| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 干涉滤光片 | CN03826881.7 | 2003-08-07 | CN1820218A | 2006-08-16 | 帕维尔·I·拉扎列夫; 谢尔古埃·帕尔托; 迈克尔·V·波克施托 |
| 本发明提供了一种干涉滤光片，其包括多层，而每一层具有实数和/或虚数折射率。实数和虚数折射率的数值取决于外电场的强度。对材料折射率和每层的厚度以及它们的组合进行选择，以便为入射光的至少一种偏振状态在至少一个光谱区提供干涉极值。至少一层由电光材料制成，该层是各向异性的并由至少一种芳香族有机材料制备。该芳香族有机材料的分子或分子片段具有平面结构。该电光材料层的至少一部分具有晶体结构，其中沿光轴之一的分子间间距为3.4±0.3。 | ||||||
| 2 | 干涉滤光片 | CN03826881.7 | 2003-08-07 | CN100378491C | 2008-04-02 | 帕维尔·I·拉扎列夫; 谢尔古埃·帕尔托; 迈克尔·V·波克施托 |
| 本发明提供了一种干涉滤光片，其包括多层，而每一层具有实数和/或虚数折射率。实数和虚数折射率的数值取决于外电场的强度。对材料折射率和每层的厚度以及它们的组合进行选择，以便为入射光的至少一种偏振状态在至少一个光谱区提供干涉极值。至少一层由电光材料制成，该层是各向异性的并由至少一种芳香族有机材料制备。该芳香族有机材料的分子或分子片段具有平面结构。该电光材料层的至少一部分具有晶体结构，其中沿光轴之一的分子间间距为3.4±0.3。 | ||||||
| 3 | 光学干涉滤光片 | CN202311158875.X | 2023-09-08 | CN117687139A | 2024-03-12 | M·格里戈尼斯; 杨金辉 |
| 在一些实现方式中，光学干涉滤光片包括衬底以及在衬底上设置的一个或多个层集。每个层集包括：至少包括钽和氧(例如，五氧化二钽(Ta2O5)材料)的第一层；至少包括铝和氮(例如，氮化铝(AlN)材料)的第二层；以及至少包括氢和硅(例如，氢化硅(Si：H)材料)的第三层。第二层被设置在第一层和第三层之间。在一些实现方式中，第二层的第一表面被设置在第一层的表面上，并且第二层的第二表面被设置在第三层的表面上。 | ||||||
| 4 | 光学干涉滤光片 | CN88106011 | 1988-07-19 | CN1031605A | 1989-03-08 | 利索洛特·布罗克; 冈特·法兰克; 布鲁诺·维特 |
| 光学干涉滤光片由非晶形SiO2层和选自下列的混合氧化物层交替构成：88—95摩尔％TiO2和5—12摩尔％ZrO2，88—95摩尔％TiO2和5—12摩尔％HfO2，TiO2·ZrO2，TiO2·HfO2，TiO2·Nb2O5，TiO2·Ta2O5和Ta2O5·2TiO2。混合氧化物具有的晶体结构对应于在700至1100℃之间热处理后所获得的晶体结构。即使经过长期的高温，该滤光片也是稳定的。 | ||||||
| 5 | 光学干涉滤光片 | CN88106011 | 1988-07-19 | CN1010132B | 1990-10-24 | 利索洛特·布罗克; 冈特·法兰克; 布鲁诺·维特 |
| 光学干涉滤光片由非晶形SiO2层和选自下列的混合氧化物层交替构成：88～95摩尔%TiO2和5～12摩尔%ZrO2，88～95摩尔%TiO2和5～12摩尔%HfO2，TiO2·ZrO2，TiO2·HfO2，TiO2·Nb2O5，TiO2·Ta2O5和Ta2O5·2TiO2混合氧化物具有的晶体结构对应于在700至1100℃之间热处理后所获得的晶体结构。即使经过长期的高温，该滤光片也是稳定的。 | ||||||
| 6 | 一种窄带干涉滤光片 | CN201310045733.2 | 2013-02-05 | CN103091759B | 2013-09-11 | 李金宗; 朱兵; 李冬冬; 周东平 |
| 本发明公开了一种窄带干涉滤光片，它包括由石英玻璃材料制成的基片，在该基片的上、下表面上分别镀制主峰膜系、截次峰膜系，其中：该主峰膜系为四半波膜系；该截次峰膜系为截次峰膜堆。本发明窄带干涉滤光片的光学性能好，具有通带透过率高、止带截止深、通带逼近矩形、斜入射漂移小等优点，稳定性高，可靠性高，与主动标志器配合使用，可有效消除阳光及其它杂散光对主动标志器识别带来的干扰，标识精度高。 | ||||||
| 7 | 一种窄带干涉滤光片 | CN201310045733.2 | 2013-02-05 | CN103091759A | 2013-05-08 | 李金宗; 朱兵; 李冬冬; 周东平 |
| 本发明公开了一种窄带干涉滤光片，它包括由石英玻璃材料制成的基片，在该基片的上、下表面上分别镀制主峰膜系、截次峰膜系，其中：该主峰膜系为四半波膜系；该截次峰膜系为截次峰膜堆。本发明窄带干涉滤光片的光学性能好，具有通带透过率高、止带截止深、通带逼近矩形、斜入射漂移小等优点，稳定性高，可靠性高，与主动标志器配合使用，可有效消除阳光及其它杂散光对主动标志器识别带来的干扰，标识精度高。 | ||||||
| 8 | 梳状干涉滤光片 | CN201220328809.3 | 2012-07-09 | CN202693834U | 2013-01-23 | 黄宇山 |
| 本实用新型公开一种梳状干涉滤光片,包括基板，还包括交替重叠设于基板上的复数层高折射率介质膜层及低折射率介质膜层。更换了镀膜材料，直接改变了膜层构成，膜层由金属-介质-金属膜或者纯金属膜变更为，两种高低折射率的介质膜，膜层对入射光的吸收少了，插入损耗变小了，滤光片在性能上有了显著的提高；其次，干涉峰的间距可控性更强，峰值透射率增高，结构和制作更简单，更利于大批量生产。 | ||||||
| 9 | 干涉滤光片、光学器件和制造干涉滤光片的方法 | CN202180020983.3 | 2021-03-24 | CN115280194A | 2022-11-01 | 黛博拉·莫尔克罗夫特; 格哈德·艾尔姆施泰纳; 曼纽尔·科赫 |
| 干涉滤光片包括基板、滤光片堆叠和至少一个吸收层。滤光片堆叠包括布置在基板上的具有不同折射率的光学涂层的交替层。至少一个吸收层由布置在基板上的光吸收材料组成。 | ||||||
| 10 | 干涉滤光片、光学组件及显示模组 | CN202210262069.6 | 2022-03-16 | CN114609715A | 2022-06-10 | 曾灏斌 |
| 本发明公开一种干涉滤光片、光学组件及显示模组，其中，应用于低蓝光三基色显示设备或红、绿、青蓝、蓝紫四基色显示设备中，所述干涉滤光片为陷波干涉滤波片，所述陷波干涉滤波片的滤除波长范围为478nm～515nm；所述干涉滤光片包括基材和多层膜层，所述膜层包括第一折射率膜层和第二折射率膜层，第二折射率膜层的折射率高于第一折射率膜层的折射率，一第一折射率膜层设置于所述基材的一表面，一第二折射率膜层设置于一第一折射率膜层的与所述基材接触的相对侧，另一第一折射率膜层设置于一第二折射率膜层背离一第一折射率膜层的表面。本发明技术方案的干涉滤光片可提高低蓝光设备和多基色设备的对波长选择性，并实现且对光线的过滤角度不敏感的特性。 | ||||||
| 11 | 超薄薄膜光学干涉滤光片 | CN201880061615.1 | 2018-08-07 | CN111108415A | 2020-05-05 | E.巴纳埃 |
| 薄膜干涉滤光片具有薄膜干涉多层堆叠，其由成组布置以形成多个重复单元块的各个薄膜层构成。薄膜干涉滤光片具有足够的柔性，以可弯曲到250mm或甚至更小的曲率半径，而不永久损坏薄膜干涉滤光片。薄膜干涉滤光片可以具有由以重复单元块布置的各个薄膜层构成的第二薄膜干涉多层堆叠，其可具有不同光透射光谱。在第一薄膜干涉多层堆叠与第二薄膜干涉多层堆叠之间的至少一个中间层可以阻挡红外、可见或紫外光的波长范围。具有与形成重复单元块的相邻薄膜层不同的光学厚度的缺陷层，从而产生法布里·珀罗共振腔。 | ||||||
| 12 | 一种基于干涉滤光片的微型光谱仪 | CN201711476914.5 | 2017-12-29 | CN107941340A | 2018-04-20 | 张南生 |
| 本发明涉及光谱仪技术领域，提供一种基于干涉滤光片的微型光谱仪，该微型光谱仪的单个通道由散射器、干涉滤光片、微透镜和CMOS图像传感器组成。本发明的有益效果是干涉滤光片的分光特性具有非线性色散、透过率不均匀等特点，导致探测器检测到的谱图与被测光谱分布间关系较复杂，本发明建立了它们之间的理论模型；而且该光谱仪具有结构简单、集成度高、可扩展性强等优点，实现比光栅光谱仪更小的仪器体积。 | ||||||
| 13 | 法布里-珀罗干涉滤光片 | CN201480036511.7 | 2014-06-24 | CN105339829B | 2017-11-24 | 柴山胜己; 笠原隆; 广瀬真树; 川合敏光 |
| 本发明所涉及的法布里‑珀罗干涉滤光片(10A)的特征在于：具备：第1反射镜(31)、经由空隙(S)与第1反射镜(31)相对的第2反射镜(41)、以包围光透过区域(11)的形式被形成于第1反射镜(31)的第1电极(17)、以包含光透过区域(11)的形式被形成于第1反射镜(31)的第2电极(18)、以与第1电极(17)以及第2电极(18)相对的形式被形成于第2反射镜(41)并以同电位与第2电极(18)相连接的第3电极(19)；第2电极(18)在第1反射镜(31)与第2反射镜(41)相对的相对方向(D)上相对于第1电极(17)位于第3电极(19)的一侧或者其相反侧。 | ||||||
| 14 | 使用干涉滤光片的光模块 | CN201280057732.3 | 2012-10-30 | CN104126139B | 2017-07-14 | 加藤隆司; 桐山智晶 |
| 本发明涉及一种使用干涉滤光片的光模块，沿光轴(5)的方向，在干涉滤光片(3)的前方及后方分别设有第1及第2准直透镜(51、52)，从前方输入光Lin，则会从后方输出特定波长范围的光Lout。干涉滤光片相对光轴倾斜地设置在前后两端设有开口的中空筒状滤光片箱(2a)内。滤光片箱具有滤光片收纳部(21)，以及分别从前方和后方的开口(24、25)保持该开口的形状延伸到滤光片收纳部的管状的第1及第2光通道部(22、23)。第1及第2准直透镜分别与滤光片箱前后的开口相对设置。从前方观察时，相对于第1准直透镜的表观直径φ2，前方的第1光通道部的开口的口径φ1缩小。据此，该光模块可以抑制返回光。 | ||||||
| 15 | 一种窄带干涉滤光片的镀制工艺 | CN200910050698.7 | 2009-05-06 | CN101555102B | 2012-07-25 | 汤兆胜 |
| 本发明公开了一种窄带干涉滤光片的镀制工艺，包括在玻璃基片上镀膜步骤，镀膜包括非耦合层和耦合层，其特征在于，在镀膜时，采用光学膜厚监控法控制非耦合层的膜厚；采用晶体振荡法控制耦合层的膜厚。本发明中的窄带干涉滤光片的镀制工艺的优点在于结合了光控和晶控的各自优势。目前的国产镀膜机控制精度低，在镀膜过程中各参数，尤其是折射率，控制不稳定，使用本发明中的窄带干涉滤光片的镀制工艺，可减轻因镀膜机控制精度低的缺陷，提高镀制精度。利用此工艺解决了国产镀膜机镀制高难度的窄带滤光片的难题。此工艺控制过程简单，镀制窄带滤光片的成功率高。 | ||||||
| 16 | 干涉滤光片及其制造方法 | CN200810176971.6 | 2008-05-30 | CN101393294B | 2011-06-15 | U·布劳奈克; U·杰斯切科维斯基; T·斯特罗海迈尔; W·厄尔贝克 |
| 该发明基于提供具有改善的长期稳定性的紫外干涉滤光片的目的。为此目的，提供一种用于生产介电透射干涉滤光片的方法，其中，具有氟化镁、氟化铅和氧化锑组分的交替层系统通过共同蒸发形成在衬底上。淀积之后，为了稳定该层系统，对该衬底进行热处理和紫外光照射。 | ||||||
| 17 | 干涉滤光片的分隔层的图案化方法 | CN201010139114.6 | 2010-03-18 | CN101907732A | 2010-12-08 | 阿尔博特·阿革帝亚; 特里克·拉登; 卡罗尔·索拉文 |
| 本发明涉及一种干涉滤光片的分隔层的图案化方法，该方法用于制造具有介电分隔层以使得其不同区域具有不同厚度的色移光学装置。该方法包括：(a)在基板上涂敷反射层或吸收层中的一个；(b)在步骤(a)中所涂敷的层上提供分隔层，该分隔层包括分隔材料和该装载的分隔层内的可溶团；(c)通过溶解该可溶团以移去该分隔材料的一部分来调节该分隔层以改变该分隔层的厚度；以及(d)在所述分隔层上涂敷所述反射层或吸收层中的另一个。 | ||||||
| 18 | 使用干涉彩色滤光片的背光显示器 | CN02821826.4 | 2002-09-23 | CN1582410A | 2005-02-16 | T·M·H·克里梅斯; H·J·科内里森 |
| 公开了一种背光彩色显示器，其中通过布置在背光的观察侧上的反射滤光片结构来滤出来自背光的光。反射滤光片结构定义具有红色、绿色和蓝色的子像素的像素。根据本发明，滤光片结构包括具有共同覆盖波谱的全部可见光范围的反射带的反射区域，以便在反射带之间不存在缝隙。优选的是，来自背光的发射是窄带并且是以这种方式选择的即峰发射波长是位于对应的反射带之内，但是接近其中的短波长截止。此外优选地选择来自背光的发射以使得与人眼的三基色法功能适当地重叠。 | ||||||
| 19 | 混合菲涅尔透镜干涉滤光片光学元件 | CN201910306991.9 | 2019-04-17 | CN110221446A | 2019-09-10 | 陈景标; 常鹏媛; 李春来; 何进 |
| 本发明涉及一种混合菲涅尔透镜干涉滤光片光学元件。光学元件集成菲涅尔透镜与超窄带干涉滤光片，菲涅尔透镜的前表面为齿纹面，后表面为平整面，以菲涅尔透镜的平整面作为基底，在基底上交替镀制具有滤光作用的薄膜组；薄膜组由高折射率材料和低折射率材料相间镀制而成；菲涅尔透镜起到光束准直作用，准直光束经所述多层高折射率材料-低折射率材料干涉滤光片薄膜组选频得到单波长光束；高折射率材料-低折射率材料选自ZnS-MgF2、TiO2-SiO2或Si-SiO2，TiO2-Nb2O5中的一种或其组合。 | ||||||
| 20 | 干涉滤光片的分隔层的图案化方法 | CN201010139114.6 | 2010-03-18 | CN101907732B | 2015-08-19 | 阿尔博特·阿革帝亚; 特里克·拉登; 卡罗尔·索拉文 |
| 本发明涉及一种干涉滤光片的分隔层的图案化方法，该方法用于制造具有介电分隔层以使得其不同区域具有不同厚度的色移光学装置。该方法包括：(a)在基板上涂敷反射层或吸收层中的一个；(b)在步骤(a)中所涂敷的层上提供分隔层，该分隔层包括分隔材料和该装载的分隔层内的可溶团；(c)通过溶解该可溶团以移去该分隔材料的一部分来调节该分隔层以改变该分隔层的厚度；以及(d)在所述分隔层上涂敷所述反射层或吸收层中的另一个。 | ||||||
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