| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 电子背散射衍射仪 | CN201710596460.9 | 2017-07-20 | CN107607564A | 2018-01-19 | 刘胜; 李辉; 陈黎玮; 申胜男 |
| 本发明涉及电子衍射仪，一种可实现缺陷自动调控的电子衍射仪，包括真空样品室，真空样品室内设置有样品台，还包括电子枪、缺陷调控光路以及处理单元，电子枪的电子脉冲聚焦后采用65-70度的入射角射至样品台的样品上，缺陷调控光路的二倍频激光由第二入射窗口透射至真空样品室内的样品台的样品上，缺陷调控光路上设置有激光脉冲能量调节装置以及激光脉冲扫描装置，处理单元包括接收组件以及控制中心。本发明的衍射仪可对样品进行晶体结构分析，还能够进行晶粒尺寸测量等方面的研究分析，且在保证高空间分辨率基础上，将衍射仪的时间分辨率提升至飞秒量级，保证检测信号信噪比的同时实现飞秒电子脉冲数量和能量可控，实现边监测、边调控。 | ||||||
| 2 | 电子背散射衍射仪 | CN201710596460.9 | 2017-07-20 | CN107607564B | 2019-12-20 | 刘胜; 李辉; 陈黎玮; 申胜男 |
| 本发明涉及电子衍射仪，一种可实现缺陷自动调控的电子衍射仪，包括真空样品室，真空样品室内设置有样品台，还包括电子枪、缺陷调控光路以及处理单元，电子枪的电子脉冲聚焦后采用65‑70度的入射角射至样品台的样品上，缺陷调控光路的二倍频激光由第二入射窗口透射至真空样品室内的样品台的样品上，缺陷调控光路上设置有激光脉冲能量调节装置以及激光脉冲扫描装置，处理单元包括接收组件以及控制中心。本发明的衍射仪可对样品进行晶体结构分析，还能够进行晶粒尺寸测量等方面的研究分析，且在保证高空间分辨率基础上，将衍射仪的时间分辨率提升至飞秒量级，保证检测信号信噪比的同时实现飞秒电子脉冲数量和能量可控，实现边监测、边调控。 | ||||||
| 3 | 用于电子背散射衍射的样品台 | CN202110672363.X | 2021-06-17 | CN113390907A | 2021-09-14 | 王伟丽; 吴海斌; 李文慧; 李楠 |
| 本申请涉及用于电子背散射衍射的样品台，具体而言，涉及样品台结构领域；本申请提供的第一柱体与第二柱体连接，第二柱体的侧壁上设置有与第二柱体顶面垂直的垂直面，第二柱体的侧壁上与垂直面相对的位置设置有置物槽，置物槽靠近第二柱体顶面的侧壁为喇叭状结构，置物槽靠近第一柱体的侧壁为弧面，置物槽靠近第一柱体的侧壁上设置有螺孔，螺孔的另一端延伸到第二柱体的侧壁上，螺孔的轴线设置在置物槽的底面内，螺栓螺接在螺孔中；当需要对样品进行扫描时，在该置物槽底部的面上涂覆导电胶，并将样品设置在该置物槽的底面上，拧动螺栓使得螺栓将该样品固定在该置物槽中，使得扫描得到的高分辨率EBSD图像上不产生锯齿，进而增加数据的可靠性。 | ||||||
| 4 | 一种用于电子背散射衍射仪的样品台 | CN201610235494.0 | 2016-04-15 | CN105699408A | 2016-06-22 | 李娟; 王勤; 陆现彩; 陆建军 |
| 本发明实施例公开了一种用于电子背散射衍射仪的样品台，涉及岩石样品分析测试领域，能够在保证实验的安全性的同时满足样品尺寸大、导电性差的样本进行有标样的测试需求。本发明包括：样品台的固定面与底座呈70°夹角，固定面上开有凹槽，凹槽用于安装并固定薄片样品，凹槽与薄片样品的尺寸吻合；凹槽的深度与薄片样品的厚度一致，当薄片样品安装在凹槽中时，薄片样品的待测表面与固定面的表面处于同一平面。固定面上开有用于安装单晶硅标样的标样凹槽，标样凹槽的深度与单晶硅标样的厚度一致，当单晶硅标样安装在标样凹槽中时，单晶硅标样的待测表面与固定面的表面处于同一平面。本发明适用于尺寸大、导电性差的样本的有标样测试。 | ||||||
| 5 | 一种电子背散射衍射的分析方法 | CN202010517623.1 | 2020-06-09 | CN111678932B | 2023-09-15 | 崔桂彬; 鞠新华; 杨瑞 |
| 本发明公开了一种电子背散射衍射的分析方法：根据预设工艺制备标定样品；根据预设工作参数，在扫描电镜下对标定样品进行电子背散射衍射EBSD分析，确定标定样品的目标晶界；采用第一扫描步长对目标晶界进行线扫描分析，获取在线扫描路径上的全部采样点的菊池花样的花样质量BC值；对所有的BC值进行单峰拟合，获得BC值的单峰拟合曲线；确定单峰拟合曲线的半高宽，将半高宽确定为扫描电镜在预设工作参数下的EBSD分析的空间分辨率；根据空间分辨率，确定对待分析样品进行EBSD分析时的目标分析参数。上述方法能够更加方便、快捷地分析出当前工作参数下EBSD的空间分辨率，基于此提高对待分析样品进行EBSD分析的准确性。 | ||||||
| 6 | 一种电子背散射衍射的分析方法 | CN202010517623.1 | 2020-06-09 | CN111678932A | 2020-09-18 | 崔桂彬; 鞠新华; 杨瑞 |
| 本发明公开了一种电子背散射衍射的分析方法：根据预设工艺制备标定样品；根据预设工作参数，在扫描电镜下对标定样品进行电子背散射衍射EBSD分析，确定标定样品的目标晶界；采用第一扫描步长对目标晶界进行线扫描分析，获取在线扫描路径上的全部采样点的菊池花样的花样质量BC值；对所有的BC值进行单峰拟合，获得BC值的单峰拟合曲线；确定单峰拟合曲线的半高宽，将半高宽确定为扫描电镜在预设工作参数下的EBSD分析的空间分辨率；根据空间分辨率，确定对待分析样品进行EBSD分析时的目标分析参数。上述方法能够更加方便、快捷地分析出当前工作参数下EBSD的空间分辨率，基于此提高对待分析样品进行EBSD分析的准确性。 | ||||||
| 7 | 一种用于电子背散射衍射仪的样品台 | CN201610235494.0 | 2016-04-15 | CN105699408B | 2019-03-29 | 李娟; 王勤; 陆现彩; 陆建军 |
| 本发明实施例公开了一种用于电子背散射衍射仪的样品台，涉及岩石样品分析测试领域，能够在保证实验的安全性的同时满足样品尺寸大、导电性差的样本进行有标样的测试需求。本发明包括：样品台的固定面与底座呈70°夹角，固定面上开有凹槽，凹槽用于安装并固定薄片样品，凹槽与薄片样品的尺寸吻合；凹槽的深度与薄片样品的厚度一致，当薄片样品安装在凹槽中时，薄片样品的待测表面与固定面的表面处于同一平面。固定面上开有用于安装单晶硅标样的标样凹槽，标样凹槽的深度与单晶硅标样的厚度一致，当单晶硅标样安装在标样凹槽中时，单晶硅标样的待测表面与固定面的表面处于同一平面。本发明适用于尺寸大、导电性差的样本的有标样测试。 | ||||||
| 8 | 晶体缺陷的电子背散射衍射成像表征方法 | CN202410540903.2 | 2024-04-30 | CN118112027A | 2024-05-31 | 樊士钊; 文人杰; 刘蓉; 殷宇豪 |
| 本发明公开了一种晶体缺陷的电子背散射衍射成像表征方法，该方法利用扫描电镜设备SEM，通过背散射电子通道衬度成像(ECCI)分析缺陷，可以直接观测外延薄膜或单晶块体材料晶体样品中的小角度晶界以及相分离；用位错成像尺寸和黑白衬度(B‑W)方向区分位错类型，建立一种可靠的位错类型区分方式。小角度下(θ<10°)倾斜晶体样品选择合适的衍射矢量#imgabs0#，有利于表征靠近高度对称晶带轴[0001]的位错，是一种针对外延薄膜或单晶块体材料晶体样品中穿透位错密度及类型的大面积、快速无损分析方法。 | ||||||
| 9 | 钕铁硼电子背散射衍射分析样品的制备方法 | CN202110704200.5 | 2021-06-24 | CN113514485A | 2021-10-19 | 韩小磊; 徐云培; 杜志伟; 李聪; 车聪; 付新; 李婷; 贾荣光; 何少卿; 彭永刚 |
| 本发明涉及一种钕铁硼电子背散射衍射分析样品的制备方法，属于扫描电镜样品制备技术领域。本发明通过金相镶样、机械研磨、机械抛光、振动抛光和样品清洗等步骤，制备出大区域高质量的样品。采用本方法制备的钕铁硼EBSD的样品，避免了样品在制样过程中被不均匀腐蚀或产生表面离子损伤，EBSD采集装置可以采集到高质量的菊池花样，从而获得样品准确的结构和取向信息；由于采用了镶样的方法制样，本方法对于样品的适用性较好，适用于从微米级粉体到厘米级块体的各种形态的NdFeB样品。本方法制样操作简单，可实施性强，成本低廉。 | ||||||
| 10 | 镀锌板表面镀层电子背散射衍射样品制备方法 | CN201711150682.4 | 2017-11-18 | CN107976457B | 2020-08-07 | 王志奋; 万菲; 周元贵; 张彦文; 邓照军 |
| 本发明涉及镀锌板表面镀层的样品制备领域，公开了一种镀锌板表面镀层电子背散射衍射样品制备方法，包括如下步骤：试样预处理、双束系统样品室调节、切割区域设置和离子束切割。本发明镀锌板表面镀层电子背散射衍射样品制备方法利用聚焦离子束准确的微区加工功能，准确控制镀锌层的切割厚度，避免镀锌层受到腐蚀和应力影响，大幅度提高了镀锌板表面镀层电子背散射衍射样品的制备成功率。 | ||||||
| 11 | 片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置 | CN201911106186.8 | 2019-11-13 | CN110658223A | 2020-01-07 | 李昂; 张毅; 温禹; 王淯 |
| 本发明公开了一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，包括压块和定位圆块；所述压块是由螺柱和围绕螺柱下端外壁均布的多个支撑块组成的锤状结构；所述定位圆块中间形成Ⅰ号连接螺孔，圆周壁上形成多个Ⅱ号连接螺孔；螺柱与Ⅰ号连接螺孔螺纹连接；压块放入试样筒内，底面与片状试样上表面接触，支撑块外套设镶嵌块。本发明提供了一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，实现了片状试样沿垂直于厚向的EBSD制样，适用性强，制样效率较高，花样质量较好。 | ||||||
| 12 | 一种电子背散射衍射试样电解抛光装置 | CN201610889667.0 | 2016-10-12 | CN106400099B | 2018-04-17 | 郑振环; 李强 |
| 本发明公开一种电子背散射衍射试样电解抛光装置，其包括电解槽、电解液存储槽、清洗液存储槽、阳极杆、阴极盘和直流电源，电解槽顶部的开口处设有上盖，阳极杆可升降连接于上盖上，阴极盘设于电解槽的底部，阴极盘内部具有空腔，阴极盘的上端面设有多个与空腔连通的喷射孔，阴极盘的底部连接有与空腔连通的空心管，电解液存储槽的底部通过电解液输送管与空心管连接，清洗液存储槽的底部通过清洗液输送管与空心管连接；电解槽的上部侧壁通过电解液溢流管与电解液存储槽连通，电解槽的下部侧壁上通过电解液回流管连通至电解液存储槽，电解槽的下部侧壁上还通过清洗液回流管连通至清洗液存储槽。本装置结构紧凑，对流效果好，电解抛光均匀。 | ||||||
| 13 | 一种镍合金的电子背散射衍射样品的制备方法 | CN201010588267.9 | 2010-12-07 | CN102539216A | 2012-07-04 | 彭海健; 李德富; 郭胜利; 郭青苗; 胡捷; 杜鹏 |
| 本发明公开了属于电镜样品制备技术领域的一种镍合金的电子背散射衍射(EBSD)样品的制备方法。其工艺步骤为：粗磨、清洗、电解抛光、清洗。其中电解抛光液的配方为硫酸∶磷酸∶甲醇＝3～5∶0.8～1.2∶13～17(体积比)。本发明工艺简单，可以容易地制备镍合金EBSD样品，可在扫描电镜上获得清晰的EBSD取向成像图片。 | ||||||
| 14 | 片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置 | CN201911106186.8 | 2019-11-13 | CN110658223B | 2023-04-25 | 李昂; 张毅; 温禹; 王淯 |
| 本发明公开了一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，包括压块和定位圆块；所述压块是由螺柱和围绕螺柱下端外壁均布的多个支撑块组成的锤状结构；所述定位圆块中间形成Ⅰ号连接螺孔，圆周壁上形成多个Ⅱ号连接螺孔；螺柱与Ⅰ号连接螺孔螺纹连接；压块放入试样筒内，底面与片状试样上表面接触，支撑块外套设镶嵌块。本发明提供了一种片状试样的电子背散射衍射制样辅助装置，实现了片状试样沿垂直于厚向的EBSD制样，适用性强，制样效率较高，花样质量较好。 | ||||||
| 15 | 金刚石电子背散射衍射分析样品的制备方法 | CN201810963084.7 | 2018-08-22 | CN108760781A | 2018-11-06 | 郭建超; 蔚翠; 冯志红; 刘艳青; 房玉龙; 何泽召; 刘庆彬; 周闯杰; 高学栋 |
| 本发明适用于半导体技术领域，提供了一种金刚石电子背散射衍射分析样品的制备方法，该方法包括：将金刚石样品进行抛光处理；将抛光处理后的金刚石样品进行氢等离子体处理。本发明通过对金刚石样品抛光处理，使金刚石样品表面平整，通过对金刚石样品进行氢等离子体处理，能够降低金刚石表面残余应力，并能形成稳定的导电性氢终端，从而制备出表面平整、残余应力低、导电性良好的金刚石电子背散射衍射分析样品，能够满足电子背散射衍射分析的需求。 | ||||||
| 16 | 一种电子背散射衍射试样电解抛光装置 | CN201610889667.0 | 2016-10-12 | CN106400099A | 2017-02-15 | 郑振环; 李强 |
| 本发明公开一种电子背散射衍射试样电解抛光装置，其包括电解槽、电解液存储槽、清洗液存储槽、阳极杆、阴极盘和直流电源，电解槽顶部的开口处设有上盖，阳极杆可升降连接于上盖上，阴极盘设于电解槽的底部，阴极盘内部具有空腔，阴极盘的上端面设有多个与空腔连通的喷射孔，阴极盘的底部连接有与空腔连通的空心管，电解液存储槽的底部通过电解液输送管与空心管连接，清洗液存储槽的底部通过清洗液输送管与空心管连接；电解槽的上部侧壁通过电解液溢流管与电解液存储槽连通，电解槽的下部侧壁上通过电解液回流管连通至电解液存储槽，电解槽的下部侧壁上还通过清洗液回流管连通至清洗液存储槽。本装置结构紧凑，对流效果好，电解抛光均匀。 | ||||||
| 17 | 用于透射-电子背散射衍射的工具及衍射图像成像方法 | CN201710084967.6 | 2017-02-17 | CN106935464B | 2019-05-03 | 陈忠伟; 田博文; 谢斌; 李昊波; 韩一帆; 张念; 褚陆嘉 |
| 本发明涉及一种用于透射‑电子背散射衍射的工具及衍射图像成像方法，通过在传统的样品台基础上加了一个透射电镜样品安装夹，并固定其衍射角度(70°)，对材料进行透射‑电子背散射衍射图像成像。提供了一种新的分析方法。透射电镜样品不仅可以在透射电镜上分析，还可以用在EBSD上利用背散射电子，同时，样品台倾角的精准确定固定了样品的位置，更容易安装，是更多的电子束轰击目标区域，减少了其它部分的影响，同时还可以清晰的获得花样与材料的对应关系，弄清显微图像对应的样品实际区域。本方法中所使用的样品台可以固定样品，并有固定的倾角，减少样品台带来的实验误差，提高成像的空间分辨率，同时也方便了操作者的实际操作。 | ||||||
| 18 | 用于透射‑电子背散射衍射的工具及衍射图像成像方法 | CN201710084967.6 | 2017-02-17 | CN106935464A | 2017-07-07 | 陈忠伟; 田博文; 谢斌; 李昊波; 韩一帆; 张念; 褚陆嘉 |
| 本发明涉及一种用于透射‑电子背散射衍射的工具及衍射图像成像方法，通过在传统的样品台基础上加了一个透射电镜样品安装夹，并固定其衍射角度(70°)，对材料进行透射‑电子背散射衍射图像成像。提供了一种新的分析方法。透射电镜样品不仅可以在透射电镜上分析，还可以用在EBSD上利用背散射电子，同时，样品台倾角的精准确定固定了样品的位置，更容易安装，是更多的电子束轰击目标区域，减少了其它部分的影响，同时还可以清晰的获得花样与材料的对应关系，弄清显微图像对应的样品实际区域。本方法中所使用的样品台可以固定样品，并有固定的倾角，减少样品台带来的实验误差，提高成像的空间分辨率，同时也方便了操作者的实际操作。 | ||||||
| 19 | 钕铁硼电子背散射衍射分析样品的制备方法 | CN202110704200.5 | 2021-06-24 | CN113514485B | 2023-12-01 | 韩小磊; 徐云培; 杜志伟; 李聪; 车聪; 付新; 李婷; 贾荣光; 何少卿; 彭永刚 |
| 本发明涉及一种钕铁硼电子背散射衍射分析样品的制备方法，属于扫描电镜样品制备技术领域。本发明通过金相镶样、机械研磨、机械抛光、振动抛光和样品清洗等步骤，制备出大区域高质量的样品。采用本方法制备的钕铁硼EBSD的样品，避免了样品在制样过程中被不均匀腐蚀或产生表面离子损伤，EBSD采集装置可以采集到高质量的菊池花样，从而获得样品准确的结构和取向信息；由于采用了镶样的方法制样，本方法对于样品的适用性较好，适用于从微米级粉体到厘米级块体的各种形态的NdFeB样品。本方法制样操作简单，可实施性强，成本低廉。 | ||||||
| 20 | 一种可倾转透射模式电子背散射衍射实验装置 | CN201910143821.3 | 2019-02-27 | CN109884097A | 2019-06-14 | 曹亚楠; 段宝玉; 谭心; 赵瑞超; 张邦文; 王海燕; 诸葛晨昱; 李一鸣; 霍文霞; 段宝龙 |
| 本发明公开了一种可倾转透射模式电子背散射衍射实验装置，包括固定在扫描电镜观察台面的机座，所述机座上开设有开槽，开槽的后侧机座上设有固定板，所述固定板上固定有伺服电机，在伺服电机的转子上固定有主动同步带轮；所述开槽的两侧设有托臂；在托臂上设有轴孔，在托臂上通过转轴安装有活动臂；所述活动臂上开设有U型槽，在转轴上且位于活动臂U型槽内固定有从动同步带轮；在转轴的一侧通过联轴器连接有转角检测传感器；所述活动臂的前端面固定有楔形探头，在探头的上表面固定有样品台，在样品台的两侧固定有样品夹等结构；该装置降低探头和样品台碰撞事故率、节约实验时间成本，使扫描电镜设备更容易升级到透射电镜技术级别。 | ||||||
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