专利汇可以提供Manufacture of semiconductor element专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE: To reduce the mask matching frequency as well as to enhance the integral degree,, by giving an etching using the insulator film pattern provided on the semiconductor substrate as the mask, forming a concave parts on the substrate while forming an eaves at the pattern end part, and then forming both P-type and the N-type regions within the substrate positioning between the concave parts.
COPYRIGHT: (C)1978,JPO&Japio,下面是Manufacture of semiconductor element专利的具体信息内容。
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