1.一种氟钨共掺杂光触媒的制备方法，其特征在于，包括步骤：
A、先准备钨钛溶液，在钨钛溶液中加入沉淀剂形成胶体溶液；
B、对所述胶体溶液进行光电催化处理、光敏化处理或者化学修饰处理；
C、将经步骤B处理的胶体溶液进行高温煅烧；
D、去除结晶水得到固体晶粒，然后采用酸化处理形成氟钨共掺杂光触媒。
2.根据权利要求1所述的氟钨共掺杂光触媒的制备方法，其特征在于，所述步骤A中的钨钛溶液按如下步骤制备：
A1、将钛源溶解，然后添加清除剂，随后加温预热；
A2、再进行加热，随后转入回流装置进行回流；
A3、再在回流得到的溶液中添加磷酸二氢铵、钨源、硝酸形成钨钛溶液。
3.根据权利要求1所述的氟钨共掺杂光触媒的制备方法，其特征在于，所述步骤B中的光电催化处理具体包括：
将半导体氧化薄膜作为工作电极，铂丝为对电极，饱和甘汞电极作为参比电极，光照强度为50W-100W，光电催化作用时间为30min或以上。
4.根据权利要求1所述的氟钨共掺杂光触媒的制备方法，其特征在于，所述步骤B中的光敏化处理具体包括：
用叶绿素提取液浸泡胶体溶液16-24h，然后进行真空干燥。
5.根据权利要求1所述的氟钨共掺杂光触媒的制备方法，其特征在于，所述步骤B中的化学修饰处理具体包括：
添加化学试剂对胶体溶液进行修饰，所添加的化学试剂为十二烷基苯磺酸钠。
6.根据权利要求2所述的氟钨共掺杂光触媒的制备方法，其特征在于，所述钛源为六氟钛酸铵，所述钨源为同多钨酸盐、磷钨酸、硅钨酸、杂多金属钨酸盐中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的氟钨共掺杂光触媒的制备方法，其特征在于，所述步骤A中，沉淀剂为四甲基氢氧化铵、氨水和CO(NH2)2中的至少一种。
8.根据权利要求1所述的氟钨共掺杂光触媒的制备方法，其特征在于，所述步骤C中，高温煅烧温度在600℃-900℃之间。
9.根据权利要求1所述的氟钨共掺杂光触媒的制备方法，其特征在于，所述步骤D中，酸化后的pH在4-5之间。
10.一种氟钨共掺杂光触媒，其特征在于，采用如权利要求1-9任一项所述的制备方法制成。