고온에서의 단편형 재료 열처리 장치

申请号 KR1019830001944 申请日 1983-05-06 公开(公告)号 KR1019840004802A 公开(公告)日 1984-10-24
申请人 아그로프안라겐바우게젤샤프트미트베쉬렝크터하프퉁; 发明人 칼에프에르.룸바하;
摘要 내용없음
权利要求
  • 고온에서의 단평형 재료에 대한 열처리, 특히 세라믹 재료의 소성처리에 사용되는 열처리장치에 있어서, 열처리실과 적어도 부분적으로는 구동가능하게 고정설치된 다수의 회전하는 이송부재와, 상기 이송부재상에 안착되어 재료와 더불어 상기 열처리실안으로 운송되는 다수의 지지부재를 포함하며, a) 지지부재(8)은 운송방향(9)에서 안내되는 연장된 지지부분이며 상기 운송방향(9)와 직각되게 서로 틈새거리를 형성하며, b) 지지면은 시간에 따른 크리이프 강도에 채택되어 최고 온대에서 처리되는 재료에 형성되게 됨을 특징으로 하는 고온에서의 단평형 재료 열처리장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 최고온도(3)에서의 회전하는 이송부재(5)는 다른 영역(2)(4)에서 보다도 운송방향과 더 작게 틈새거리를 형성함을 특징으로 하는 고온에서의 단편형 재료 열처리 장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 최고온대(3)에서 처리되는 재료를 위한 지지면은 지지부재(8)에 의해서만 형성되며, 이들 지지부재(8)간의 틈새 간격은 최고온대에의 재료의 시간에 따른 크리이프 강도에 따름을 특징으로 하는 고온에서의 단편형재료 열처리장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 최고온대(3)에서 처리되는 재료를 위한 지지면은 인접한 지지부재(8)간의 틈새거리 영역에 형성되는 회전하는 이송부재(5)에 의해서만 이루어진다.
  • 제1항 장치에 있어서, 최고온대에서 처리되는 재료를 위한 지지면은 지지부재(8)과, 인접한 상기 지지부재(8)사이에 형성되는 회전하는 이송부재(5)의 주변부위에 의하여 이루어지게 됨을 특징으로 하는 고온에서의 단평형 재료 열처리장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 지지부재(8)간의 틈새거리는(운송방향과 직각으로)이들 직지부재(8)의 폭의 배수에 해당함을 특징으로 하는 고온에서의 단평형 재료 열처리 장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 안내궤도(11)(12)는 운송방향(9)상에서 지지부재(8)을 안내하기 위하여 이 송부재(5)에 형성됨을 특징으로 하는 고온에서의 단편형재료 열처리 장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 고정된 안내부재(10)은 운송방향(9)상에서 연속되는 이송부재(5)사이의 영역에 형성되며, 그 상부 모서리는 지지부재(8)의 상부모서리 보다 낮게 형성됨을 특징으로 하는고온에서의 단편형재료 열처리장치.
  • 제4항 및 제7항의 장치에 있어서, 안내궤도의 깊이는 최고온대(3)에서는 지지부재(8)의 높이보다 크며, 다른 영역에서는 상기 높이보다 낮게 형성됨을 특징으로 하는 고온에서의 단편형 재료 열처리 장치.
  • 제4항 및 제7항의 장치에 있어서, 운송부재는 최고온대에서 안내궤도(10)과 형성된 적어도 각각의 이송부재(5)사이에 설치된 지지부재(8)을 구동시키기 위하여 제공되며, 연속되는 운송 부재사이의 간격은 지지부재(8)의 길이의 반과 같음을 특징으로 하는 고온에서의 단평형 재료 열처리 장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 지지부재(8)(8´)의 끝단(8a)(a´)는 운송방향(9)에서 신축이 가능하며 또 굽힘에 대하여 반작용 할 수 있도록 느슨하게 형성된 플러그형 연결을 이루게 됨을 특징으로 하는 고온에 어의 단편형재료 열처리장치.
  • 제1항에 장치에 있어서, 서로 인접한 지지부재(8)사이의 틈새간격은 처리하고자 하는 재료의 폭에 따라 조정이 가능함을 특징으로 하는 고온에서의 단편형 재료 열처리 장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 각각의 영역에서의 구동 이송부재(5)의 구동속도는, 열처리실의 전 길이에 걸쳐, 지지부재(8)이 운송방향에서 작용하는 약한 압력하에 놓여서 압력고정연결을 이룰 수 있도록 선택됨을 특징으로 하는 고온에서의 단편형재료 열처리장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 운송방향(9)에 수직으로 서로 인접한 지지부재(8)은 운송방향(9)상에서 서로 독자적으로 움직일 수 있음을 특징으로 하는 고온에서의 단편형재료 열처리장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 서로 접촉하게 되는 지지부재(8)과 구동이송부재(5)의 표면은 재료(1)을 지지 또는 운송할 수 있도록 형상이 결정지어지며, 이 형상은 가급적이면 선택가능한 위치에 설치된 돌출부에 의하여 형성됨을 특징으로 하는 고온에서의 단편형재료 열처리 장치.
  • 제1항의 장치에 있어서, 지지부재(8)은 충분한 형상 안정도를 가지며, 고온대에서도 내식성이 좋고, 스케일이 생기지 않는 재료로 형성되며, 특히 가급적이면 내열성 세라믹, 예를 들어 실리콘카아바이드 및 자기, 그리고 크롬니켈강, 크롬알루미늄강, 및 크롬니켈알루미늄티탄강 등으로 형성됨을 특징으로 하는 고온에서의 단편형 재료 열처리장치.
    ※참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
  • 说明书全文

    고온에서의 단평형 재료 열처리장치

    본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

    제1도는 본 발명에 따른 로(爐)안에 장치된 이송부재 및 지지부재 시스템을 나타낸 예시도.

    제2도는 이송체 및 운반시스템의 단면을 나타낸 평면도.

    제3도는 제2도에 나타낸 부분에 대한 측면도.

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