技术领域
[0001] 本
发明涉及一种水稻种植方法，农业科技技术领域，尤其涉及一种东北地区水稻高光效种植技术。
背景技术
[0002] 水稻是草本稻属的一种，也是稻属中作为粮食的最主要最悠久的一种。原产中国，七千年前中国长江流域就种植水稻。按照不同的方法，水稻可以分为籼稻和粳稻、早稻和中晚稻，糯稻和非糯稻。
[0003] 水稻所结子实即稻谷，稻谷脱去颖壳后称糙米，糙米碾去米糠层即可得到大米。世界上近一半人口，都以大米为食。水稻除可食用外，还可以酿酒、制糖作工业原料，稻壳、稻秆，可以作为
饲料。我国水稻主产区主要是东北地区、长江流域，珠江流域。属于直接经济作物。还是世界上三分之一人类的主食。
[0004] 水稻高光效新型栽培技术是一种充分利用
风、光、温等
气候资源从而提高水稻产量的新型栽培模式，可以明显改善水稻群体气象环境，
通风好、透光性高，边际效应明显。
[0005] 传统的水稻高光效栽培技术，是通过调整垄向，采取宽窄行种植的一种
种植模式，不仅能提高
农作物受光时间、受光强度、光合效率，而且还能减轻弄作为病虫害的发生，提高水稻产量和
质量，进而提高经济效益、社会效益和生态效益。
[0006] 虽然传统的水稻高光效栽培技术可以一定程度上缓解低温冷害、多雨涝渍等
自然灾害带来的减产，但是为了进一步提高水稻在这些自然灾害下的抵御能
力，达到优质、高产、稳产，有必要对东北地区水稻高光效种植技术做出进一步的研究。
发明内容
[0007] 基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种东北地区水稻高光效种植技术。
[0008] 本发明的技术方案如下：
[0009] 一种东北地区水稻高光效种植技术，包括以下步骤：
[0010] 步骤A：根据当地生态类型和气候条件，选择通过审定的，生育期适宜，抗逆性强，分蘖能力强，产量高的优质水稻品种，对
种子进行预处理；
[0011] 步骤B：在秋季对稻田进行耕翻，耕翻深度15-18cm，做到深浅一致，施农家肥和氮磷
钾肥后耙平，要做到田面平整，耕层深厚，上软下松，为水稻高产创造良好的
土壤环境；插秧前，用罗盘定向，将插秧行向定为磁南偏西20度，做出标线，在标线一侧插2行秧苗，行距20cm，株距15cm，插秧时采用拐子苗插法，插完这2行后，留出50cm作为大行距；
[0012] 步骤C：根据水稻生理需求规律以浅水
灌溉为主，灌水采取浅、晒、深、湿的间歇灌溉方法；同时，灌溉要采用昼停夜灌方式进行；
[0013] 步骤D：在水稻分蘖期和灌浆成熟期追加
肥料，以氮肥为主，兼加适量磷肥和钾肥；
[0014] 步骤E：
病虫害防治时，根据水稻的病虫害情况，施以对应的
生物类防病毒药物；
[0015] 步骤F：适时
收获：当籽粒的90％以上变黄成熟时，即可收获。
[0016] 优选的，所述的步骤A中，采用缓释光活化调节剂对种子进行预处理。
[0017] 优选的，所述的光活化调节剂为δ—ALA。
[0018] 优选的，对种子进行预处理时，所述的缓释光活化调节剂的浓度为5-30mg/L。
[0019] 优选的，所述的步骤C中，若遇到多雨涝渍的自然灾害，以排水为主，保持灌溉渠畅通，防止内涝。
[0020] 优选的，所述的步骤D中，根据水稻的倒伏情况，肥料中加入抗倒酯。
[0021] 优选的，所述的步骤D中，如果水稻生长初期发生冻害，对水稻
叶片喷洒ATP水溶液。
[0022] δ—ALA(5-
氨基乙酰丙酸)是一种四氢吡咯的前缀化合物，是生物体合成叶绿素必不可少的物质，是新型的光活化调节剂，参与
植物生长发育的调节过程。已有研究表面δ—ALA可以促进作物在暗光下合成叶绿素，调节叶绿素的合成；提高叶绿素和捕光系统的
稳定性，促进光合作用，促进气孔扩大，提高气体交换率；抑制暗呼吸，提高光合效率。
[0023] 传统的δ—ALA使用方法为叶面喷施，但是叶面喷施不适用于东北地区大面积使用，浪费较大，本发明在种子处理阶段就使用，采用缓释的方式将δ—ALA存储在种子内部，缓慢释放，在水稻生长各个阶段都可以起到参与植物生长发育的作用。
[0024] 本发明的有益之处在于：1、采用水稻高光效种植技术，不仅能提高农作物受光时间、受光强度、光合效率，而且还能减轻弄作为病虫害的发生；2、采用缓释光活化调节剂对种子进行预处理，在水稻生长各个阶段都可以起到参与植物生长发育的作用，对光效的利用程度显著提升；3、如果水稻生长初期发生冻害，对水稻叶片喷洒ATP水溶液，抵御减产的效果明显。
具体实施方式
[0026] 步骤A：根据当地生态类型和气候条件，选择通过审定的，生育期适宜，抗逆性强，分蘖能力强，产量高的优质水稻品种，对种子进行预处理；
[0027] 步骤B：在秋季对稻田进行耕翻，耕翻深度15-18cm，做到深浅一致，施农家肥和氮磷钾肥后耙平，要做到田面平整，耕层深厚，上软下松，为水稻高产创造良好的土壤环境；插秧前，用罗盘定向，将插秧行向定为磁南偏西20度，做出标线，在标线一侧插2行秧苗，行距20cm，株距15cm，插秧时采用拐子苗插法，插完这2行后，留出50cm作为大行距；
[0028] 步骤C：根据水稻生理需求规律以浅水灌溉为主，灌水采取浅、晒、深、湿的间歇灌溉方法；同时，灌溉要采用昼停夜灌方式进行；
[0029] 步骤D：在水稻分蘖期和灌浆成熟期追加肥料，以氮肥为主，兼加适量磷肥和钾肥；
[0030] 步骤E：病虫害防治时，根据水稻的病虫害情况，施以对应的生物类防病毒药物；
[0031] 步骤F：适时收获：当籽粒的90％以上变黄成熟时，即可收获。
[0032] 所述的步骤A中，采用缓释光活化调节剂对种子进行预处理；所述的光活化调节剂为δ—ALA；对种子进行预处理时，所述的缓释光活化调节剂的浓度为20mg/L。
[0033] 所述的步骤C中，若遇到多雨涝渍的自然灾害，以排水为主，保持灌溉渠畅通，防止内涝。
[0034] 所述的步骤D中，根据水稻的倒伏情况，肥料中加入抗倒酯。
[0035] 所述的步骤D中，水稻生长初期发生冻害，对水稻叶片喷洒ATP水溶液。
[0036] 实施例2：
[0037] 步骤A：根据当地生态类型和气候条件，选择通过审定的，生育期适宜，抗逆性强，分蘖能力强，产量高的优质水稻品种，对种子进行预处理；
[0038] 步骤B：在秋季对稻田进行耕翻，耕翻深度15-18cm，做到深浅一致，施农家肥和氮磷钾肥后耙平，要做到田面平整，耕层深厚，上软下松，为水稻高产创造良好的土壤环境；插秧前，用罗盘定向，将插秧行向定为磁南偏西20度，做出标线，在标线一侧插2行秧苗，行距20cm，株距15cm，插秧时采用拐子苗插法，插完这2行后，留出50cm作为大行距；
[0039] 步骤C：根据水稻生理需求规律以浅水灌溉为主，灌水采取浅、晒、深、湿的间歇灌溉方法；同时，灌溉要采用昼停夜灌方式进行；
[0040] 步骤D：在水稻分蘖期和灌浆成熟期追加肥料，以氮肥为主，兼加适量磷肥和钾肥；
[0041] 步骤E：病虫害防治时，根据水稻的病虫害情况，施以对应的生物类防病毒药物；
[0042] 步骤F：适时收获：当籽粒的90％以上变黄成熟时，即可收获。
[0043] 所述的步骤A中，采用缓释光活化调节剂对种子进行预处理；所述的光活化调节剂为δ—ALA；对种子进行预处理时，所述的缓释光活化调节剂的浓度为30mg/L。
[0044] 所述的步骤C中，若遇到多雨涝渍的自然灾害，以排水为主，保持灌溉渠畅通，防止内涝。
[0045] 所述的步骤D中，水稻的倒伏达到15％，肥料中加入抗倒酯。
[0046] 实施例3：
[0047] 步骤A：根据当地生态类型和气候条件，选择通过审定的，生育期适宜，抗逆性强，分蘖能力强，产量高的优质水稻品种，对种子进行预处理；
[0048] 步骤B：在秋季对稻田进行耕翻，耕翻深度15-18cm，做到深浅一致，施农家肥和氮磷钾肥后耙平，要做到田面平整，耕层深厚，上软下松，为水稻高产创造良好的土壤环境；插秧前，用罗盘定向，将插秧行向定为磁南偏西20度，做出标线，在标线一侧插2行秧苗，行距20cm，株距15cm，插秧时采用拐子苗插法，插完这2行后，留出50cm作为大行距；
[0049] 步骤C：根据水稻生理需求规律以浅水灌溉为主，灌水采取浅、晒、深、湿的间歇灌溉方法；同时，灌溉要采用昼停夜灌方式进行；
[0050] 步骤D：在水稻分蘖期和灌浆成熟期追加肥料，以氮肥为主，兼加适量磷肥和钾肥；
[0051] 步骤E：病虫害防治时，根据水稻的病虫害情况，施以对应的生物类防病毒药物；
[0052] 步骤F：适时收获：当籽粒的90％以上变黄成熟时，即可收获。
[0053] 所述的步骤A中，采用缓释光活化调节剂对种子进行预处理；所述的光活化调节剂为δ—ALA；对种子进行预处理时，所述的缓释光活化调节剂的浓度为5mg/L。
[0054] 所述的步骤C中，遇到多雨涝渍的自然灾害，以排水为主，保持灌溉渠畅通，防止内涝。
[0055] 对比例1
[0056] 在实施例1中，不使用缓释光活化调节剂δ—ALA对种子进行预处理，其余方法不变。
[0057] 对比例2
[0058] 在实施例1中，不使用缓释光活化调节剂对种子进行预处理，但在水稻不同的生长阶段对叶片喷洒δ—ALA(浓度为0.03g/L)，喷洒3次，间隔3天，其余方法不变。
[0059] 不同的阶段分别为苗期、分蘖期、有穗分化期、抽穗扬花期、灌浆成熟期，分别为对比例2-1至2-5。
[0060] 表1：缓释光活化调节剂对水稻产量影响表
[0061]
[0062] 对比例3
[0063] 在实施例1中，水稻生长初期发生冻害，不对水稻叶片喷洒ATP水溶液。
[0064] 水稻生长初期发生冻害，喷洒ATP水溶液比不喷洒ATP水溶液，可以提升水稻产量10％以上。
[0065] 以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉
本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
