| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 粒子束柱 | CN202211047168.9 | 2022-08-29 | CN115732295A | 2023-03-03 | E.埃瑟斯; B.加姆 |
| 本发明涉及一种粒子束柱，该粒子束柱被配置为生成例如电子或离子的带电粒子的粒子束，并且将粒子束引导到样品上。粒子束柱包括多孔径光阑和偏转系统，该偏转系统用于选择性地引导粒子束通过设置在多孔径光阑中的多个孔径之一。孔径具有不同的大小，以便将粒子束的电流强度限制为不同的值。粒子束柱还包括用于改变在第一光阑的上游的粒子束的发散角的透镜。透镜可以包括磁透镜，该磁透镜包括具有多个部分的磁芯，这些部分彼此电绝缘并且可以在操作期间具有明显不同的电位。磁芯的一些部分可以在操作期间具有与第一光阑相同的电位。 | ||||||
| 2 | 粒子束设备 | CN201980035788.0 | 2019-05-22 | CN112166383B | 2023-07-14 | D·H·C·范班宁; J·G·戈森 |
| 一种设备包括：用于封闭物品支撑件的真空腔；物品支撑件被配置为支撑物品使得在物品支撑件与物品之间限定有体积，物品支撑件包括被配置为为物品提供支撑平面的多个支撑突起；用于向该体积提供流体使得流体在物品与物品支撑件之间提供热传递的管路；以及用于控制向该体积的流体供应的控制器，其中控制器被配置为控制流体供应单元基本上在物品达到稳定温度时开始去除流体。 | ||||||
| 3 | 粒子束聚焦 | CN202110835292.0 | 2021-07-23 | CN113972123A | 2022-01-25 | H·C·弗罗尔斯卡; B·蒂利 |
| 本文公开了用于粒子束聚焦的设备和方法，适用于样本制备或测试环境，包括基于SEM的纳米探测平台。当粒子束入射到样本表面上时，载物台电流用作斑点大小的指示器。通过扫描或搜索工作距离控制的设置，使用具有最大（或最小）载物台电流的控制值来设置所述样本表面处的波束束腰。可替代地，可以使用反射电流的最小值（或最大值）。可以类似地调整消像散器控制以减少像散。控制设置的扫描可以与将所述波束扫掠过所述样本上的感兴趣区域同时进行。可以使用弯曲的扫掠图案。能量测量可用作电流测量的替代。本文公开了纳米探测工作流的应用。 | ||||||
| 4 | 粒子束装置 | CN202110284683.8 | 2021-03-17 | CN113498246A | 2021-10-12 | 户内豊 |
| 本发明的目的在于提供一种能够实现小型化及低成本化的粒子束装置。粒子束装置(1)具备偏转电磁体(15)，该偏转电磁体(15)能够导入来自离子种类互不相同的第1离子源(11)及第2离子源(12)的各离子束(B1、B2)，且能够通过切换磁场强度将离子束(B1、B2)中的一个选择性地射出至射束传输系统(19)，偏转电磁体(15)具有：偏转功能，使应该射出至射束传输系统(19)的离子束向射束传输系统(19)偏转；及分析功能，减少混合在该离子束中的不同种类的射束朝射束传输系统(19)的射出。 | ||||||
| 5 | 粒子束系统 | CN201980041458.2 | 2019-06-18 | CN112703573A | 2021-04-23 | D.蔡德勒; H.弗里茨; I.米勒; S.舒伯特; A.托马; A.梅杰 |
| 一种粒子束系统1，包括：多束式粒子源，该多束式粒子源被配置为产生多个粒子束5；成像光学单元35，该成像光学单元被配置为将物平面29以粒子光学方式成像到像平面7中并将该多个粒子束引导到该像平面上；以及场发生布置41，该场发生布置被配置为在该物平面29附近的区域中产生电和/或磁偏转场，其中，这些粒子束在操作期间被这些偏转场偏转，偏转角度取决于这些偏转场的强度。 | ||||||
| 6 | 粒子束设备 | CN201980035788.0 | 2019-05-22 | CN112166383A | 2021-01-01 | D·H·C·范班宁; J·G·戈森 |
| 一种设备包括：用于封闭物品支撑件的真空腔；物品支撑件被配置为支撑物品使得在物品支撑件与物品之间限定有体积，物品支撑件包括被配置为为物品提供支撑平面的多个支撑突起；用于向该体积提供流体使得流体在物品与物品支撑件之间提供热传递的管路；以及用于控制向该体积的流体供应的控制器，其中控制器被配置为控制流体供应单元基本上在物品达到稳定温度时开始去除流体。 | ||||||
| 7 | 粒子束扫描 | CN201910634769.1 | 2014-09-26 | CN110237447A | 2019-09-17 | G.T.兹沃特; J.库利; K.Y.弗兰岑; M.R.琼斯; T.李; M.巴斯基 |
| 一种示例性粒子治疗系统，包括：输出粒子束的同步回旋加速器；影响粒子束的方向以跨过辐射目标的至少一部分扫描粒子束的磁体；可构造成改变粒子束的斑点大小的散射材料，其中，所述散射材料相对于所述同步回旋加速器在所述磁体的顺束方向上；以及在粒子束输出到辐射目标之前改变粒子束的能量的降能器，其中所述降能器相对于所述同步回旋加速器在所述散射材料的顺束方向上。 | ||||||
| 8 | 粒子束扫描 | CN201480064629.0 | 2014-09-26 | CN105764567B | 2019-08-09 | G.T.兹沃特; J.库利; K.Y.弗兰岑; M.R.琼斯; T.李; M.巴斯基 |
| 一种示例性粒子治疗系统，包括：输出粒子束的同步回旋加速器；影响粒子束的方向以跨过辐射目标的至少一部分扫描粒子束的磁体；可构造成改变粒子束的斑点大小的散射材料，其中，所述散射材料相对于所述同步回旋加速器在所述磁体的顺束方向上；以及在粒子束输出到辐射目标之前改变粒子束的能量的降能器，其中所述降能器相对于所述同步回旋加速器在所述散射材料的顺束方向上。 | ||||||
| 9 | 聚焦粒子束 | CN201380062126.5 | 2013-09-27 | CN104813748B | 2019-07-09 | K.P.高尔; G.T.兹瓦特; J.范德兰; C.D.奥尼尔三世; K.Y.弗兰岑 |
| 一种示例性粒子加速器包括下列各项：粒子在其中加速的谐振腔，其中，所述谐振腔具有背景磁场，所述背景磁场具有第一形状；以及，用于接收从所述谐振腔输出的粒子的引出通道。所述引出通道包括一系列的聚焦区域以聚焦所接收粒子的束流。至少一个所述聚焦区域是构造为在磁场梯度的存在下将所述背景磁场的形状改变到第二形状的聚焦元件，所述第二形状与第一形状基本相反，所述磁场梯度是由背景磁场从所述谐振腔到引出通道的减少产生的。 | ||||||
| 10 | 粒子束扫描 | CN201480064629.0 | 2014-09-26 | CN105764567A | 2016-07-13 | G.T.兹沃特; J.库利; K.Y.弗兰岑; M.R.琼斯; T.李; M.巴斯基 |
| 一种示例性粒子治疗系统，包括：输出粒子束的同步回旋加速器；影响粒子束的方向以跨过辐射目标的至少一部分扫描粒子束的磁体；可构造成改变粒子束的斑点大小的散射材料，其中，所述散射材料相对于所述同步回旋加速器在所述磁体的顺束方向上；以及在粒子束输出到辐射目标之前改变粒子束的能量的降能器，其中所述降能器相对于所述同步回旋加速器在所述散射材料的顺束方向上。 | ||||||
| 11 | 粒子束系统 | CN201510495691.1 | 2015-05-29 | CN105206491A | 2015-12-30 | D·蔡德勒; T·凯门; C·里德塞尔; R·伦克 |
| 一种粒子束系统，包括粒子源；具有下游形成粒子束的多个开口(353)的第一多孔板(351)；具有由粒子束穿透的多个开口(361)的第二多孔板(359)；具有由还穿透第一和第二多孔板的开口的全部粒子穿透的开口(365)的孔板(363)；具有由粒子束穿透的多个开口(357)并且具有针对束分别提供偶极场或四极场的多个场发生器(372)的第三多孔板(355)；以及将电势馈送至多孔板和孔板的控制器(369)，从而第二多孔板中的第二开口分别作为透镜作用在粒子束(3)上并将可调节激励馈送至场发生器。 | ||||||
| 12 | 聚焦粒子束 | CN201380062126.5 | 2013-09-27 | CN104813748A | 2015-07-29 | K.P.高尔; G.T.兹瓦特; J.范德兰; C.D.奥尼尔三世; K.Y.弗兰岑 |
| 一种示例性粒子加速器包括下列各项：粒子在其中加速的谐振腔，其中，所述谐振腔具有背景磁场，所述背景磁场具有第一形状；以及，用于接收从所述谐振腔输出的粒子的引出通道。所述引出通道包括一系列的聚焦区域以聚焦所接收粒子的束流。至少一个所述聚焦区域是构造为在磁场梯度的存在下将所述背景磁场的形状改变到第二形状的聚焦元件，所述第二形状与第一形状基本相反，所述磁场梯度是由背景磁场从所述谐振腔到引出通道的减少产生的。 | ||||||
| 13 | 粒子束聚焦 | CN202110835292.0 | 2021-07-23 | CN113972123B | 2023-12-05 | H·C·弗罗尔斯卡; B·蒂利 |
| 本文公开了用于粒子束聚焦的设备和方法，适用于样本制备或测试环境，包括基于SEM的纳米探测平台。当粒子束入射到样本表面上时，载物台电流用作斑点大小的指示器。通过扫描或搜索工作距离控制的设置，使用具有最大（或最小）载物台电流的控制值来设置所述样本表面处的波束束腰。可替代地，可以使用反射电流的最小值（或最大值）。可以类似地调整消像散器控制以减少像散。控制设置的扫描可以与将所述波束扫掠过所述样本上的感兴趣区域同时进行。可以使用弯曲的扫掠图案。能量测量可用作电流测量的替代。本文公开了纳米探测工作流的应用。 | ||||||
| 14 | 粒子束系统 | CN202211210551.1 | 2022-09-30 | CN115931940A | 2023-04-07 | G.沃尔特; H.多默; W.伯杰 |
| 本发明涉及一种粒子束系统，该粒子束系统包括粒子束柱、检测系统40和控制器30。该粒子束柱被配置用于产生粒子束并将其引导到样品上，由此该样品发射带电粒子41。该检测系统40用于检测这些带电粒子41并且包括可以使带电粒子41加速的电极E、向电极E施加可调电势的电势源42、闪烁体43、和输出检测信号的光检测器44。该控制器30控制该电势源42并且被配置为基于该检测信号来改变电势，使得该闪烁体43在其饱和之外操作并且使得该光检测器44在其饱和之外操作。 | ||||||
| 15 | 粒子束系统 | CN201510495691.1 | 2015-05-29 | CN105206491B | 2018-11-06 | D·蔡德勒; T·凯门; C·里德塞尔; R·伦克 |
| 一种粒子束系统，包括粒子源；具有下游形成粒子束的多个开口(353)的第一多孔板(351)；具有由粒子束穿透的多个开口(361)的第二多孔板(359)；具有由还穿透第一和第二多孔板的开口的全部粒子穿透的开口(365)的孔板(363)；具有由粒子束穿透的多个开口(357)并且具有针对束分别提供偶极场或四极场的多个场发生器(372)的第三多孔板(355)；以及将电势馈送至多孔板和孔板的控制器(369)，从而第二多孔板中的第二开口分别作为透镜作用在粒子束(3)上并将可调节激励馈送至场发生器。 | ||||||
| 16 | 粒子束疗法系统 | CN201980012093.0 | 2019-01-17 | CN111683717B | 2022-05-13 | 雅各布斯·马尔滕·席佩斯 |
| 本发明公开了粒子束疗法系统，其包括磁场的配置，以使得能够将用于粒子放射疗法的粒子束从不同治疗角度递送至患者内的目标体积，系统包括：a)粒子束，其被定向成朝向有源静态磁场区域；b)有源磁场区域，其包括多个磁体和线圈，有源磁场区域包括外部径向引导场区域和内部径向弯曲场区域；c)多个磁体和线圈；d)包含用于患者的治疗台的中心区域，中心区域被内部径向区域围绕；e)用于粒子束剂量测定和/或粒子束监视和/或范围补偿和/或笔形束扫描的部件，部件设置在中心区域中；以及f)治疗控制系统，其用于控制多个磁体和线圈，以便根据治疗计划使粒子束达到期望的治疗角度，该治疗计划确定要由粒子束沉积在目标体积中的剂量信息。 | ||||||
| 17 | 粒子束治疗系统 | CN201610511588.6 | 2016-06-30 | CN106310541B | 2019-08-13 | 山下勉; 藤泽达哉; 西村武德 |
| 本发明提供一种粒子束治疗系统，医疗工作者对患者的访问变得容易，并且能够提高治疗效率。在粒子束治疗系统中，照射装置(57)安装于旋转台架(28)的滚筒(29)。配置于滚筒内的放射线治疗笼(35)具有包括水平地板部(79)的移动底板(36)。移动底板包括被相互连结为能够自如屈曲的多个踏板以及X射线透射板(39、40)。移动底板(36)的两端部的滑动部件(69A)以能够移动的方式安装于设置于照射装置的对置的侧面的导轨(71)。X射线源(71A、71B)的每一个在滚筒的外侧配置于在滚筒的周向上分离的位置，并安装于滚筒的外表面。与X射线源(71A)对置的X射线检测装置(72A)以及与X射线源(71B)对置的X射线检测装置(72B)设置于照射装置。 | ||||||
| 18 | 粒子束医疗装置 | CN201811255797.4 | 2018-10-26 | CN109718478A | 2019-05-07 | 衣笠邦彦; 北川希代彦; 泷口裕司; 前田和孝 |
| 通过优化连接设置于移动地板的设备的电缆的布线，提供一种旋转动作的稳定性优越的粒子束医疗装置。粒子束医疗装置具备：机架，在束流的照射口固定于主体的状态下轴旋转；移动地板，从设置于该机架的内侧，使多个板材11相互弯曲自如地环状结合而成的静止系统收纳被固定的地板的至少一部分，在照射口被贯通的状态下与机架一起沿圆周方向旋转；电缆，连接固定于该移动地板12的设备，贯通机架而布线于该机架外侧；调节部，调整轴旋转之时布线于机架的内侧的电缆的长度。 | ||||||
| 19 | 粒子束治疗装置 | CN201510686055.7 | 2015-10-21 | CN105521567B | 2018-08-28 | 石山洋; 受川铁平; 松井健太郎; 泷口裕司 |
| 本发明提供一种能够提高照射目标中心精度的粒子束治疗装置。粒子束治疗装置(20)，具有旋转架台(13)，所述旋转架台(13)使得用于向设置在内部的放射线治疗室(21)照射带电粒子束的照射口(4)进行环绕移位，该粒子束治疗装置(20)具有：架台体部(1)，构成该旋转架台(13)；搭载磁体(2)，经由磁体支撑部(3)连接到该架台体部(1)，将所述带电粒子束引导到照射口(4)；位移计或者加速度计(9)，设置在该搭载磁体(2)上，测量该搭载磁体的位移或加速度；以及控制机构(10)，向缩小该位移计或者加速度计(9)计测到的至少一个自由度以上的位移或者加速度的方向，控制所述搭载磁体(2)的位置。 | ||||||
| 20 | 粒子束治疗系统 | CN201580084308.1 | 2015-11-13 | CN108348767A | 2018-07-31 | 梅泽真澄; 藤高伸一郎; 高柳泰介 |
| 本发明依赖于作为照射对象的患者(4)的患部(41)，能够基于预先的选择来选择实施光栅扫描方式和离散点扫描方式的其中一种照射方式，并且构成为能够由一台照射装置(500)来实施光栅扫描方式和离散点扫描方式的其中一种照射方式。由此，提供能够实现兼得更高精度的照射和高剂量率化的兼得的小型的粒子束治疗系统。 | ||||||
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