1.一种流体处理装置，包括处理腔室，所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，在所述处理腔室内收纳有颗粒状的处理介质，其特征是：所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部；所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质以与所述处理介质在非工作状态下倾向的移动方向相反的方向进行移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为与所述穿透壁邻接的介质床层。
2.根据权利要求1所述的流体处理装置，其特征是：在非工作状态下，所述处理介质因重力作用而倾向的移动方向为向下的方向；在工作状态下，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质向上方移动，并在所述处理腔室的上部或整个高度将这些被移动的处理介质保持成为所述介质床层。
3.根据权利要求2所述的流体处理装置，其特征是：所述穿透壁呈筒形，所述介质床层围绕于所述穿透壁的径向外侧。
4.根据权利要求3所述的流体处理装置，其特征是：在所述穿透壁的外围设置筒形过滤器，所述介质床层围绕所述筒形过滤器，所述流体依次穿经所述介质床层、所述筒形过滤器和所述穿透壁而从所述处理腔室内流出。
5.根据权利要求4所述的流体处理装置，其特征是：在所述筒形过滤器的外围设置保持部件，所述保持部件能够保持所述筒形过滤器以及所述介质床层。
6.根据权利要求3所述的流体处理装置，其特征是：所述流体处理装置包括流控制件，所述流控制件通过减小流体通道的横截面积而增加所述流体的速度。
7.根据权利要求6所述的流体处理装置，其特征是：所述流控制件设置于所述处理腔室内，且位于所述穿透壁的下方位置。
8.根据权利要求7所述的流体处理装置，其特征是：所述流控制件包括流控制指。
9.根据权利要求6所述的流体处理装置，其特征是：所述流控制件包括流控制凸缘，所述流控制凸缘位于所述介质床层的上方，且朝下方延伸。
10.根据权利要求3所述的流体处理装置，其特征是：在所述处理腔室内设有床深控制件。
11.根据权利要求9所述的流体处理装置，其特征是：在所述处理腔室内设有床深控制件。
12.根据权利要求10所述的流体处理装置，其特征是：在所述床深控制件包括床深控制板。
13.根据权利要求12所述的流体处理装置，其特征是：在所述床深控制板的外周形成多个沿径向分布的流控制指。
14.根据权利要求11所述的流体处理装置，其特征是：在所述床深控制件包括床深控制板。
15.根据权利要求14所述的流体处理装置，其特征是：在所述床深控制板的外周形成多个沿径向分布的流控制指。
16.根据权利要求10所述的流体处理装置，其特征是：所述床深控制件包括床深控制凸缘，所述床深控制凸缘形成于所述介质床层的上方，且朝下方延伸，所述床深控制凸缘位于所述流控制凸缘的径向内侧。
17.根据权利要求11所述的流体处理装置，其特征是：所述床深控制件包括床深控制凸缘，所述床深控制凸缘形成于所述介质床层的上方，且朝下方延伸，所述床深控制凸缘位于所述流控制凸缘的径向内侧。
18.根据权利要求1所述的流体处理装置，其特征是：所述处理介质没有填满所述处理腔室。
19.根据权利要求1所述的流体处理装置，其特征是：所述处理介质为大小均匀的活性炭颗粒、离子交换树脂颗粒或铜锌合金颗粒。
20.根据权利要求1所述的流体处理装置，其特征是：所述流体处理装置还包括预处理腔，所述预处理腔内容纳有预处理介质，以对所述流体进行预处理。
21.根据权利要求20所述的流体处理装置，其特征是：所述预处理腔位于所述处理腔内的上游侧。
22.根据权利要求20所述的流体处理装置，其特征是：所述预处理介质包括粒状或球状的亚硫酸钙、离子交换树脂、纳米晶聚合体或活性炭。
23.根据权利要求20所述的流体处理装置，其特征是：所述预处理腔位于所述处理腔室外部的上游侧。
24.根据权利要求1-23中任意一项所述的流体处理装置，其特征是：所述流体处理装置包括机壳，在所述机壳上设置反冲排泄口，在所述处理腔室的径向内侧设置中心套筒，在所述中心套筒内设置芯部件，所述芯部件向所述机壳外凸出的部分形成操作部，所述芯部件能在工作位置和反冲位置之间动作，在工作位置，反冲排泄口关闭，在反冲位置，所述反冲排泄口打开。
25.根据权利要求24所述的流体处理装置，其特征是：所述操作部为从所述反冲排泄口向机壳下部凸出的推拉把手，所述芯部件通过在所述中心套筒内上下滑动而在所述工作位置和反冲位置进行切换。
26.根据权利要求25所述的流体处理装置，其特征是：在工作位置，所述芯部件处于下部位置，在反冲位置，所述芯部件被向上推至上部位置。
27.一种流体处理装置组件，包括处理腔室，所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，其特征是：所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部；所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将容纳在所述处理腔室内的至少部分处理介质以与所述处理介质在非工作状态下倾向的移动方向相反的方向进行移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为与所述穿透壁邻接的介质床层。
28.根据权利要求27所述的流体处理装置组件，其特征是：在非工作状态下，所述处理介质因重力作用而倾向的移动方向为向下的方向；在工作状态下，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质向上方移动，并在所述处理腔室的上部将这些被移动的处理介质保持成为所述介质床层，所述穿透壁呈圆筒形，在所述穿透壁的外围设置圆筒形过滤器，所述介质床层围绕所述圆筒形过滤器的径向外侧，所述流体依次穿经所述介质床层、所述圆筒形过滤器和所述穿透壁而从所述处理腔室内流出。
29.根据权利要求27所述的流体处理装置组件，其特征是：所述处理腔室具有底部、与所述底部相连接的支撑环壁、所述支撑环壁相连接的锥形环壁，所述锥形环壁与所述穿透壁相连，所述锥形环壁沿着朝上的方向呈渐扩状，所述流体入口部设置于所述底部。
30.根据权利要求28所述的流体处理装置组件，其特征是：在所述筒形过滤器的外侧设置床深控制件，所述床深控制件包括床深控制板和设于床深控制板外周的流控制指。
31.根据权利要求27或30所述的流体处理装置组件，其特征是：在所述介质床层的上方形成床深控制凸缘和流控制凸缘，所述床深控制凸缘和流控制凸缘分别朝向下方延伸，且所述流控制凸缘位于所述床深控制凸缘的径向外侧。
32.根据权利要求27所述的流体处理装置组件，其特征是：所述流体处理装置还包括预处理腔，所述预处理腔用于容纳预处理介质，所述预处理腔位于所述处理腔内的上游侧或者位于所述处理腔外部的上游侧。
33.一种流体处理装置，包括处理腔室，所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，在所述处理腔室内收纳有颗粒状的处理介质，其特征是：
所述处理介质没有填满所述处理腔室，
所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部，在所述穿透壁的外围设置筒形过滤器；
在所述筒形过滤器的外侧设置一个以上在高度方向间隔分布的床深控制板，所述床深控制板上设有流控制指；
在所述筒形过滤器的顶部的径向外侧的位置设置床深控制凸缘和流控制凸缘，所述床深控制凸缘和流控制凸缘向下延伸，且所述流控制凸缘位于所述床深控制凸缘的径向外侧；
所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质向上方移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为围绕所述筒形过滤器的介质床层。
34.一种流体处理装置，包括处理腔室，所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，在所述处理腔室内收纳有颗粒状的处理介质，其特征是：
所述处理介质没有填满所述处理腔室，
所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部，在所述穿透壁的外围设置筒形过滤器；
在所述筒形过滤器的外侧设置一个以上在高度方向间隔分布的床深控制板；
所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质向上方移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为围绕所述筒形过滤器的介质床层。
35.一种流体处理装置，包括处理腔室，所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，在所述处理腔室内收纳有颗粒状的处理介质，其特征是：
所述处理介质没有填满所述处理腔室，
所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部，在所述穿透壁的外围设置筒形过滤器；
在所述处理腔室内设置流控制件，所述流控制件通过减小流体通道的横截面积而增加所述流体的速度，
所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质向上方移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为围绕所述筒形过滤器的介质床层。
36.一种流体处理装置，包括机壳和设于机壳内的处理腔室，在所述处理腔室内收纳有颗粒状的处理介质，其特征是：
所述机壳的下部设置反冲排泄口，所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部，在所述穿透壁的外围设置筒形过滤器；
所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质向上方移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为围绕所述筒形过滤器的介质床层；
在所述处理腔室的径向内侧设置中心套筒，在所述中心套筒内设置芯部件，所述芯部件穿过所述反冲排泄口而向所述机壳下方凸出的部分形成操作部，所述芯部件能在工作位置和反冲位置之间上下移动，在工作位置，所述芯部件处于下部位置并封闭所述反冲排泄口，在反冲位置，所述芯部件被向上推至上部位置，所述反冲排泄口打开。
37.一种流体处理装置，其特征是：
所述流体处理装置包括处理腔室和预处理腔；
所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，在所述处理腔室内收纳有颗粒状的处理介质，所述处理介质没有填满所述处理腔室；
所述预处理腔位于所述处理腔内的上游侧或者位于所述处理腔室外部的上游侧，所述预处理腔内容纳有预处理介质，以对所述流体进行预处理；
所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部，在所述穿透壁的外围设置筒形过滤器；
所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质向上方移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为围绕所述筒形过滤器的介质床层。
38.一种流体处理装置，包括处理腔室；所述处理腔室具有流体入口部和流体出口部，在所述处理腔室内收纳有铜锌颗粒；所述处理腔室具有穿透壁，在所述穿透壁上形成所述流体出口部；其特征是：
所述处理腔室构造成：在工作状态，由所述流体入口部进入至所述处理腔室的流体将至少部分所述处理介质向上方移动，并且将这些被移动的处理介质保持成为围绕所述穿透壁的介质床层，
通过在所述铜锌颗粒的上游侧设置亚硫酸钙或纳米晶聚合体，来改变流体的化学性质以增加所述铜锌颗粒的除氯性能。