技术领域
[0001] 本
发明涉及
电子纸领域，特别涉及一种彩色
电子墨水显示屏结构及其制作方法。
背景技术
[0002] 现有彩色电子墨水显示的屏结构皆是以多层依序
叠加的方式制作：首先，制作驱动线路点阵基材，在点阵基材的驱动
像素贴上电子墨水膜片，完成黑白的电子纸显示模
块；其次，将彩色滤光片叠加于电子墨水膜片上方，完成彩色化工艺，具体来说，可在电子墨水膜片上方直接喷印，或者将彩色滤光片制作于玻璃或塑料基材上，再将此基材贴合于电子墨水膜片上，达到彩色化效果。
[0003] 如此将彩色滤光片叠加在电子纸膜片上的传统制作方法，容易造成彩色电子墨水显示屏色彩
亮度及
饱和度的降低。
发明内容
[0004] 本发明的目的在于：提供了一种彩色电子墨水显示屏结构及其制作方法，解决了将彩色滤光片叠加在电子纸膜片上的传统制作方法，容易造成彩色电子墨水显示屏色彩亮度及饱和度的降低的问题。
[0005] 本发明采用的技术方案如下：
[0006] 一种彩色电子墨水显示屏结构，包括驱动阵列，设置于驱动阵列上的显示介质，以及
覆盖于显示介质上的彩色化结构，所述彩色化结构上包括若干R、G、B三种色料的子画素，各个子画素上可设置有孔洞，所述孔洞为任意封闭式图形；或各个子画素为任意不连续图形；或各个子画素的边缘可设置有缺口，所述缺口为任意图形，使子画素为任意缺口图形。
[0007] 传统的电子墨水显示屏的彩色化工艺是将彩色滤光片喷印在电子纸膜片上，或者是将彩色滤光片制作于玻璃或塑料基材上，再将此基材贴合于电子墨水膜片上，以达到彩色化效果。但是这样的制作方式可能会在喷印彩色滤光片时出现卡墨，造成制造可靠度低、产率低的问题。而将彩色滤光片制作在电子纸膜片上方，会造成入射及反射光线的耗损，从而降低彩色显示屏的色彩亮度。
[0008] 本发明与传统制作模式相比，虽然同样是将彩色滤光片制作在电子墨水膜片上方，但是，为了解决上述的弊端，本发明在电子墨水膜片上方制作彩色滤光片，即彩色化结构时，在彩色滤光片的各个子画素上均作了一定的设计，此设计可包含多种样式。比如，在各个子画素上设计一个或多个的孔洞，此孔洞可为任意的封闭式图形；或者，将各个子画素制作成任意不连续图形；或者，将各个子画素制作成任意形状的缺口图形。藉由来提高光穿透量和反射量，制作成具有低光耗损和高色彩饱和的彩色电子墨水显示屏。
[0009] 进一步地，所述孔洞的数量为至少一个。
[0010] 进一步地，所述驱动阵列包括基材，以及设于基材上的驱动
电路，所述驱动电路包括段码电路，或
薄膜晶体管电路。
[0011] 进一步地，所述显示介质为
液晶显示介质，或填充白色颗粒和着色液体的微胶囊
电泳显示介质或OLED显示介质。
[0012] 还包括一种彩色电子墨水显示屏结构制作方法，包括以下步骤：
[0014] S2：在选定的基材的其中一个侧面上制作驱动电路，制作成驱动阵列；
[0015] S3：在驱动阵列上均匀覆盖显示介质；
[0016] S4：在显示介质上制作包括若干R、G、B三种色料的子画素的彩色化结构；
[0017] S5：对子画素进行曝光显影操作，得到期望图形子画素。
[0018] 进一步地，所述期望图形子画素为设置有孔洞的子画素，所述孔洞为任意封闭式图形；或各个子画素为任意不连续图形；或各个子画素的边缘可设置有缺口，所述缺口为任意图形，使子画素为任意缺口图形。
[0019] 其中，子画素上的图形设计，采用曝光显影的方式制作而成。首先制作具有目标图形的光罩，然后经过曝光显影操作，去除子画素上我们不需要的部分，留下目标图形部分即可。
[0020] 综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：
[0021] 1.本发明一种彩色电子墨水显示屏结构及其制作方法，通过在彩色滤光片的各个子画素上采用曝光显影的操作，制作多种样式的图形，比如，在各个子画素上设计一个或多个的孔洞，此孔洞可为任意的封闭式图形；或者，将各个子画素制作成任意不连续图形；或者，将各个子画素制作成任意形状的缺口图形。藉由来提高光穿透量和反射量，制作成具有低光耗损和高色彩饱和的彩色电子墨水显示屏。
附图说明
[0022] 本发明将通过例子并参照附图的方式说明，其中：
[0023] 图1是本发明的单一子画素剖面示意图；
[0024] 图2是本发明的单一子画素彩色化结构俯视
角度示意图一；
[0025] 图3是本发明的单一子画素彩色化结构俯视角度示意图二；
[0026] 图4是本发明的单一子画素彩色化结构俯视角度示意图三；
[0027] 图中，1-驱动阵列、2-显示介质、3-彩色化结构、4-孔洞、5-缺口。
具体实施方式
[0028] 本
说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。
[0029] 需要说明的是，术语“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0030] 下面结合图1至图4对本发明作详细说明。
[0032] 一种彩色电子墨水显示屏结构，如图2所示，包括驱动阵列1，设置于驱动阵列1上的显示介质2，以及覆盖于显示介质2上的彩色化结构3，所述彩色化结构3上包括若干R、G、B三种色料的子画素，各个子画素上可设置有孔洞4，所述孔洞4为任意封闭式图形。
[0033] 进一步地，所述孔洞4的数量为至少一个。
[0034] 实施例2
[0035] 一种彩色电子墨水显示屏结构，如图3所示，包括驱动阵列1，设置于驱动阵列1上的显示介质2，以及覆盖于显示介质2上的彩色化结构3，所述彩色化结构3上包括若干R、G、B三种色料的子画素，各个子画素为任意不连续图形。
[0036] 实施例3
[0037] 一种彩色电子墨水显示屏结构，如图4所示，包括驱动阵列1，设置于驱动阵列1上的显示介质2，以及覆盖于显示介质2上的彩色化结构3，所述彩色化结构3上包括若干R、G、B三种色料的子画素，或各个子画素的边缘可设置有缺口5，所述缺口5为任意图形，使子画素为任意缺口图形。
[0038] 实施例4
[0039] 一种彩色电子墨水显示屏结构，如图1所示，包括驱动阵列1，设置于驱动阵列1上的显示介质2，以及覆盖于显示介质2上的彩色化结构3，所述驱动阵列1包括基材，以及设于基材上的驱动电路，所述驱动电路包括段码电路，或
薄膜晶体管电路。所述显示介质2为液晶显示介质2，或填充白色颗粒和着色液体的微胶囊电泳显示介质2或OLED显示介质2。
[0040] 实施例5
[0041] 一种彩色电子墨水显示屏结构制作方法，包括以下步骤：
[0042] S1：选定基材；
[0043] S2：在选定的基材的其中一个侧面上制作驱动电路，制作成驱动阵列1；
[0044] S3：在驱动阵列1上均匀覆盖显示介质2；
[0045] S4：在显示介质2上制作包括若干R、G、B三种色料的子画素的彩色化结构3；
[0046] S5：对子画素进行曝光显影操作，得到期望图形子画素。
[0047] 进一步地，所述期望图形子画素为设置有孔洞4的子画素，所述孔洞4为任意封闭式图形；或各个子画素为任意不连续图形；或各个子画素的边缘可设置有缺口5，所述缺口5为任意图形，使子画素为任意缺口图形。
[0048] 本发明与传统制作模式相比，虽然同样是将彩色滤光片制作在电子墨水膜片上方，但是，为了解决上述的弊端，本发明在电子墨水膜片上方制作彩色滤光片，即彩色化结构时，在彩色滤光片的各个子画素上均作了一定的设计，此设计可包含多种样式。比如，在各个子画素上设计一个或多个的孔洞，此孔洞可为任意的封闭式图形；或者，将各个子画素制作成任意不连续图形；或者，将各个子画素制作成任意形状的缺口图形。藉由来提高光穿透量和反射量，制作成具有低光耗损和高色彩饱和的彩色电子墨水显示屏。
[0049] 其中，子画素上的图形设计，采用曝光显影的方式制作而成。首先制作具有目标图形的光罩，然后经过曝光显影操作，去除子画素上我们不需要的部分，留下目标图形部分即可。
[0050] 以上所述，仅为本发明的优选实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内，可不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以
权利要求书所限定的保护范围为准。
