一种光纤，从内到外依次包括芯层(1)、缓冲包层(3)、凹陷包层(5)、深掺氟层(7)、外包层(9)及涂层，芯层(1)为相对于二氧化硅的折射率差为0.37～0.5％的掺锗二氧化硅；缓冲包层(3)的折射率为渐变结构，其与芯层(1)接触的内界面处折射率相对于二氧化硅的折射率差为-0.05～0.1％，与凹陷包层(5)接触的外界面处折射率和凹陷包层(5)的折射率相等；凹陷包层(5)相对于二氧化硅的折射率差为-0.12～-0.2％；深掺氟层(7)相对于二氧化硅的折射率差为-0.3～-0.5％；外包层(9)为二氧化硅，涂层涂覆在外包层(9)外。光纤具有大模场直径，抗弯曲的优点。

一种光纤（100），由芯层至外层依次包括石英芯层（101）和石英包层（102）、采用粘度为5000-8000cps的第一聚酰亚胺涂料形成的一次涂层（103）和采用粘度为6000-7000cps的第二聚酰亚胺涂料成型的二次涂层（104），该光纤（100）的耐温等级300-350℃。该光纤（100）具有双层聚酰亚胺涂层，通过控制聚酰亚胺的粘度和材料设计，使得光纤（100）既具有聚酰亚胺材料的耐高温特性，又具有较低的衰减和较好的机械性能，生产出可耐300-350℃高温的光纤（100），光纤（100）在1310nm处的衰减≤0.8dB/km，1550nm处的衰减≤0.6dB/km，光纤（100）的筛选强度高于100kpsi，满足在恶劣环境下使用，耐腐蚀，可靠性高，也可以在海底进行使用。

一种新型光纤，由内到外依次包括同轴设置的单模纤芯、多模层及外包层，单模纤芯位于光纤中心，且具有上阶跃折射率，多模层包围于单模纤芯外，且具有α轮廓分布的折射率；多模层内侧和/或多模层外侧设有若干过渡层，过渡层与单模纤芯或所述外包层同轴设置，且过渡层紧贴多模层，其折射率与多模层接触部分的折射率相等。该新型光纤兼具单模传输和多模传输，大大简化数据中心光缆管理、降低未来收发器升级成本，且通过设置过渡层使得光纤具备良好的低损耗特性。另设计含有下掺层或凹陷层使得光纤具有较好的抗弯曲性能。

一种光纤拉丝炉，包括炉体，该光纤拉丝炉还包括：炉芯管，该炉芯管从炉体的第一表面贯穿炉体的第二表面，该炉芯管包括一次固定连接的直筒部、缩径部以及缩径管部，该直筒部及该缩径部位于炉体内，直筒部设置在炉体的第一部分，缩径部的内径从炉体的中央部开始向炉体的第二部分渐缩，缩径管部处于炉体外；发热体，该发热体位于炉体内，且包覆该炉芯管的直筒部和缩径部的外围，及进行隔热的保温体，该保温体位于该炉体内，且设置在发热体与炉体之间。

一种光纤，由中心到外周依次包括纤芯层（11）、包层（12）以及涂层（13）。纤芯层（11）为纯二氧化硅玻璃层，其厚度为５～７μｍ，纤芯层（11）的不圆度小于1.5%。包层（12）包括内包层（121）、中包层（122）和外包层（123），内包层（121）为掺氟内包层，其厚度为５～１２μｍ，内包层（121）与纤芯层（11）的相对折射率差为-０．４～-０．２％，中包层（122）厚度为１２～２５μｍ，外包层（123）为纯石英玻璃层，其厚度为２５～４５μｍ，包层（12）整体不圆度小于0.4%。涂层（13）材料采用聚丙烯酸酯，包括内涂层（131）以及外涂层（132），内涂层（131）厚度为２５～４0μｍ，外涂层（132）厚度为２５～3５μｍ，外涂层（132）的不圆度小于2%。该光纤具有低损耗、大有效面积。还公开了一种光纤制备工艺和一种光纤制备系统。

一种低色散单模光纤，包括有芯层和包层，芯层半径R1为3～5μm，芯层相对折射率差Δ1为0.15％～0.45％；包层由内到外依次为第一下陷包层、凸起包层、第二下陷包层和外包层，第一下陷包层单边宽度(R2-R1)为2～7μm，相对折射率差Δ2为-0.4％～-0.03％，凸起包层单边宽度(R3-R2)为2～7μm，相对折射率差Δ3为0.05％～0.20％，第二下陷包层单边宽度(R4-R3)为0～8μm，相对折射率差Δ4为0％～-0.2％，外包层为纯二氧化硅玻璃层。芯包层设计合理、工艺控制方便、兼容现有G.652光纤，并能够在1270～1380nm波段具有低色散。