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一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置

阅读:214发布:2020-05-08

专利汇可以提供一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种结合多 光子 激发的多模式阵列型扫描成像装置属于光学显微测量领域,针对透明薄样品和厚散射样品的不同成像需求,通过不同 光源 的选取,设计多光子激发成像与普通宽场 荧光 成像相结合的多模式成像装置,两光源经分束镜的组合可实现多种模式的切换。使用一个固定的微透镜阵列精确控制照明模式和激发点的 位置 ,以生成稀疏的焦点照明,完成对样品的快速扫描,实现透明样品和厚样品的快速双倍 分辨率 成像,同时提高厚散射样品的图像 对比度 。此外,在成像系统中引入自适应像差校正单元,减小或消除系统像差,提升多光子成像模式下的成像深度和成像 质量 。,下面是一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置专利的具体信息内容。

1.一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,其特征在于所述装置包括:激发光源单元、光源控制单元、光束变换单元、像差校正单元、多焦点激光扫描单元、荧光信号激发单元、荧光信号探测单元、图像重建单元;
其中:所述激发光源单元包括半导体激光器和脉冲飞秒激光器,根据不同样品的成像需求选用不同的激发光源;
所述光源控制单元置于激发光源单元之后,包括光学快、偏振片、半波片,光学快门可实现光路的开关功能,偏振片和半波片可实现光束的偏振控制和强度控制;
所述光束变换单元置于光源控制单元之后,由一对焦距不同的透镜组组成,用于调整激发光束的尺寸;
所述像差校正单元置于光束变换单元之后,其包括夏克哈特曼波前传感器、可变形镜、透镜组,夏克波特曼波前传感器用于波前信号的传感,可变形镜用于像差校正;通过夏克波特曼传感器获取波前信号,通过泽尼克波前模式的振幅与变形镜上电压之间的相互作用矩阵计算出变形镜上所需校正电压,施加该校正电压改变可变形镜的偏转,从而实现自适应消除或减少像差;前后单元之间通过透镜组连接;
所述多焦点激光扫描单元置于像差校正单元之后,该单元包括微透镜阵列、二维扫描振镜、透镜组、分束镜、物镜;激发光源通过微透镜阵列后生成阵列式照明光源,使得原始的单点照明形式转化为并行的多焦点照明形式,其后安装有二维扫描振镜以实现扫描功能,一对焦距相等的透镜对透镜L3和透镜L4,分居在二维扫描透镜的两侧,可实现在不改变入射角度的情况下对样品进行扫描;透镜L4后方设置有管状透镜,该管状透镜的焦距大于透镜L3和透镜L4的焦距,可保证经振镜扫描的图像经管状透镜后放置的分束镜反射后可充满物镜的后焦面(即样品平面),在样品上产生衍射受限的光斑作为激发光源;
所述荧光探测单元置于多焦点激光扫描单元之后,受激发射的荧光从同一物镜出发,样品置于三维微位移台上以实现微小的位移调整;激发荧光通过焦距不同的透镜对实现光束扩展,经滤光片滤除杂散光后成像到CCD上成像;
所述图像重建与处理系统,与所述像差校正单元和采集图像的CCD相连,用于对采集到的扫描图像进行后续的数字图像处理
2.根据权利要求书1所述的一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,其特征在于所述微透镜阵列可精确控制照明模式和激发点的位置,以生成稀疏的阵列式焦点照明。
3.根据权利要求书1所述的一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,其特征在于所述多光子激发模式和普通宽场荧光成像模式可通过分束镜将两路光束结合起来,实现不同成像模式的拓展组合。
4.根据权利要求书1所述的一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,其特征在于所述二维扫描振镜位于一对焦距为相同的透镜之间,可实现在不改变入射角度的情况下将光束射在样品平面上。
5.根据权利要求书1所述的一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,其特征在于包括以下步骤:
(1)照明系统包括半导体激光器和脉冲飞秒激光器;
(2)光束通过微透镜阵列生成阵列式多焦点照明光束;
(3)阵列式多焦点照明光束激发样品产生荧光信号;
(4)荧光信号探测系统收集荧光信号,并进行滤波和成像操作;
(5)图像重建处理系统对采集到的图像进行重建,重构出最终的图像。
6.根据权利要求书1所述的一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,其特征在于所述微透镜阵列放置在一个可机械移动的平台上以满足不同波长光源的聚焦需求。
7.根据权利要求书1所述的一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,其特征在于所述的二维扫描振镜也可用声光偏转器代替。
8.根据权利要求书1所述的一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,其特征在于所述像差校正单元中的变形镜也可以用空间光调制器代替,或者为可变形镜和空间光调制器的组合系统;所述像差校正单元也可替换为无波前探测形式,在无波前探测形式中,无需夏克哈特曼波前传感器。

说明书全文

一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置

技术领域

[0001] 一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置属于光学显微测量领域,主要涉及一种可以实现双光子激发和普通荧光检测的多焦点扫描显微成像装置。具体涉及到一种结合传统宽场成像和双光子成像的多模式阵列型扫描成像装置,具体说是在不同的成像需求下通过半导体激光器和脉冲飞秒激光器分别激发样品荧光,使用一个固定的微透镜阵列精确控制照明模式和激发点的位置,以生成稀疏的焦点照明,实现对样品的快速扫描,并提高成像对比度。同时通过自适应像差校正装置减小系统像差,提高成像质量

背景技术

[0002] 近年来,超分辨显微技术在提升图像分辨率和成像速度方面取得了很大的进展,如光激活定位显微镜、随机光学重建显微镜、受激发射损耗显微镜等突破了传统的衍射极限,高分辨率的获取通常带来图像获取速度的下降和样品制备复杂度的增加,例如受激发射损耗显微镜可以提供40nm的分辨率,但需要使用特异性的荧光团,且成像速度慢,约0.1-1Hz,此外还需要提供比传统共焦显微镜高的照明强度,这也限制了长时间观察活体细胞的应用。
[0003] 一种超分辨显微成像技术为结构光照明显微成像,其分辨率是普通荧光显微镜的两倍,光照强度与宽场显微的光照强度数值相当,且对荧光团的选取没有特异性的要求,因此应用较为广泛。但是结构光照明显微成像技术生成一张图像需要采集多张原始图像,并通过算法对采集到的原始图像进行数字组合,这从根本上限制了其成像的速度。
[0004] 现有的超分辨显微技术针对的样品多为薄样品,而大多数的生物组织是不透明且具有一定厚度,对于厚样品,在光学切片以外的区域,光学像差和散射的影响会越来越严重,降低了分辨率和信噪比,因此成像分辨率一直难以提升。
[0005] 目前,本领域技术人员亟待解决的问题为:如何针对不同物体的成像需求设计一种多模式成像系统,保留结构光照明显微成像分辨率提升一倍的优点,同时提高系统成像速率,以满足活体样品的成像需要,并且在成像过程中减小像差,提升图像质量。发明内容
[0006] 为解决厚样品散射影响严重、分辨率难以提高,且成像速度较慢的问题,提出了一种结合多光子激发和阵列式多焦点结构光照明的显微成像方法,利用多光子激发成像固有的光学切片功能实现对厚样品的探测,宽场荧光显微可用普通的半导体激光器实现对透明样品的成像,经分束镜的组合实现多种模式的切换。使用一个固定的微透镜阵列精确控制照明模式和激发点的位置,以生成稀疏的焦点照明,实现对样品的快速扫描,可实现快速获取多种类型样品分辨率提升两倍的高质量图像,同时还可以提高厚的散射样品的成像对比度。此外,在成像系统中引入像差校正单元,自适应调整光源聚焦点,减小或消除系统像差,提升多光子成像模式下的成像深度和成像质量。
[0007] 本发明的目的是这样实现的:
[0008] 一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,其特征在于所述装置包括:激发光源单元、光源控制单元、光束变换单元、像差校正单元、多焦点激光扫描单元、荧光信号激发单元、荧光信号探测单元、图像重建单元。
[0009] 其中:所述激发光源单元包括半导体激光器和脉冲飞秒激光器,通过分束镜可实现两路激光的组合,根据不同样品的成像需求选用不同的激发光源。
[0010] 所述光源控制单元置于激发光源单元之后,包括光学快、偏振片、半波片,光学快门可实现光路的开关功能,偏振片和半波片可实现光束的偏振控制和强度控制;
[0011] 所述光束变换单元置于光源控制单元之后,由一对焦距不同的透镜组组成,用于调整激发光束的尺寸。
[0012] 所述像差校正单元置于光束变换单元之后,其包括夏克哈特曼波前传感器、可变形镜、透镜组,夏克波特曼波前传感器用于波前信号的传感,可变形镜用于像差校正。通过夏克波特曼传感器获取波前信号,通过泽尼克波前模式的振幅与变形镜上电压之间的相互作用矩阵计算出变形镜上所需校正电压,施加该校正电压改变可变形镜的偏转,从而实现自适应消除或减少像差。前后单元之间通过透镜组连接。
[0013] 所述多焦点激光扫描单元置于像差校正单元之后,该单元包括微透镜阵列、二维扫描振镜、透镜组、分束镜、物镜。激发光源通过微透镜阵列后生成阵列式照明光源,使得原始的单点照明形式转化为并行的多焦点照明形式,其后安装有二维扫描振镜以实现扫描功能,一对焦距相等的透镜对透镜L3和透镜L4,分居在二维扫描透镜的两侧,可实现在不改变入射角度的情况下对样品进行扫描。透镜L4后方设置有管状透镜,该管状透镜的焦距大于透镜L3和透镜L4的焦距,可保证经振镜扫描的图像经管状透镜后放置的分束镜反射后可充满物镜的后焦面(即样品平面),在样品上产生衍射受限的光斑作为激发光源。
[0014] 所述荧光探测单元置于多焦点激光扫描单元之后,受激发射的荧光从同一物镜出发,样品置于三维微位移台上以实现微小的位移调整。激发荧光通过焦距不同的的透镜对实现光束扩展,经滤光片滤除杂散光后成像到CCD上成像。
[0015] 所述图像重建与处理系统,与所述像差校正单元和采集图像的CCD相连,用于对采集到的扫描图像进行后续的数字图像处理
[0016] 上述所有的光学元件的中心连线与入射激光和荧光信号的中心光束组成的光轴重合,上述所有透镜均垂直于光轴;
[0017] 进一步地,所述的二维扫描振镜也可用声光偏转器代替。
[0018] 进一步地,所述飞秒脉冲激光光源选用宝石飞秒激光器。
[0019] 进一步地,所述像差校正单元中的变形镜也可以用空间光调制器代替,或者为可变形镜和空间光调制器的组合系统;所述像差校正单元也可替换为无波前探测形式,在无波前探测形式中,无需夏克哈特曼波前传感器,可根据变形镜反射图像的信息进行像差调整。
[0020] 进一步地,在多光子成像模式下,在荧光探测单元中用于成像的CCD相机选用高灵敏度的EMCCD,以实现对飞秒激光器光源照明的探测。
[0021] 一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,其特征在于包括以下步骤:
[0022] (1)照明系统包括半导体激光器和脉冲飞秒激光器;
[0023] (2)光束通过微透镜阵列生成阵列式多焦点照明光束;
[0024] (3)阵列式多焦点照明光束激发样品产生荧光信号;
[0025] (4)荧光信号探测系统收集荧光信号,并进行滤波和成像操作;
[0026] (5)图像重建处理系统对采集到的图像进行重建,重构出最终的图像。
[0027] 上述一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,所述激发光束通过微透镜阵列实现阵列式多焦点照明;
[0028] 上述一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,所述微透镜阵列放置在一个可机械移动的平台上以满足不同波长光源的聚焦需求;
[0029] 上述一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,所述多光子激发模式和普通宽场荧光成像模式可通过分束镜将两路光束结合起来,实现不同模式的拓展组合;
[0030] 上述一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置,所述二维扫描振镜位于一对焦距相等的透镜之间,可实现在不改变入射角度的情况下将光束射在样品平面上;
[0031] 成像模式一:具有一定厚度或具有散射效应的样品,选用多光子成像模式。该模式下由钛蓝宝石脉冲飞秒激光器提供激发光源,光学快门用于实现光源的开关控制,偏振片和半波片用于控制激光功率,光束通过光束变换单元实现光束扩展,随后经自适应像差校正单元对像差进行校正,校正后的光束到达微透镜阵列。光束通过铬的微透镜阵列后生成多焦点照明,该微透镜阵列放置在一个机械移动平台上以满足不同波长光源的聚焦需求。二维扫描振镜位于一对焦距相同的透镜L3和透镜L4之间,可实现在不改变入射角度的情况下,将光束射在样品平面上。受激发射的荧光通过透镜L5和透镜L6组成的透镜对实现对荧光发射光束进行扩大,经滤光片滤除散射光后成像到EMCCD上,得到厚样品或散射样品的高分辨率图像。
[0032] 成像模式二:普通透明薄样品,选用宽场成像模式。该模式下由半导体激光器提供激发光源。光束通过光束变换单元实现光束扩展,随后经自适应像差校正单元对像差进行校正,校正后的光束到达微透镜阵列。光束通过镀铬的微透镜阵列后生成多焦点照明,该微透镜阵列放置在一个机械移动平台上以满足不同波长光源的聚焦需求。二维扫描振镜位于一对焦距相同的透镜L3和透镜L4之间,可实现在不改变入射角度的情况下,将光束射在样品平面上。受激发射的荧光通过透镜L5和透镜L6组成的透镜对实现对荧光发射光束进行扩大,经滤光片滤除散射光后成像到CCD上,得到透明薄样品的高分辨率图像。
[0033] 本发明的有益效果在于,可根据不同样品的成像需求灵活选择不同光路,透明薄样品可选择以半导体激光器为照明光源的宽场成像模式,具有散射效应的厚样品可选择以钛蓝宝石脉冲激光器为照明光源的多光子成像模式,此外,激光光束通过微透镜阵列生成阵列式多焦点照明光束,可有效提高对样品的扫描速度。附图说明
[0034] 图1是本发明实施实例的一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置示意图。
[0035] 其中:1-钛蓝宝石脉冲飞秒激光器、2-光学快门、3-偏振片、4-半波片、5-半导体激光器、6-第一反射镜、7-第一分束镜、8-光束变换单元、9-像差校正单元、10-微透镜阵列、11-机械移动平台、12-透镜L3、13-二维扫描振镜、14-透镜L4、15-管状透镜、16-第二分束镜、17-物镜、18-样品、19-三维微位移台、20-透镜L5、21-透镜L6、22-滤光片、23-CCD相机;

具体实施方式

[0036] 以下结合附图对本发明的实施实例进行详细的描述
[0037] 本实例的一种结合多光子激发的多模式阵列型扫描成像装置包括在多光子激发的模式下,由钛蓝宝石脉冲飞秒激光器(1)提供照明光源,光学快门(2)用于实现光源的开关控制,偏振片(3)和半波片(4)用于控制激光功率,光束经第一反射镜(6)反射到第一分束镜(7)上,半导体激光器(5)作为单光子实验及普通荧光成像的光源,通过第一分束镜(7)将两路光束结合起来,可进行不同成像模式的组合。光束变换单元(8)由焦距比为1:2的透镜对组成的扩束器,实现两倍的光束扩展,随后经自适应像差校正单元(9)对像差进行校正,校正后的光束到达微透镜阵列(10)。光束通过镀铬的微透镜阵列(10)后生成多焦点照明,该微透镜阵列(10)放置在一个机械移动平台(11)上以满足不同波长光源的聚焦需求。二维扫描振镜(13)位于一对焦距相同的透镜L3(12)和透镜L4(14)之间,可实现在不改变入射角度的情况下,将光束射在样品平面上。管状透镜(15)的焦距大于透镜L4的焦距,可保证二维扫描振镜(13)的图像可充满物镜(17)的后焦面(即样品平面),在样品(18)平面产生衍射受限的光斑。样品(18)置于三维微位移台(19)上以实现微小的位移调整。受激发射的荧光通过焦距比为1:2的透镜L5(20)和透镜L6(21)的透镜对实现对荧光发射光束进行扩大,经滤光片(22)滤除散射光后成像到EMCCD(23)上。
[0038] 以上结合附图对本发明的实施例进行了描述,但本发明并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本发明的启示下,在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可做出很多形式,这些均属于本发明的保护范围之内。
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