| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 中性密度滤光片 | CN200510125297.5 | 2005-11-23 | CN100416309C | 2008-09-03 | 林信裕 |
| 本发明公开一种中性密度滤光片，其具有一基板及设置于基板一侧的若干个膜层，该膜层结构为0.4M3LmH1.25L0.25H1.25L，其中H表示高折射率膜层，其采用了铁镍铬合金作为膜材；L表示低折射率膜层，该膜层材质为SiO2；M表示一折射率界于高折射率膜层与基板之间的中间膜层，该中间膜层是作为一首层直接镀制于基板一侧的表面上；及mH是该中性密度滤光片的浓度调整层，m表示一个可以根据该中性密度滤光片的浓度与光谱透射率来确定的数值。 | ||||||
| 2 | 中性密度滤光片 | CN200510125297.5 | 2005-11-23 | CN1971319A | 2007-05-30 | 林信裕 |
| 本发明公开一种中性密度滤光片，其具有一基板及设置于基板一侧的若干个膜层，该膜层结构为0.4M3LmH1.25L0.25H1.25L，其中H表示高折射率膜层，其采用了铁镍铬合金作为膜材；L表示低折射率膜层，该膜层材质为SiO2；M表示一折射率界于高折射率膜层与基板之间的中间膜层，该中间膜层是作为一首层直接镀制于基板一侧的表面上；及mH是该中性密度滤光片的浓度调整层，m表示一个可以根据该中性密度滤光片的浓度与光谱透射率来确定的数值。 | ||||||
| 3 | 一种中性密度滤光片的制备方法 | CN201910717648.3 | 2019-08-05 | CN110361803B | 2021-12-17 | 郭谟强; 黄元申; 盛斌; 李超阳; 张大伟; 沈宇航; 王乔波 |
| 本申请提供了本申请提供了一种中性密度滤光片的制备方法,包括如下步骤：根据所设滤光片的最大光密度值、最小光密度值和预设的膜台阶的数目确定每个膜台阶的预设光密度值；根据每个膜台阶的预设光密度值和镀膜材料确定每个膜台阶的预设镀膜厚度；按照膜台阶的预设镀膜厚度由小到大逐级镀膜，在基片上形成膜台阶，在镀膜的过程中，用遮挡板遮挡已经完成镀膜的膜台阶和不需要镀膜的区域，并且，每个台阶镀膜完成后都进行厚度检测和厚度控制的操作。采用上述制备方法，不需要制做特殊形状的遮挡板，且能适用于多种形状的滤光片的制作，滤光片的精度高，可以用于感光材料灵敏度的测量。 | ||||||
| 4 | 一种渐变中性密度滤光片的制作方法 | CN201910056530.0 | 2019-01-22 | CN109500500B | 2020-11-20 | 马轶男; 赵帅锋; 张永喜; 金秀; 汪忠伟; 杨亮; 王宇楠; 宋云鹏; 诸海博; 徐春风 |
| 本发明公开了一种渐变中性密度滤光片的制作方法，该制作方法中选择与目标渐变中性密度滤光片最接近的固定中性密度滤光片作为基片，利用激光加工技术，对基片进行二次加工，以获得符合要求的渐变中性密度滤光片，具有制作效率高，制作成本低等优点。 | ||||||
| 5 | 低反射型中性密度滤光片 | CN201410618737.X | 2014-11-06 | CN104297833A | 2015-01-21 | 阴晓俊; 高鹏; 张勇喜; 金秀; 马敬; 赵珑现 |
| 本发明属光能衰减光学元件领域，尤其涉及一种低反射型中性密度滤光片，包括基底及镀制其上的膜系层；所述膜系层结构为G|AMB或BM|G|MB；其中M为实现透射衰减及中性透射的金属层；G为基底；A及B为匹配实现金属宽光谱减反射的膜堆；所述膜堆A和膜堆B由介质层与金属层M交替镀制而成；所述金属层M采用Ni-Cr或Ni-Cr-Fe材料；所述介质层采用TiO2、SiO2、Al2O3、HfO2、Ta2O5或Nb2O5。本发明可实现较宽光谱范围内的低反射和透射光谱中性二者性能上的兼顾。 | ||||||
| 6 | 透射率线性渐变的中性密度滤光片 | CN201110372022.7 | 2011-11-21 | CN102368099A | 2012-03-07 | 张勇喜; 阴晓俊; 费书国; 金秀; 温东颖; 杨文华 |
| 本发明属能量分光元件领域，尤其涉及一种透射率线性渐变的中性密度滤光片，它包括基片本体(1)；在所述基片本体(1)上镀有薄膜层(2)；在所述基片本体(1)的中心部位设有安装孔(3)；在所述安装孔(3)的外周设有第一空白区(4)；在所述基片本体(1)的外周设有第二空白区(5)；在所述第二空白区(5)上固定设有环形刻度尺；在所述基片本体(1)内设有第三空白区(6)；所述薄膜层(2)的厚度随膜层位置呈指数变化且满足：d＝A(1-10(B*α))；其中：d为膜层厚度，A、B为待定参数，α为基片本体膜层的位置。本发明使用寿命长，透射率呈线性变化，可方便进行安装及旋转。 | ||||||
| 7 | 像素化可编程中性密度滤光片阵列 | CN202280031913.2 | 2022-03-09 | CN117480785A | 2024-01-30 | 崔楠; W·王; Z·肖; Z·李 |
| 在一些方面，设备可从相机的像素阵列接收第一图像。该设备可至少部分地基于第一图像来配置滤光片的设定。该滤光片可被包括在与该像素阵列相关联地布置在该相机内的滤光片阵列内。该设备可使该像素阵列捕获第二图像。描述了众多其他方面。 | ||||||
| 8 | 一种中性密度滤光片的制备方法 | CN201910717648.3 | 2019-08-05 | CN110361803A | 2019-10-22 | 郭谟强; 黄元申; 盛斌; 李超阳; 张大伟; 沈宇航; 王乔波 |
| 本申请提供了本申请提供了一种中性密度滤光片的制备方法,包括如下步骤：根据所设滤光片的最大光密度值、最小光密度值和预设的膜台阶的数目确定每个膜台阶的预设光密度值；根据每个膜台阶的预设光密度值和镀膜材料确定每个膜台阶的预设镀膜厚度；按照膜台阶的预设镀膜厚度由小到大逐级镀膜，在基板上形成膜台阶，在镀膜的过程中，用基板遮挡已经完成镀膜的膜台阶和不需要镀膜的区域，并且，每个台阶镀膜完成后都进行厚度检测和厚度控制的操作。采用上述制备方法，不需要制做特殊形状的遮挡板，且能适用于多种形状的滤光片的制作，滤光片的精度高，可以用于感光材料灵敏度的测量。 | ||||||
| 9 | 一种渐变中性密度滤光片的制作方法 | CN201910056530.0 | 2019-01-22 | CN109500500A | 2019-03-22 | 马轶男; 赵帅锋; 张永喜; 金秀; 汪忠伟; 杨亮; 王宇楠; 宋云鹏; 诸海博; 徐春风 |
| 本发明公开了一种渐变中性密度滤光片的制作方法，该制作方法中选择与目标渐变中性密度滤光片最接近的固定中性密度滤光片作为基片，利用激光加工技术，对基片进行二次加工，以获得符合要求的渐变中性密度滤光片，具有制作效率高，制作成本低等优点。 | ||||||
| 10 | 中性密度滤光片及其制备方法 | CN202110573806.X | 2021-05-25 | CN115390174A | 2022-11-25 | 张艳锋; 周帆; 胡静怡 |
| 本申请提供一种中性密度滤光片及其制备方法，包括：玻璃基底，金属粘结层，所述金属粘结层沉积在所述玻璃基底上；石墨烯膜层，所述石墨烯膜层位于所述金属粘结层上。本公开所提供的中性密度滤光片对各波长可见光(380～760nm)表现出较均匀的吸收，其光衰减能力可通过调控金属粘结层厚度及石墨烯生长时间进行有效调控，且具有良好的结构稳定性，能够有效抵抗作用于其表面的擦拭力，并具有良好的疏水性。本发明获得的中性密度滤光片可用于摄影摄像、各类护目镜及其它精密光学元件等。 | ||||||
| 11 | 中性密度滤光片及其制备方法与应用 | CN201910105696.7 | 2019-02-01 | CN111522087A | 2020-08-11 | 刘忠范; 张艳锋; 张哲朋; 高翾; 周帆; 慈海娜 |
| 提供一种中性密度滤光片的制备方法，在玻璃基底上直接生长石墨烯薄膜。还提供该方法制备的中性密度滤光片及该滤光片的应用。本发明在玻璃基底上直接生长石墨烯薄膜，因此石墨烯薄膜在玻璃基底表面具有较好的结合力；并且可以通过控制载气比例和生长时间来调控滤光片的透光率。通过本发明方法制备的中性密度滤光片在400‑2500nm范围内对光具有均匀的衰减，对波长小于400nm的紫外光具有较强的吸收。本发明的中性滤光片可用于摄像、太阳镜、弧光防护镜等场景衰减光强的镜片；也可用于光学实验中的衰减片，对光功率进行调节；由于石墨烯薄膜具有导电性和疏水性，因此本发明的中性密度滤光片也可用作导电玻璃、疏水玻璃。 | ||||||
| 12 | 低反射型中性密度滤光片 | CN201410618737.X | 2014-11-06 | CN104297833B | 2017-01-18 | 阴晓俊; 高鹏; 张勇喜; 金秀; 马敬; 赵珑现 |
| 本发明属光能衰减光学元件领域，尤其涉及一种低反射型中性密度滤光片，包括基底及镀制其上的膜系层；所述膜系层结构为G|A M B或B M|G|M B；其中M为实现透射衰减及中性透射的金属层；G为基底；A及B为匹配实现金属宽光谱减反射的膜堆；所述膜堆A和膜堆B由介质层与金属层M交替镀制而成；所述金属层M采用Ni-Cr或Ni-Cr-Fe材料；所述介质层采用TiO2、SiO2、Al2O3、HfO2、Ta2O5或Nb2O5。本发明可实现较宽光谱范围内的低反射和透射光谱中性二者性能上的兼顾。 | ||||||
| 13 | 一种中性灰密度滤光片 | CN201721841213.2 | 2017-12-26 | CN207623556U | 2018-07-17 | 王海龙 |
| 本实用新型涉及天文望远镜技术领域，具体涉及一种中性灰密度滤光片。所采用的技术方案是：一种中性灰密度滤光片，包括第一偏光镜和第二偏光镜，所述第一偏光镜、第二偏光镜分别安装在第一安装框、第二安装框内，所述第一安装框和第二安装框之间设置有第三安装框，所述第一安装框左端的外表面设置有第一螺纹、右端的内表面均匀设置若干第一限位块，所述第一限位块由软质橡胶制成，所述第三安装框左端的外表面设置有若干第二限位块、右端的内表面设置有第二螺纹，所述第二安装框左端的外表面设置有第三螺纹，所述第一限位块与第二限位块配合安装，所述第二螺纹与第三螺纹相啮合。本实用新型能够快速调节通光度，且调节效果好。 | ||||||
| 14 | 增强铝薄膜渐变中性密度滤光片及其制造方法 | CN201810913568.0 | 2018-08-13 | CN108897086B | 2022-01-04 | 金秀; 高鹏; 王忠连; 胡雯雯; 张勇喜; 赵帅锋; 陈静; 阎岩 |
| 本发明属舞台灯光配件领域，尤其涉及一种增强铝薄膜渐变中性密度滤光片及其制造方法，包括基底（1）；在所述基底（1）一侧镀有增强铝膜（2）；在所述增强铝膜（2）上刻蚀使光通量随位置连续变化的镂空图案；所述增强铝膜（2）的膜系结构为：Al2O3‑Al‑SiO2‑Ta2O5‑SiO2‑Ta2O5；所述基底（1）采用石英玻璃或高硼硅酸盐玻璃。本发明薄膜结实牢固，可耐高温强光，薄膜光通量呈连续变化，且出射光均匀细腻。 | ||||||
| 15 | 增强铝薄膜渐变中性密度滤光片及其制造方法 | CN201810913568.0 | 2018-08-13 | CN108897086A | 2018-11-27 | 金秀; 高鹏; 王忠连; 胡雯雯; 张勇喜; 赵帅锋; 陈静; 阎岩 |
| 本发明属舞台灯光配件领域，尤其涉及一种增强铝薄膜渐变中性密度滤光片及其制造方法，包括基底（1）；在所述基底（1）一侧镀有增强铝膜（2）；在所述增强铝膜（2）上刻蚀使光通量随位置连续变化的镂空图案；所述增强铝膜（2）的膜系结构为：Al2O3-Al-SiO2-Ta2O5-SiO2-Ta2O5；所述基底（1）采用石英玻璃或高硼硅酸盐玻璃。本发明薄膜结实牢固，可耐高温强光，薄膜光通量呈连续变化，且出射光均匀细腻。 | ||||||
| 16 | 一种制备渐变中性密度滤光片的真空磁控溅射镀膜装置 | CN201810094965.X | 2018-01-31 | CN110093589B | 2023-10-20 | 崔岸; 程普; 郝裕兴; 陈宠; 张睿; 刘芳芳; 孙文龙 |
| 本发明公开了一种制备渐变中性密度滤光片的真空磁控溅射镀膜装置，包括：真空腔体、待镀件支撑装置、圆形挡板机构、转动阴极机构、进水转动密封结构、出水转动密封结构和驱动装置；所述待镀件支撑装置位于所述真空腔体内，并且所述圆形挡板机构位于所述待镀件支撑装置下方；所述圆形挡板机构与所述转动阴极机构固定连接，并在所述驱动装置驱动下同步转动；所述进水转动密封结构和所述出水转动密封结构均设置在所述阴极转动机构底部；本发明可以制备大尺寸的圆形渐变中性密度滤光片，并且该圆形渐变密度滤光片透射率可以在0—270°扇形区域内沿极坐标角度方向线性变化。 | ||||||
| 17 | 一种制备渐变中性密度滤光片的真空磁控溅射镀膜装置 | CN201810094965.X | 2018-01-31 | CN110093589A | 2019-08-06 | 崔岸; 程普; 郝裕兴; 陈宠; 张睿; 刘芳芳; 孙文龙 |
| 本发明公开了一种制备渐变中性密度滤光片的真空磁控溅射镀膜装置，包括：真空腔体、待镀件支撑装置、圆形挡板机构、转动阴极机构、进水转动密封结构、出水转动密封结构和驱动装置；所述待镀件支撑装置位于所述真空腔体内，并且所述圆形挡板机构位于所述待镀件支撑装置下方；所述圆形挡板机构与所述转动阴极机构固定连接，并在所述驱动装置驱动下同步转动；所述进水转动密封结构和所述出水转动密封结构均设置在所述阴极转动机构底部；本发明可以制备大尺寸的圆形渐变中性密度滤光片，并且该圆形渐变密度滤光片透射率可以在0—270°扇形区域内沿极坐标角度方向线性变化。 | ||||||
| 18 | 圆形径向渐变中性密度滤光片及其制备方法和装置 | CN201610007844.8 | 2016-01-07 | CN105607173B | 2018-09-14 | 潘永强; 弥谦; 徐均琪; 宋俊杰 |
| 本发明涉及光能量衰减光学元件制造领域，具体涉及一种圆形径向渐变中性密度滤光片及其制备方法和装置。解决了目前圆形渐变密度滤光片透射率只能在0‑270°扇形区域内沿极坐标角度方向线性变化，而不能在径向渐变的问题，实现了光通量在圆形滤光片径向上的线性递增和线性递减变化，基片上透射率沿半径方向线性渐变的功能。本发明滤光片依次包括基片和镀制在其上的膜层，膜层为金属铬(Cr)或Ni‑Cr，制备方法采用电子束热蒸发技术或磁控溅射技术制备金属Cr或Ni‑Cr薄膜，其中的关键是实现圆形基片上透射率在径向上的线性渐变需要一种专用的装置，所述装置包括，真空室，可旋转的基片架，与基片旋转轴同轴且固定不动的圆形遮挡板，以及蒸发源。 | ||||||
| 19 | 一种CVD金刚石中性密度滤光片装置及其制备方法 | CN201911010393.3 | 2019-10-23 | CN112782820A | 2021-05-11 | 刘宏明; 蒋荣方; 王骏; 赵芬霞 |
| 本发明公开了一种CVD金刚石中性密度滤光片装置及其制备方法，包括滤波镜片、滤波镜片外框、套框和滤波镜片遮避件，所述滤波镜片外框设于套框内，所述滤波镜片设于滤波镜片外框内，所述滤波镜片为掺杂了石墨的CVD金刚石材质加工而成，所述滤波镜片遮避件设于滤波镜片外表面，所述滤波镜片遮避件为掺杂了石墨的CVD金刚石材质加工而成。本发明属于光电技术领域，具体是指一种可以耐受较高激光功率的CVD金刚石中性密度滤光片装置及其制备方法。 | ||||||
| 20 | 圆形径向渐变中性密度滤光片及其制备方法和装置 | CN201610007844.8 | 2016-01-07 | CN105607173A | 2016-05-25 | 潘永强; 弥谦; 徐均琪; 宋俊杰 |
| 本发明涉及光能量衰减光学元件制造领域，具体涉及一种圆形径向渐变中性密度滤光片及其制备方法和装置。解决了目前圆形渐变密度滤光片透射率只能在0-270°扇形区域内沿极坐标角度方向线性变化，而不能在径向渐变的问题，实现了光通量在圆形滤光片径向上的线性递增和线性递减变化，基片上透射率沿半径方向线性渐变的功能。本发明滤光片依次包括基片和镀制在其上的膜层，膜层为金属铬(Cr)或Ni-Cr，制备方法采用电子束热蒸发技术或磁控溅射技术制备金属Cr或Ni-Cr薄膜，其中的关键是实现圆形基片上透射率在径向上的线性渐变需要一种专用的装置，所述装置包括，真空室，可旋转的基片架，与基片旋转轴同轴且固定不动的圆形遮挡板，以及蒸发源。 | ||||||
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