1.一种生产用于表面的含聚合物涂层的方法，其包括将至少一种聚合物和通过原位沉淀形成的结晶碳酸钙施加至表面上，其中使用至少一种钙离子源和至少一种碳酸根离子源作为结晶碳酸钙的反应物，其中原位沉淀在表面上或在距离不超过1米处直接进行。
2.根据权利要求1的方法，其中所述钙离子源或碳酸根离子源包含至少一种溶剂。
3.根据权利要求2的方法，其中所述溶剂为水或醇。
4.根据权利要求1或2的方法，其中所述原位沉淀的结晶碳酸钙的晶体尺寸小于
10μm。
5.根据权利要求4的方法，其中所述晶体尺寸小于1μm。
6.根据权利要求1或2的方法，其中所述含聚合物涂层具有抗菌作用。
7.根据权利要求1或2的方法，其中所述聚合物为至少一种选自以下的聚合物：聚缩水甘油、聚缩水甘油衍生物、聚甘油、聚甘油衍生物、线性或改性的聚丙烯酸、马来酸和丙烯酸的共聚物、聚烷基胺、聚烯基胺、季铵聚合物、超支化聚酯和嵌段共聚物。
8.根据权利要求1或2的方法，其中在钙离子源中钙离子的浓度为0.01-4.0mol/L或在碳酸根离子源中碳酸根离子的浓度为0.01-4.0mol/L。
9.根据权利要求1或2的方法，其中结晶碳酸钙的原位沉淀直接在表面上进行。
10.根据权利要求1或2的方法，其中在表面的含聚合物涂层中钙离子与碳酸根离子的比例为10:1-1:10，且钙离子和碳酸根离子与聚合物的比例为1:1-100:1。
11.根据权利要求1或2的方法，其中使钙离子源和碳酸根离子源相互空间分离，但同时经受喷雾工艺，且原位沉淀在距离表面小于20cm处进行。
12.根据权利要求1或2的方法，其中涂覆操作额外包括至少一个以下步骤：
a)将至少一种聚合物，至少一种钙离子源或至少一种碳酸根离子源雾化，其中至少一种聚合物任选存在于至少一种钙离子源或至少一种碳酸根离子源中，
b)任选将粘合促进剂施加至表面上，或
c)将含聚合物涂层干燥，
步骤a)-c)任选循环进行或步骤a)和b)的顺序可变换。
13.根据权利要求1或2的方法，其用于生产用于选自金属、玻璃、纺织品、聚合物和矿物质的表面的含聚合物涂层。
14.根据权利要求1或2的方法，其中所述含聚合物涂层具有珍珠母或莲花效应。
15.根据权利要求1或2的方法，其中任选将抗微生物物质加入含聚合物涂层中。