| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 相位对比成像法 | CN202080091763.5 | 2020-02-27 | CN115023605A | 2022-09-06 | 曹培炎; 刘雨润 |
| 一种方法，其包括：朝向图像传感器发送铅笔形辐射束(i)，其中所述铅笔形辐射束(i)入射在所述图像传感器的入射区域(i)上，其中所述铅笔形辐射束(i)对准所述图像传感器上的目标区域(i)，其中所述图像传感器包括彼此在空间上不连续的有源区域，并且其中所述入射区域(i)和所述目标区域(i)在所述有源区域上；并且对于i＝1，...，M，确定在所述入射区域(i)和所述目标区域(i)之间的偏移量(i)。i＝1，...，M，其中M是正整数。所述辐射检测器(100)包括像素(150)和辐射吸收层(110)和电子器件层(120)。 | ||||||
| 2 | 相位对比成像法 | CN202080091839.4 | 2020-02-27 | CN114930162A | 2022-08-19 | 曹培炎; 刘雨润 |
| 本文公开了一种方法，其包括：对于i＝1，...，M，朝向图像传感器发送铅笔形辐射束(i)，其中所述铅笔形辐射束(i)入射在所述图像传感器的有源区域上的入射区域(i)上，其中所述铅笔形辐射束(i)对准所述有源区域上的目标区域(i)，其中M是正整数，对于i＝1，...，M，确定在所述入射区域(i)和所述目标区域(i)之间的偏移量(i)。辐射检测器(100)包括像素(150)的阵列、吸收层(110)和电子器件层(120)。 | ||||||
| 3 | 相位干涉显微成像系统 | CN202410232057.8 | 2024-03-01 | CN117804329A | 2024-04-02 | 曹子峥; 周延; 皮雅稚; 余少华 |
| 本发明涉及成像技术领域，提出一种相位干涉显微成像系统，相位干涉显微成像系统包括信号接收部、样品置放部、光源部以及传输调理部；传输调理部包括非对称分光器，用于接收光源部出射的光束，并使光束分别调制为朝向信号接收部传输的空间相干的参考光和朝向样品置放部传输的空间去相干的物面照明光；物面照明光传输至样品置放部后，经样品表面反射形成物光，物光朝向信号接收部传输，并与参考光共轴设置，以使物光和参考光发生相互干涉，继而被信号接收部所接收，以得到干涉图像。本申请的技术方案，能够实现物面照明光的空间去相干，从而有利于提高相位干涉显微成像系统的稳健性。 | ||||||
| 4 | X射线相位成像装置 | CN201780071767.5 | 2017-09-06 | CN110049725B | 2023-03-28 | 堀场日明; 白井太郎; 土岐贵弘; 佐野哲 |
| 一种X射线相位成像装置(100)，其包括控制部(5)，所述控制部(5)针对已通过调整机构部(3)而变化的被摄物(S)与成像光栅部(G1)的多个相对的位置的各个，分别生成暗视场像(Iv)，获取各个暗视场像中(Iv)的感兴趣区域(ROI)的对比度，并且以根据已获取的各个对比度，调整被摄物(S)与成像光栅部(G1)的相对的位置的方式控制调整机构部(3)。 | ||||||
| 5 | Ｘ射线相位差成像装置 | CN201810653082.8 | 2018-06-22 | CN109106387B | 2022-03-15 | 堀场日明; 白井太郎; 土岐贵弘; 佐野哲; 森本直树 |
| 本发明提供一种X射线相位差成像装置。该X射线相位差成像装置具备多个光栅和用于保持多个光栅中的各个光栅的光栅保持部。多个光栅被配置成在与X射线的光轴正交的面内多个光栅的光栅构成部分延伸的方向沿着因光栅保持部引起的位置偏移最大的方向。 | ||||||
| 6 | X射线相位成像装置 | CN202010213056.0 | 2020-03-24 | CN111839558A | 2020-10-30 | 佐野哲; 田边晃一; 和田幸久; 德田敏; 堀场日明; 森本直树 |
| 本发明提供一种X射线相位成像装置。在该X射线相位成像装置中，多个光栅中的至少一个光栅由沿着与第一方向及第二方向正交的第三方向排列配置的多个光栅部分构成，所述第一方向是利用移动机构使被摄体或摄像系统移动的方向，所述第二方向是X射线源、检测部以及多个光栅排列的方向。而且，多个光栅部分构成为：从第一方向观察时，相邻的光栅部分彼此重叠。 | ||||||
| 7 | 相位干涉显微成像系统 | CN202410232057.8 | 2024-03-01 | CN117804329B | 2024-05-31 | 曹子峥; 周延; 皮雅稚; 余少华 |
| 8 | X射线相位成像装置 | CN202180077978.6 | 2021-07-07 | CN116547523A | 2023-08-04 | 土岐贵弘; 木村健士; 白井太郎; 森本直树 |
| 所述X射线相位成像装置(100)包括：X射线源(1)；X射线检测器(2)；多个光栅；被摄物载置部(21)，配置于X射线的照射范围内，载置有被摄物(90)；以及图像处理部(71)，基于由X射线检测器检测出的X射线的强度分布而生成X射线相位对比度图像(40)，被摄物载置部由X射线的透过率比金属大且X射线的散射程度比金属小的第一材料形成。 | ||||||
| 9 | Ｘ射线相位成像装置 | CN201810354238.2 | 2018-04-19 | CN108720855B | 2022-02-18 | 田边晃一; 木村健士; 吉牟田利典; 白井太郎; 土岐贵弘; 佐野哲; 堀场日明; 森本直树 |
| 本发明提供一种X射线相位成像装置。该X射线相位成像装置包括：位置切换机构，其使一个或多个光栅的相对位置在退避位置与检测位置之间切换，其中，该退避位置为处于图像信号检测器的检测面上的检测范围外的位置，该检测位置为处于图像信号检测器的检测面上的检测范围内的位置；以及焦点直径变更部，其使X射线源的焦点直径与一个或多个光栅的相对位置的切换联动地变更。 | ||||||
| 10 | X射线相位成像装置 | CN202011178422.X | 2020-10-29 | CN112869756A | 2021-06-01 | 佐野哲; 田边晃一; 和田幸久; 德田敏; 堀场日明; 森本直树 |
| 本发明提供一种X射线相位成像装置。该X射线相位成像装置具备图像处理部，该图像处理部基于在相位对比度图像中沿着从X射线的光轴方向看来与平移方向正交的正交方向产生的渐变的分布状态，来校正该渐变。 | ||||||
| 11 | 相位对比成像方法 | CN201880046584.2 | 2018-07-02 | CN110868933A | 2020-03-06 | R.内博西斯; P.莱布兰斯 |
| 一种相位对比成像（PCI）方法，其中代替于使用分析器栅格检测器，像素被分组，并且总像素的仅一部分被用于计算相位对比图像。在第二、第三……步骤中，没有在先前的重新计算中被使用的像素被附加地用于重新计算第二、第三……相位对比图像。最后，不同的相位对比图像被融合以导致全图像。 | ||||||
| 12 | Ｘ射线相位差成像装置 | CN201810653082.8 | 2018-06-22 | CN109106387A | 2019-01-01 | 堀场日明; 白井太郎; 土岐贵弘; 佐野哲; 森本直树 |
| 本发明提供一种Ｘ射线相位差成像装置。该X射线相位差成像装置具备多个光栅和用于保持多个光栅中的各个光栅的光栅保持部。多个光栅被配置成在与X射线的光轴正交的面内多个光栅的光栅构成部分延伸的方向沿着因光栅保持部引起的位置偏移最大的方向。 | ||||||
| 13 | 一种相位成像系统 | CN201410353727.8 | 2014-07-23 | CN104142131B | 2017-05-10 | 苏云; 刘雨晨; 焦建超; 钟晓明; 贺金平; 阮宁娟; 张月 |
| 本发明提供一种相位成像系统，包括光学成像系统、图像转换模块、平面位置确定模块、平面图像获取模块和相位恢复模块。采用该光学成像系统，经过透镜阵列中单元透镜的二次汇聚作用可以将透过光学系统光瞳面的光线一次成像在探测器的像元上，无需沿光轴移动探测器进行多次成像。这样，无需包括运动部件或分光部件即可对目标物体进行成像，保证了系统可以准确探测高速运动目标或者形态属性发生瞬变的目标，减少了系统结构的复杂度，增加了系统的稳定性。 | ||||||
| 14 | 相位对比度成像设备 | CN201280033300.9 | 2012-06-27 | CN103648388B | 2017-05-03 | E·弗雷登贝里; M·奥斯伦德 |
| 一种X射线成像系统包括X射线源；X射线探测器，其包括被布置在所述X射线探测器的第一方向上的多个探测器带，每个探测器带还包括被布置在所述X射线探测器的第二方向上的多个探测器像素；相位光栅；多个分析器光栅，其包括光栅狭缝；相位光栅，并且多个分析器光栅包括光栅狭缝，其中，所述X射线源和所述X射线探测器适于在所述第一方向上执行关于对象的扫描运动，以扫描所述对象，其中，分析器光栅被布置在X射线源与X射线探测器之间，其中，所述多个分析器光栅（162）中的每个被布置为与具有被布置在所述第二方向上的所述光栅狭缝的相应探测器带相关联，并且其中，所述探测器带的所述分析器光栅的所述光栅狭缝在所述第二方向上相对彼此被移位。 | ||||||
| 15 | 微分相位对比成像 | CN201180050117.5 | 2011-10-12 | CN103189739B | 2015-12-02 | E·勒斯尔 |
| 本发明涉及微分相位对比成像，尤其涉及一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅、例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了更好地利用通过对象的X射线辐射，提供一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅（14），其具有第一子区域（26）的至少一个部分（24）和第二子区域（30）的至少一个部分（28）。所述第一子区域包括具有多个以第一光栅间距PG（38）周期性布置的条（34）和间隙（36）的光栅结构（54），其中，所述条被布置成使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度，并且其中，所述间隙是能透过X射线的。所述第二子区域是能透过X射线的，并且其中，所述第二子区域的至少一个部分在光栅中提供能透过X射线的孔径（40）。沿至少一个方向（42）以交替方式布置第一子区域和第二子区域的各部分。 | ||||||
| 16 | 微分相位对比成像 | CN201180050514.2 | 2011-10-17 | CN103168228B | 2015-11-25 | E·勒斯尔 |
| 本发明涉及微分相位对比成像，尤其是用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅，例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了提供增强的基于相位梯度的图像数据，为用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅（14，15）提供第一子区域（23），其包括第一光栅结构（26）的至少一个部分（24）和第二光栅结构（30）的至少一个部分（28）。所述第一光栅结构包括周期性布置的具有第一光栅取向GO1（37）的多个条（34）和间隙（36）；其中布置所述条使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度，且其中所述间隙能透过X射线。第二光栅结构包括周期性布置的具有第二光栅取向GO2（44）的多个条（40）和间隙（42），其中布置条，使得它们改变X射线的相位和/或幅度，且其中间隙能透过X射线。所述第一光栅取向GO1与所述第二光栅取向GO2不同。于是，可以针对不同方向采集基于相位梯度的图像信息，无需在例如采集步骤之间旋转或绕枢轴转动任何相应的光栅。 | ||||||
| 17 | 相位对比度成像设备 | CN201280033300.9 | 2012-06-27 | CN103648388A | 2014-03-19 | E·弗雷登贝里; M·奥斯伦德 |
| 一种X射线成像系统包括X射线源；X射线探测器，其包括被布置在所述X射线探测器的第一方向上的多个探测器带，每个探测器带还包括被布置在所述X射线探测器的第二方向上的多个探测器像素；相位光栅；多个分析器光栅，其包括光栅狭缝；相位光栅，并且多个分析器光栅包括光栅狭缝，其中，所述X射线源和所述X射线探测器适于在所述第一方向上执行关于对象的扫描运动，以扫描所述对象，其中，分析器光栅被布置在X射线源与X射线探测器之间，其中，所述多个分析器光栅（162）中的每个被布置为与具有被布置在所述第二方向上的所述光栅狭缝的相应探测器带相关联，并且其中，所述探测器带的所述分析器光栅的所述光栅狭缝在所述第二方向上相对彼此被移位。 | ||||||
| 18 | 用于4f相位相干成像系统的相位光阑 | CN201410006402.2 | 2014-01-07 | CN103760629A | 2014-04-30 | 宋瑛林; 倪开灶; 王伟; 聂仲泉; 杨俊义; 杨勇; 刘南春; 刘小波 |
| 本发明公开了一种用于4f相位相干成像系统的相位光阑，光阑本体由环状相位物体和环状相位物体内外两侧透光带构成，所述环状相位物体由两个半环形相位物体拼合而成，其中一个半环形相位物体与两侧透光带的相位差为，另一个半环形相位物体与两侧透光带的相位差为，式中，m，n为整数。本发明通过对相位光阑的结构改进，有效提高了4f相位相干成像法的检测灵敏度，同时降低了相位物体的加工难度。 | ||||||
| 19 | X射线相位成像系统 | CN202211470615.1 | 2022-11-23 | CN116297570A | 2023-06-23 | 松花文太; 前田祐人; 增田二朗; 小岛佳奈; 土岐贵弘 |
| 本发明提供一种能够确认被摄体与光栅的配置关系的X射线相位成像系统。X射线相位成像系统包括多个光栅，所述多个光栅包含从X射线源被照射X射线的第一光栅、及被照射来自第一光栅的X射线的第二光栅。并且，X射线相位成像系统包括拍摄部，所述拍摄部对被摄体、以及第一光栅及第二光栅的一者或两者进行光学拍摄。 | ||||||
| 20 | X射线相位成像装置 | CN201780071767.5 | 2017-09-06 | CN110049725A | 2019-07-23 | 堀场日明; 白井太郎; 土岐贵弘; 佐野哲 |
| 一种X射线相位成像装置(100)，其包括控制部(5)，所述控制部(5)针对已通过调整机构部(3)而变化的被摄物(S)与成像光栅部(G1)的多个相对的位置的各个，分别生成暗视场像(Iv)，获取各个暗视场像中(Iv)的感兴趣区域(ROI)的对比度，并且以根据已获取的各个对比度，调整被摄物(S)与成像光栅部(G1)的相对的位置的方式控制调整机构部(3)。 | ||||||
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