[0001] 本发明涉及肥料技术领域，具体公开一种提高果树坐果率的肥料。

[0002] 各地的试验资料表明，果树生产100千克的水需要吸收的N、P、K肥料量均大于其他植物，尤其是在开花之后至果实核硬化前之间施用，主要是提高坐果率、改善树体营养、促进果实前期的快速生长。施肥以氮肥为主，配合少量的磷钾肥。但由于养分流失、土壤固定以及根系的吸收能力不同等因素的影响，肥料的施用量因土壤类型和果树品种的差异、管理水平的高低等，有较大的差异，一般高产果园每年的氮肥施用量以纯氮计为20～45千克，磷肥的施用量以五氧化二磷计为4.5～22.5千克，钾肥的施用量以氧化钾计为15～40千克。果树也需要微量元素和钙镁硫等营养元素，它们主要靠土壤和有机肥提供。对于土壤较瘠薄、施用有机肥少的果树可根据需要施用微量元素肥料等。

[0003] 目前，人们在给果树施坐果肥时，一般情况下都是采用大粪、豆饼、尿素等施肥，虽然也能起到一定的增产作用，但施肥料中的各种营养成份远远达不到果树的营养需求，造成梨树叶黄、开花稀少、挂果少，造成坐果率严重低下，结出来的果个头小，重量轻，生长速度慢，果树由于长期缺肥，易引发各种果树病。

[0004] 本发明的目的在于克服现有技术的不足之处，提供一种提高果树坐果率的肥料，该肥料依据果树坐果期间的生长特点，优化N、P、K元素配比，合理掺混固氮元素。

[0005] 本发明实现目的的技术方案如下:

[0006] 一种提高果树产量的坐果肥，其各原料组分及重量份数分别为：硝酸铵450-550份、包硫尿素200-300份、磷酸氢铵50-150份、碳酸二氢铵25-75份、氧化钾150-250份、有机膨润土150-250份、硼砂20-60份、硫酸锌15-35份、一水硫酸镁10-20份、虫害预防添加物5-15份。

[0007] 优选地，其制备方法：将以上各原料组分搅拌15-20分钟，充分混匀即制得该肥料。

[0008] 优选地，其施肥方法在于：

[0009] 1、在果树根系外侧的土壤上挖出一环形浅坑；

[0010] 2、在上述环形浅坑内放入该肥料；

[0011] 3、在该肥料上覆盖土壤并封闭所述环形浅坑即完成施肥。

[0012] 本发明的有益效果为：引入了包硫尿素，将肥料中的养分释放延缓，由此延长了果树对氮肥养分吸收利用的有效期，从而使氮肥可以按照设定的释放，提高了氮肥的利用率，最重要的是满足了果树在开花之后至果实核硬化前之间的各种养分，大大提高了果树坐果率，且结出的果实个大、品质优。同时加入了虫害预防添加物，起到了防治病虫害的作用。

[0013] 下面通过具体实施例对本发明作进一步详述，以下实施例只是描述性的，不是限定性的，不能以此限定本发明的保护范围。

[0014] 实施例1：

[0015] 一种提高果树产量的坐果肥，其各原料组分及重量份数分别为：硝酸铵300-450份、包硫尿素150-250份、磷酸氢铵50-100份、碳酸二氢铵25-75份、氧化钾50-120份、有机膨润土80-160份、硼砂20-60份、硫酸锌15-35份、一水硫酸镁10-20份、虫害预防添加物10-25份。

[0016] 一种提高果树产量的坐果肥，其各原料组分及重量份数分别为：硝酸铵300份、包硫尿素250份、磷酸氢铵50份、碳酸二氢铵75份、氧化钾100份、有机膨润土100份、硼砂50份、硫酸锌35份、一水硫酸镁20份、虫害预防添加物20份。

[0017] 优选地，其制备方法：将以上各原料组分搅拌16分钟，充分混匀即制得该肥料。

[0018] 优选地，其施肥方法在于：

[0019] 1、在果树根系外侧的土壤上挖出一环形浅坑；

[0020] 2、在上述环形浅坑内放入该肥料；

[0021] 3、在该肥料上覆盖土壤并封闭所述环形浅坑即完成施肥

[0022] 实施例2：一种提高果树产量的坐果肥，其各原料组分及重量份数分别为：硝酸铵450份、包硫尿素150份、磷酸氢铵90份、碳酸二氢铵50份、氧化钾60份、有机膨润土130份、硼砂20份、硫酸锌15份、一水硫酸镁10份、虫害预防添加物25份。

[0023] 优选地，其制备方法：将以上各原料组分搅拌20分钟，充分混匀即制得该肥料。

[0024] 优选地，其施肥方法在于：

[0025] 1、在果树根系外侧的土壤上挖出一环形浅坑；

[0026] 2、在上述环形浅坑内放入该肥料；

[0027] 3、在该肥料上覆盖土壤并封闭所述环形浅坑即完成施肥

[0028] 实验结果：实施例1与实施例2分别制得的肥料，不同之处在于原料的重量份数不同，其他大致相同。经分别施用实施例1与实施例2的果树，其所生产的果量明显优于施用普通肥料的果树，且品质有大幅度提升。

[0029] 以上所述，仅用以说明本发明的技术方案而非限制，本领域普通技术人员对本发明的技术方案所做的其它修改或者等同替换，只要不脱离本发明技术方案的精神和范围，均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。