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序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
1 彗形像差减小的彩色阴极射线管 CN97119318.5 1997-09-04 CN1177197A 1998-03-25 御园正义; 田村博行; 车条努
一种彩色阴极射线管包括:屏盘、颈部、漏斗部分、荧光屏、荫罩、电子枪、偏转磁场和有多个磁件的偏转校正装置。多个磁件设在一字式方向上的三束电子束中每一侧边电子束颈壁边上的第一对磁件和设在上述电子束中的中心电子束相对边上的第二对磁件,他们构成能局部改变偏转磁场,使三束电子束在荧光屏上形成的三个光栅彼此重叠。第一对磁件有其轴长比第二对磁件的轴长长的部分。轴长是在包括一字式方向和彩色阴极射线管的纵长轴的平面上测试的。
2 彗形像差减小的彩色阴极射线管 CN97119318.5 1997-09-04 CN1082715C 2002-04-10 御园正义; 田村博行; 车条努
一种彩色阴极射线管包括:屏盘、颈部、漏斗部分、荧光屏、荫罩、电子枪、偏转装置和具有多个磁件的偏转校正装置;多个磁件包括设置在一列式方向的三束电子束中每个侧边电子束的颈壁边上的第一对磁件和设置于所述电子束中的中心电子束的相对边上的第二对磁件,它们构成能局部改变偏转磁场,使三束电子束在荧光屏上形成的三个光栅彼此重叠。第一对磁件有其轴长比第二对磁件的轴长长的部分。轴长是在包括一列式方向和彩色阴极射线管的纵长轴的平面上测得的。
3 具有一字形电子枪和彗差校正件的彩色显像管 CN85103551 1985-05-04 CN85103551B 1988-04-13 陈新瑶; 理查德·亨利·休斯
改进的彩色显象管有一个产生和引导三条电子束的一字形电子枪,这些电子束沿最初共面通路向显象管屏幕发射,电子束穿过偏转区。偏转区内建立两个正交磁性偏转场,第一个偏转场使电子束的偏转与电子束排列方向垂直,第二个偏转场使偏离电子的偏转与其平行。这个改进由4个含有导磁部件的电子枪组成。第一和第二部件位于中心光束通路和第一、第二光束通路之间,第三和第四部件由第一和第二部件隔开,并位于外电子束通路的外面。
4 具有平彗形像差校正的彩色阴极-射线管的偏转系统 CN01820877.0 2001-12-18 CN1228807C 2005-11-23 纳赛尔丁·阿齐; 奥利维耶·马松; 塞巴斯蒂安·沃拉蒂莱
一种阴极一射线管的偏转板,包括一对平偏转线圈(3)和一对垂直偏转线圈(4),两对偏转线圈为鞍形并由隔离器(2)互相隔离,平头圆锥体形的体环(5)至少部分覆盖偏转线圈,偏转板的特征是,场整形器(20)位于垂直和水平偏转线圈之间,并位于偏转线圈的后端部,四个场整形器(20)对称的位于偏转板的对称轴的水平轴X和垂直轴Y。为了对出现在管子屏幕上形成的图像的水平边缘的彗形像差现象起作用,这些场整形器安放的条件是增加垂直偏转场势能的二次谐波而不影响势能的一次谐波。
5 具有平彗形像差校正的彩色阴极-射线管的偏转系统 CN01820877.0 2001-12-18 CN1489776A 2004-04-14 纳赛尔丁·阿齐; 奥利维耶·马松; 塞巴斯蒂安·沃拉蒂莱
一种用于阴极一射线管的偏转板,包括一对平偏转线圈和一对垂直偏转线圈,两对为鞍形并由隔离器互相隔离,平头圆锥体形的体环至少部分覆盖偏转线圈,偏转板的特性是,包括位于垂直和水平偏转线圈之间的偏转线圈的背部,四个场整形器对称的位于偏转板的对称轴。为了对出现在管子屏幕上形成的图像的水平边缘的彗形像差现象起作用,这些场整形器安放的条件是增加垂直偏转场势能的二次谐波而不影响势能的一次谐波。
6 彗形像差補償裝置、彗形像差補償方法以及光碟 COMA ABERRATION COMPENSATING DEVICE, COMA ABERRATION COMPENSATING METHOD, AND OPTICAL DISC TW098117071 2009-05-22 TW201003648A 2010-01-16 柳澤琢磨
一種用於在一記錄與再顯裝置之一拾取器中補償彗形像差的方法獲提供,其中該記錄與再顯裝置使用該拾取器在一光碟上或從該光碟記錄或再顯資料。該方法包括一第一彗形像差補償步驟及一第二彗形像差補償步驟,其中該第一彗形像差補償步驟用以在一光學系統之一主體中補償彗形像差,該光學系統包括用於將光束發射到包括多個記錄層之一光碟之一物鏡,該第二彗形像差補償步驟用以補償由該光學系統相對於該光碟之相對傾產生的彗形像差。
7 렌즈의 코마수차 측정방법 KR1019980039520 1998-09-23 KR100309905B1 2001-11-15 임동규; 권기성
본 발명은 렌즈의 코마수차 측정방법에 관한 것으로, 반도체 리소그라피 장비인 스테퍼나 스캐너 등에 장착되는 렌즈의 회절한계 시스템에서, 애퍼처의 중앙에 위치하는 센터홀과 상기 센터홀의 주위로 다수개의 작은 크기의 홀을 애퍼처상에 형성하고, 상기 다수개의 홀들 중 하나의 홀만을 개방시킨 상태에서 상기 각 홀을 따라 노광을 각각 실시한 다음, 상기 각 홀을 통해 렌즈 출구 퓨필상에 형성되는 웨이브프런트 정보를 차례로 측정한 후, 센터홀과 원하는 홀간의 상대적인 웨이브프런트 차를 측정함에 의해 렌즈의 코마수차를 측정함으로써, 패턴의 중첩도에 영향을 미칠 수 있는 렌즈의 코마수차 인자를 정량화시켜 반도체 소자의 제조 공정수율을 향상시킬 수 있으며, 스테퍼나 스캐너의 렌즈를 장비에 장착한 후, 수시로 렌즈의 코마수차를 � �정할 수 있다.
8 편향 요크의 코마 수차 보정 회로 KR1019970023459 1997-06-05 KR1019990000520A 1999-01-15 양태종
화면의 상부와 중앙부의 전자빔의 편차를 대폭 축소시켜서, 화면의 화질 열화가 발생되지 않도록 할 수 있는 편향 요크의 코마 수차 보정 회로를 제공하고자, 보정 코일부(6)의 후단에 상기한 보정 코일(L3),(L4)의 동작을 제어하기 위하여 복수개의 다이오드(D1)(D2)가 역방향으로 병렬 접속된 다이오드 부(10)를 직렬 접속한 것이다.
9 음극선관의 코마수차 보정장치 KR2019940030945 1994-11-22 KR2019960019009U 1996-06-19 김후득
10 편향요크의 코마수차 보정장치 KR2019900020691 1990-12-22 KR2019930006176Y1 1993-09-15 이정희
내용 없음.
11 코마수차 길이 측정 장치 KR2019900013521 1990-08-31 KR2019920004926U 1992-03-26 정명관
12 코마 수차가 개선된 편향 요크 KR2019900007550 1990-05-31 KR2019910021004U 1991-12-20 조정규
13 노광 장치의 코마 수차 보정 방법 KR1020000010380 2000-03-02 KR100585081B1 2006-05-30 신혜수
노광 장치의 코마 수차 보정 방법에 관해 개시되어 있다. 투광 영역 및 차광영역을 포함하는 비 위상 반전 마스크의 투광 영역 중에서 코마 수차에 대한 패턴 변형과 반대되는 방향으로 패턴의 변화를 일으키는 선택된 적어도 어느 한 영역에 위상 반전 층을 형성하는 방법으로 선택된 위상 반전 마스크를 형성한다. 이와 같은 선택된 위상 반전 마스크를 사용함으로써 코마 수차가 있는 노광 장치를 이용하여 패턴, 예컨대 라인 및 스페이스을 형성하는 경우에 상기 코마 수차에 의해 패턴이 비대칭적으로 형성되고 그 중심이 쉬프트되는 것을 방지할 수 있다.
14 정밀한 렌즈의 코마수차 평가방법 KR1019960031095 1996-07-29 KR1019980010635A 1998-04-30 박정철; 규종욱
15 편향 요크의 코마 프리 어셈브리용 리드선 가이드구조 KR2019960019400 1996-06-29 KR200144648Y1 1999-06-15 문제길
본 고안은 편향 요크에 있어서, 미스 컨버젼스의 보정을 위해 사용하는 코마 프리 어셈브리의 리드선을 효과적으로 단속하기 위한 리드선 가이드구조에 대한 것으로 고안의 주된 목적은 코마 프리 어셈브리용 리드선의 위치를 일사분란하게 유도하여 상호간에 쇼트현상이 발생하지 않도록 미연에 방지하는데 있으며, 더 나가서 상품의 신뢰성을 향상시키고자 하는데 목적이 있는 것이다. 이를 위한 주요 구성은 중앙에 네크부를 가지고, 그 주위에 평판부를 가지며, 이 평판부의 일측편에는 기판이 마련되고, 상기한 평판부의 상면에는 복수의 코마 프리 어셈브리를 가지는 편향 요크, 상기한 편향 요크에서 기판이 부착되는 방향의 평판부 상면에 복수의 돌기를 돌설하여 상기 코마 프리 어셈브리로 부터 연장되는 리드선을 효과적으로 단속할 수 있도록 하는데 있다.
16 Coma aberration correcting method and apparatus in optical pickup EP97112375.7 1997-07-18 EP0820056B1 2002-11-06 Takahashi, Shinichi, c/o Pioneer Electronic Corp.
17 Measurement method of Zernike coma aberration coefficient US09662016 2000-09-14 US06459480B1 2002-10-01 Jongwook Kye
The present invention provides a method for measuring lens aberration of light on a wafer. The method includes printing a pattern on the wafer by projecting the pattern through a lens in a plurality of pitches and directions; measuring a plurality of critical dimension (CD) differences between two locations on the printed pattern for each of the plurality of pitches and directions; and determining at least one Zernike coma aberration coefficient based on the measured plurality of CD differences. The method in accordance with the present invention measures the CD difference between two locations on the printed pattern on a wafer. This CD difference is then used to calculate the Zernike coma aberration coefficients. No projected reference pattern is required to measure the CD difference, and thus an absolute coma aberration can be calculated. Also, the coma aberration coefficients are based on the light projected onto the wafer, allowing chip manufacturers to more precisely select a stepper with an appropriate lens aberration. This in turn allows better quality control in the clarity of patterns printed on wafers.
18 Apparatus and method for compensating coma aberration US762508 1996-12-10 US5726436A 1998-03-10 Michio Oka; Naoya Eguchi; Hiroshi Suganuma
An optical pick-up apparatus includes a light source, an objective lens, a beam splitter, a detector, a first optical compensating device and a second optical compensating device. The objective lens converges a light beam emitted from the light source at one point on an optical axis. The beam splitter separates the light beam emitted from the light source from a returning light reflected on an optical disc. The detector detects the returning light separated from the light beam emitted from the light source. The first optical compensating device has a convex aspherical surface represented by X.alpha.R.sup.4 and is located on an optical path where the light beam is emitted from the light source. The second optical compensating device has a concave aspherical surface represented by +.alpha.R.sup.4 and is located on an optical path where the light beam is emitted from the light source.
19 Method for measuring coma aberration in optical system US09981912 2001-10-19 US20020048018A1 2002-04-25 Masashi Fujimoto
A coma aberration measuring method which takes the following steps. An object is exposed to light with a mask which bears a plurality of evaluation patterns each having at least two line patterns, wherein the width of lines in each of the plural evaluation patterns is different from that in any of the other evaluation patterns. Alternatively, a plurality of exposures are made on an object with a mask bearing evaluation patterns each having at least two line patterns, while varying the amount of light exposure for each exposure. As a result, a plurality of transfer patterns are created on the object. A detection is made as to in which one or ones among these plural transfer patterns either of the two line patterns is missing. Depending on the magnitude of coma aberration in the optical system used to make exposures, a line pattern with a certain line width among the line patterns to be transferred is not actually transferred. Therefore, the magnitude of coma aberration can be determined according to in which one or ones among the transfer patterns made on the object this phenomenon is observed.
20 Optical device for demonstrating comatic aberration US14979361 1961-11-02 US3094790A 1963-06-25 SCIDMORE WRIGHT H; YODER JR PAUL R
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