1.一种改性聚合体，其特征在于，
具有：由含有碳-碳双键的聚合物材料构成的聚合体、以及结合于该聚合体的表面的第一结合部和第二结合部，
所述第一结合部由具有官能团的有机基团通过异氰脲酸骨架结合于所述聚合体的表面而成，
所述第二结合部由具有官能团的有机基团不通过异氰脲酸骨架而直接结合于所述聚合体的表面而成。
2.根据权利要求1所述的改性聚合体，其特征在于，
所述官能团为选自硅氧烷基、含氟基团、酯基、酰胺基、氨基、环氧基、羰基、羟基、羧酸基、磺酸基、酰亚胺基、醚基、芳基、偶氮基、重氮基、硝基、杂环基、中离子基、卤素基团、亚氨基、烷基、酰基、甲酰基、脲基、氨基甲酸酯基以及氰基的一种或两种以上。
3.根据权利要求1或2所述的改性聚合体，其特征在于，
所述具有官能团的有机基团为来源于所述具有官能团和碳-碳双键的有机化合物的基团。
4.根据权利要求1～3的任一项所述的改性聚合体，其特征在于，
在所述聚合体的从最表面起向深度方向的所述官能团所特有的原子的浓度分布中，在所述聚合体的最表面所述官能团所特有的原子的浓度最大。
5.根据权利要求1～4的任一项所述的改性聚合体，其特征在于，
所述聚合体的表面存在氯原子，
在所述聚合体的从最表面起向深度方向的所述氯原子的浓度分布中，在比所述聚合体的最表面更深的位置，所述氯原子的浓度最大。
6.根据权利要求3所述的改性聚合体，其特征在于，
所述有机化合物具有以下式1所示的化学结构：
1 2 1 1 1
其中，式1中，R 为-X-X 或-X ；X 为选自硅氧烷基、含氟基团、酯基、酰胺基、氨基、环氧基、羰基、羟基、羧酸基、磺酸基、酰亚胺基、醚基、芳基、偶氮基、重氮基、硝基、杂环基、中离子基、卤素基团、亚氨基、烷基、酰基、甲酰基、脲基、氨基甲酸酯基以及氰基的一种或两种
2 2 4
以上；X 为选自酯基、醚基、羰基、氨基甲酸酯基以及酰胺基的一种；R ～R 为氢原子或烷基。
7.根据权利要求3所述的改性聚合体，其特征在于，
所述有机化合物具有以下式5所示的化学结构：
其中，式5中，n为正的整数。
8.根据权利要求3所述的改性聚合体，其特征在于，
所述有机化合物具有以下式6所示的化学结构：
其中，式6中，n为正的整数。
9.根据权利要求3所述的改性聚合体，其特征在于，
所述有机化合物具有以下式7所示的化学结构
10.一种改性聚合体的制造方法，其特征在于，具有：
接触工序，使由具有碳-碳双键的聚合物材料构成的聚合体的最表面与表面处理液接触，所述表面处理液至少混合(A)氯化异氰脲酸和/或其衍生物、(B)具有官能团和碳-碳双键的有机化合物、(C)聚合引发剂和(D)溶剂调制而成；以及
能量施加工序，对经过了所述接触工序后的聚合体的最表面施加能量。
11.根据权利要求10所述的改性聚合体的制造方法，其特征在于，
所述能量的施加为光照射。
12.一种表面处理液，其特征在于，至少混合(A)氯化异氰脲酸和/或其衍生物、(B)具有官能团和碳-碳双键的有机化合物、(C)聚合引发剂和(D)溶剂调制而成。
13.根据权利要求12所述的表面处理液，其特征在于，
所述官能团为选自硅氧烷基、含氟基团、酯基、酰胺基、氨基、环氧基、羰基、羟基、羧酸基、磺酸基、酰亚胺基、醚基、芳基、偶氮基、重氮基、硝基、杂环基、中离子基、卤素基团、亚氨基、烷基、酰基、甲酰基、脲基、氨基甲酸酯基以及氰基的一种或两种以上。
14.一种导电性部件，其特征在于，其为组装至采用电子照相方式的图像形成装置中的导电性部件，
使用权利要求1～9的任一项所述的改性聚合体作为包括该导电性部件的最表面的部位的材料。