7之前在第二搪瓷层6上进行喷砂等粗糙化的步骤，而可以将不粘涂层7直接喷涂在第二搪瓷层6上，从而可以节省材料和工序，降低成本。进一步优选地，不粘涂层7为陶瓷材料。由于陶瓷材料和搪瓷材料都属于无机材料，性能接近，因而结合力更好，不容易脱落。当然，陶瓷材料也可以换成其他的不粘材料，例如PTFE材料等。

[0027] 下文参照图3详细描述根据本发明的内锅的制备方法。

[0028] 首先执行步骤S1(即成型步骤)，形成具有锅壁的内锅。

[0029] 该成型步骤可以采用例如拉伸成型的方式，即，将铁基材料形成的片材放入拉伸设备模具中进行拉伸，以初步形成具有锅壁的内锅。优选地，为了增加导磁效果，还可以在拉伸步骤之前在板材上压制花纹图案。可以理解，在拉伸步骤之后可以将初步形成的内锅的开口部调整为要求尺寸R角，并切除多余的边料。

[0030] 优选地，在成型步骤之后可以接着执行清洗步骤，将初步成型的内锅进行除油除脂处理，去除内锅表面残留的油脂物。

[0031] 接着可以执行步骤S2(即第一形成步骤)，在锅壁的内表面和外表面形成第一搪瓷层5。

[0032] 在该步骤中，可以第一搪瓷料湿喷在锅壁的内外表面上，并进行高温烧结。例如可以在700～850℃的温度下烧结5～10分钟，以形成第一搪瓷层5。第一搪瓷层5的形成方法和本领域已知的搪瓷层的形成方法大致相同，为了简洁，在此不再详细描述。

[0033] 接着可以执行步骤S3(即第二形成步骤)，在第一搪瓷层5上形成第二搪瓷层6。

[0034] 其中，第二形成步骤可以进一步包括：

[0035] ·配料步骤，在配料步骤中将包括氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钛等的第二搪瓷料配齐，其中，氧化铝占比8％～12％；

[0036] ·研磨步骤，其中研磨步骤优选采用球磨机进行，其中研磨频率为20～40圈/分钟，优选为30圈/分钟。研磨时间为4～7小时，最佳为5.5小时，以避免研磨时间太长降低最终形成的第二搪瓷层6的粗糙度而影响不粘涂层7附着力，而研磨时间太短则会不适当地增加第二搪瓷层6的表面粗糙度，影响手感。研磨后的第二搪瓷料的颗粒度设置为110～130目，优选为120～125目；

[0037] ·喷涂步骤，在喷涂步骤中，将研磨好的第二搪瓷料均匀湿喷在第一搪瓷层5上；

[0038] ·烧结步骤，其中可以在780～860℃的温度下烧结3～10分钟，以形成第二搪瓷层6。进一步优选地，烧结温度为810～830℃，烧结时间4～5分钟。

[0039] 优选地，在第二形成步骤之后还可以包括在位于锅壁的内表面的第二搪瓷层6上喷涂不粘涂层7的步骤。在该步骤中，可以将例如陶瓷材料的不粘材料喷涂在第二搪瓷层6上，之后进行高温烧结。该方案可以使内锅实现不粘功能，并且可以降低内锅的散热速度，实现保温功能。优选地，为了进一步增加不粘涂层7与第二搪瓷层6之间的附着力，在喷涂不粘涂层7之前可以先进行喷砂处理，即对内锅的内表面进行喷砂，以增加其粗糙度，优选地，该粗糙度可以为2～6um，最佳为6um。

[0040] 接下来根据需要还可以执行在内锅的内表面印制水位刻度线；在内锅外表面印制LOGO图案；对内锅口部进行包边以防止口部磕碰等。

[0041] 应当了解，上述实施方式只是制造内锅的一种实施方式，其中各个步骤并不都是必要的，可以根据需求增加或减少其中的一个或多个步骤；并且，各个步骤的顺序也并不必然是固定的，可以根据需求调节其先后操作顺序。

[0042] 根据本发明的内锅制备方法通过在锅壁的内表面和外表面首先形成第一搪瓷层5，可以提高搪瓷材料与铁基材料的结合力，并且可以为内锅提供基本的防护性能；另外，通过在第一搪瓷层5上形成第二搪瓷层6，并使氧化铝在第二搪瓷料中的占比为5％～15％，不仅可以提高锅壁的硬度和耐磨度，并且还可以使成形后的第二搪瓷层6具有一定的粗糙度，还可以使内锅实现不粘功能。上述方案成型工艺简单，使内锅更加牢固耐用。

[0043] 应当了解，以上仅详细描述了本发明的优选实施方式，本发明并不限于上述优选实施方式，在不脱离本发明的范围的情况下，本领域技术人员可以对上述实施方式进行适当的修改和变形。例如，由于第二搪瓷层具有足够的的硬度和耐磨度，因此可以根据需要不在第二搪瓷层上设置不粘涂层。

[0044] 除非另有定义，本文中所使用的技术和科学术语与本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中使用的术语只是为了描述具体的实施目的，不是旨在限制本发明。本文中出现的诸如“部件”等术语既可以表示单个的零件，也可以表示多个零件的组合。本文中出现的诸如“安装”、“设置”等术语既可以表示一个部件直接附接至另一个部件，也可以表示一个部件通过中间件附接至另一个部件。本文中在一个实施方式中描述的特征可以单独地或与其它特征结合地应用于另一个实施方式，除非该特征在该另一个实施方式中不适用或是另有说明。

[0045] 本发明已经通过上述实施方式进行了说明，但应当理解的是，上述实施方式只是用于举例和说明的目的，而非意在将本发明限制于所描述的实施方式范围内。本领域技术人员可以理解的是，根据本发明的教导还可以做出更多种的变型和修改，这些变型和修改均落在本发明所要求保护的范围以内。

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