[0001] 本发明涉及结构体及其制造方法，以及具有上述结构体的物品。本申请基于2013年9月18日在日本申请的特愿2013-193215号主张优先权，在这里援引其内容。

[0002] 已知表面具有微细凹凸结构的结构体，通过折射率的连续变化，呈现防反射性能。此外，微细凹凸结构体通过莲花效应，呈现超防水性能。

[0003] 为呈现良好的防反射性能，微细凹凸结构的相邻的凸部或凹部的间隔必须在可见光的波长以下，作为表面具有这样的微细凹凸结构的结构体的制造方法，例如，已知具有下述工序(i)～(iii)的所谓的纳米压印法。

[0004] (i)在表面具有微细凹凸结构的反转结构的模具和基材之间夹持活性能量射线固化型树脂组合物的工序。

[0005] (ii)对上述活性能量射线固化型树脂组合物照射紫外线等活性能量射线，使活性能量射线固化型树脂组合物硬化的工序。

[0006] (iii)将固化物与模具分离的工序。

[0007] 但是，表面具有微细凹凸结构的结构体具有以下问题：相比于用与形成上述微细凹凸结构的材料相同的材料制作的表面具有平滑的固化涂层的结构体，其耐擦伤性差；纳米级的突起易受到损伤，或通过反复实施对表面附着的污渍进行擦拭的操作，突起磨损，从而防反射性能易下降。

[0008] 作为提高表面具有微细凹凸结构的结构体的耐擦伤性的方法，可列举使形成上述微细凹凸结构的材料中含有润滑剂，从而易在表面滑动、防止纳米级的突起损伤的方法。

[0009] 但是，存在润滑剂经常渗出在结构体表面的情况，据此，产生表面的反射率或雾度值上升，防反射性能下降的问题。

[0010] 此外，提出了通过在微细凹凸结构的形成中使用柔软的树脂组合物，对纳米级的突起赋予弹性，挡开负荷的方法(专利文献1)。

[0011] 但是，如专利文献1所述，对纳米级的突起赋予弹力时，易使表面产生粘性而摩擦力变高，必须用强力擦去污渍。但是，用强力擦去污渍时，纳米级的突起易受损伤、产生与防反射性能的下降相关的问题。

[0012] 现有技术文献

[0013] 专利文献

[0014] 专利文献1：日本专利特开2012-163723号公报

[0015] 发明要解决的课题

[0016] 本发明鉴于以上情况而得，课题是提供防反射性能以及耐擦伤性优异的结构体，以及防反射性能以及耐擦伤性优异的结构体的制造方法。

[0017] 解决课题的手段

[0018] 本发明人们着眼于耐擦伤性和动摩擦系数的推移，深入研究，结果发现，在往复磨耗试验中初期磨耗阶段越长，结构体具有的耐擦伤性越优异。并且，本发明人们发现，通过控制形成微细凹凸结构的材料的弹性模量，将对具有上述微细凹凸结构的表面实施往复磨耗试验时的动摩擦系数的上升控制在特定范围内，则能够得到不损伤防反射性能等的光学性能，且耐擦伤性优异的结构体，完成了本发明。

[0019] 即，本发明具有以下方式。

[0020] [1]一种结构体，其具有基材以及设置于上述基材的至少一面的微细凹凸结构层，[0021] 上述微细凹凸结构层设置于上述结构体的表面，

[0022] 上述结构体的压痕弹性模量是1～1300MPa，且以下式(1)所示的上述结构体表面的动摩擦系数的变化率之比Δμ为0.15～1.05。

[0023] Δμ＝Δμf/Δμs   (1)

[0024] (式(1)中，Δμs表示结构体表面在往复磨耗试验中初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率，Δμf表示结构体表面在往复磨耗试验中试验接近结束时的动摩擦系数的变化率。)[0025] [2]如[1]记载的结构体，其中，上述微细凹凸结构层的相邻凸部间的平均间隔为400nm以下，凸部的高宽比为0.7～1.4。

[0026] [3]如[1]记载的结构体，其中，上述微细凹凸结构层的相邻凸部间的平均间隔为120～250nm。

[0027] [4]如[1]～[3]的任一项记载的结构体，其特征在于，上述微细凹凸结构层包含活性能量射线固化型树脂组合物的固化物，上述活性能量射线固化型树脂组合物至少包含具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯。

[0028] [5]如[1]～[4]的任一项记载的结构体，其中，上述式(1)所示的结构体表面的动摩擦系数的变化率之比为0.3～1.0。

[0029] [6]如[1]～[5]的任一项记载的结构体，其中，上述式(1)所示的结构体表面的动摩擦系数的变化率之比为0.6～0.9。

[0030] [7]如[1]～[6]的任一项记载的结构体，其中，上述结构体表面的动摩擦系数在0.55以下。

[0031] [8]如[1]～[7]的任一项记载的结构体，其中，上述结构体表面的动摩擦系数为0.38～0.5。

[0032] [9]如[1]～[8]的任一项记载的结构体，其中，上述结构体的压痕弹性模量为160～300MPa。

[0033] [10]如[1]～[9]的任一项记载的结构体，其中，上述基材与上述微细凹凸结构层之间进一步含有中间层。

[0034] [11]如[10]记载的结构体，其中，上述中间层包含活性能量射线固化型树脂组合物的固化物，上述活性能量射线固化型树脂组合物包含从酯(甲基)丙烯酸酯以及聚氨酯(甲基)丙烯酸酯形成的群中选出的至少1种(甲基)丙烯酸酯。

[0035] [12]如[1]～[11]的任一项记载的结构体，其中，上述基材是透光性基材。

[0036] [13]一种物品，其具备[1]～[12]的任一项记载的结构体。

[0037] [14]一种结构体的制造方法，是[1]～[12]的任一项记载的结构体的制造方法，其包含通过纳米压印法形成微细凹凸结构层的工序。

[0038] 发明的效果

[0039] 本发明能够提供不损害防反射性能等的光学性能、且耐擦伤性优异的结构体及其制造方法，以及具备上述结构体的物品。附图说明

[0040] [图1]是展示本发明的结构体的一个例子的截面图。

[0041] [图2]是展示表面具有阳极氧化铝的模具的制造工序的截面图。

[0042] [图3]是展示本发明的结构体的制造装置的一个例子的构成图。

[0043] [图4]是往复次数与动摩擦系数的关系图的一个例子，是根据往复磨耗试验的结果得到的。

[0044] 符号说明

[0045] 10 结构体

[0046] 12 基材

[0047] 14 表层

[0048] 20 铝基材

[0049] 22 细孔

[0050] 24 氧化膜

[0051] 26 细孔产生点

[0052] 28 模具

[0053] 30 辊状模具

[0054] 32 储罐

[0055] 34 气压缸

[0056] 36 压料辊

[0057] 38 活性能量射线照射装置

[0058] 40 剥离辊

[0059] 下面，对本发明进行详细地说明。

[0060] 另外，本说明书中，“表层”是指结构体的表面配置的微细凹凸结构层。

[0061] 此外，本说明书中的“活性能量射线”是指可见光、紫外线、电子束、等离子体、热射线(红外线等)等。

[0062] 此外，本说明书中的“(甲基)丙烯酸酯”是丙烯酸酯以及甲基丙烯酸酯的总称，“(甲基)丙烯酸”是丙烯酸和/或甲基丙烯酸的总称。“(甲基)丙烯腈”是丙烯腈以及甲基丙烯腈的总称，“(甲基)丙烯酰胺”是丙烯酰胺以及甲基丙烯酰胺的总称。

[0063] 图1中，为使各层在图面上为可确认的程度的大小，使比例尺不同。

[0064] 此外，图2以及图3中，与图1相同的构件标示相同的符号，有时省略其说明。

[0065] ＜结构体＞

[0066] 本发明的结构体具有基材、和设置于上述基材的至少一面的微细凹凸结构层。

[0067] 微细凹凸结构层只要配置于结构体的至少一侧的表面即可，也可以配置于两侧表面。如后述所示，通过在结构体的表面具有微细凹凸结构层，能够具备优异的防反射性能。

[0068] 图1是展示本发明的结构体的一个例子的截面图。结构体10通过在基材12上层叠微细凹凸结构层14而构成，微细凹凸结构层14的与基材接触的表面的相反一侧的表面具有微细凹凸结构。

[0069] 本发明的结构体的压痕弹性模量为1～1300MPa。此外，下述式(1)所示的结构体表面的动摩擦系数的变化率之比(Δμ)为0.15～1.05。

[0070] Δμ＝Δμf/Δμs···(1)

[0071] (式(1)中，Δμs表示结构体表面在往复磨耗试验中初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率，Δμf表示结构体表面在往复磨耗试验中试验接近结束时的动摩擦系数的变化率。)[0072] 由此，本发明的结构体的特征在于具备优异的耐擦伤性能。

[0073] “微细凹凸结构层”

[0074] 微细凹凸结构层是其至少一侧表面具有微细凹凸结构的层。

[0075] 微细凹凸结构的凹部以及凸部的形状只要在具有本发明的效果的范围则没有特别限定，但优选所谓的蛾眼结构或者其反转结构，其由多个近似圆锥形状、棱锥形状等的突起(凸部)排列而成。特别是相邻凸部之间的平均间隔为可见光的波长(400nm)以下的蛾眼结构时，由于从空气的折射率至材料的折射率，折射率连续地增大，因此作为防反射的手段是有效的。

[0076] 优选微细凹凸结构层的相邻凸部之间的平均间隔(以下，有时称为“凸部的间距”。)为可见光的波长以下，即400nm以下。若凸部的间距在400nm以下，则反射率低，且反射率的波长依赖性少。从凸部结构的形成难易度的观点考虑，凸部的间距更优选120～380nm，进一步优选140～260nm，最优选160～200nm。

[0077] 此外，可以通过电子显微镜观察本发明的结构体的截面图，测定50个点的相邻凸部间的间隔(从凸部的中心至相邻凸部的中心的距离)，将这些数值取平均值，算出相邻凸部间的平均间隔。

[0078] 微细凹凸结构的凸部的平均高度优选100～300nm，更优选120～250nm，特别优选150～220nm，最优选160～190nm。若凸部的平均高度在100nm以上，则反射率低，且反射率的波长依赖性少。此外，若凸部的平均高度在300nm以下，则容易抑制凸部之间接触合一的现象，因此优选。另外，可以在通过上述电子显微镜在倍率30000倍下观察结构体的截面图时，测定50个点的凸部的最顶部与凸部间存在的凹部的最底部间的距离，将这些数值取平均值而算出凸部的平均高度。

[0079] 此外，凸部的高宽比(凸部的平均高度/相邻凸部之间的平均间隔)优选0.8～5，更优选0.7～1.4，进一步优选0.8～1.2。若凸部的高宽比在0.8以上，则反射率充分变低。若凸部的高宽比在5以下，则凸部的耐擦伤性变得良好。

[0080] “基材”

[0081] 基材是支持微细凹凸结构层的载体。形状可以适当选择，可以是片状，也可以是膜状。此处，片状是指厚度超过200μm的形状，膜状是指厚度在200μm以下的形状。此外，基材可以是注射塑模成型体，也可以是挤出成型体，还可以是铸造成型体。

[0082] 作为基材的材料，例如可列举丙烯酸系树脂(聚甲基丙烯酸甲酯等)、聚碳酸酯、苯乙烯聚合物(或共聚物)、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物、纤维素二乙酸酯、纤维素三乙酸酯、纤维素乙酸酯丁酸酯、聚酯(聚对苯二甲酸乙二酯等)、聚酰胺、聚亚胺、聚醚砜、聚砜、聚烯烃(聚乙烯、聚丙烯等)、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩醛、聚醚酮、聚氨酯、玻璃等。这些材料可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

[0083] 为了改良粘合性、抗静电性、耐擦伤性、耐候性等，可以对基材的表面实施涂覆处理、电晕处理等。

[0084] 作为本发明的结构体中使用的基材，优选透光的透光性基材。若基材具有透光性，则能够得到透光性以及防反射性能优异的物品。此外，使用难以透光的模具形成微细凹凸结构时，可以从基材侧照射活性能量射线。

[0085] 作为这样的透光性基材，例如可列举由丙烯酸系树脂、聚碳酸酯、纤维素三乙酸酯、聚酯、聚烯烃、玻璃的材料形成的基材。这些材料可以单独使用1种，也可以并用2种以上。此外，由这样的材料形成的基材由于具有透光性，因此优选。即，优选本发明的基材是透光性基材。

[0086] 本说明书中，所谓“透光性”是指透过可见光的基材。优选透光性基材的可见光的透过率为85％以上。

[0087] 此外，作为基材的厚度，优选1～10000μm，更优选15～200μm。此外，基材的厚度可以使用千分尺测定。

[0088] “用于形成微细凹凸结构层的材料”

[0089] 作为用于形成微细凹凸结构层的材料，可列举活性能量射线固化型树脂组合物、热塑性树脂、无机材料等，从易形成微细凹凸结构的观点考虑，优选活性能量射线固化型树脂组合物。

[0090] 以下，对活性能量射线固化型树脂组合物进行详细地说明。

[0091] <活性能量射线固化型树脂组合物>

[0092] 活性能量射线固化型树脂组合物(以下，有时仅称为“树脂组合物”。)是通过照射活性能量射线进行聚合反应、含有固化的聚合性成分的树脂组合物。

[0093] 作为聚合性成分，例如，适当含有分子中具有自由基聚合性键和/或阳离子聚合性键的单体、低聚物、反应性聚合物的聚合性成分。此外，树脂组合物通常含有使聚合性成分固化的聚合引发剂。

[0094] (聚合性成分)

[0095] 作为分子中具有自由基聚合性键的单体，例如可列举(甲基)丙烯酸酯类((甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氢化糠酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯等)、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯腈、苯乙烯类(苯乙烯、α-甲基苯乙烯等)、(甲基)丙烯酰胺类((甲基)丙烯酰胺、N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、二甲基氨基丙基(甲基)丙烯酰胺等)等单官能团单体；二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、异氰脲酸环氧乙烷改性二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸三甘醇酯、二(甲基)丙烯酸二甘醇酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸1，
6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸1，5-戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸1，3-丁二醇酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2，2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2，2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基乙氧基苯基)丙烷、2，2-双(4-(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基)丙烷、1，
2-双(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)乙烷、1，4-双(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)丁烷、二羟甲基三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的环氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的环氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙烯基苯、亚甲基双丙烯酰胺等双官能团单体；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧丙烷改性三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、甘油环氧乙烷改性三丙烯酸酯等三官能团单体；琥珀酸/三羟甲基乙烷/丙烯酸的缩合反应混合物、乙氧基化季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、聚甘油聚丙烯酸酯等多官能团的单体，以及这些多官能团单体的环氧乙烷加成物或环氧丙烷加成物等；双官能团以上的聚氨酯丙烯酸酯、双官能团以上的聚酯丙烯酸酯、双官能团以上的硅酮(甲基)丙烯酸酯等。这些可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

[0096] 作为分子中具有自由基聚合性键的低聚物以及反应性聚合物，例如可列举不饱和聚酯类(不饱和二羧酸与多元醇的缩聚物等)、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、环氧基(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、阳离子聚合型环氧化合物、侧链具有自由基聚合性键的上述单体的均聚物或共聚物等等。

[0097] 作为分子中具有阳离子聚合性键的单体、低聚物、反应性聚合物，只要是具有阳离子聚合性官能团的化合物(阳离子聚合性化合物)即可，可以是单体、低聚物、预聚合物的任意一种。

[0098] 作为阳离子聚合性官能团，可列举实用性高的官能团，例如，环状醚基(环氧基、氧杂环丁基、恶唑基等)、乙烯氧基、乙烯基醚基、碳酸酯基(O-CO-O基)等。

[0099] 作为阳离子聚合性化合物，例如可列举环状醚化合物(环氧基化合物、氧杂环丁烷化合物等)、乙烯基醚化合物、碳酸酯系化合物(环状碳酸酯化合物、二硫代碳酸酯化合物等)等。

[0100] 作为分子内具有阳离子聚合性键的单体，具体地可列举具有上述环氧基、氧杂环丁基、恶唑基、乙烯氧基、乙烯基醚基、碳酸酯基等的单体，其中，特别优选具有环氧基的单体。作为具有阳离子聚合性键的低聚物以及反应性聚合物，具体地可列举阳离子聚合型环氧化合物等。作为阳离子聚合型环氧基化合物的市售品，例如可列举长濑CHEMTEX株式会社制的“デナコール”系列、共荣社化学株式会社制的“エポライト”系列、株式会社ADEKA公司制的“アデカレジン”系列以及“アデカグリシロール”系列等。

[0101] 本发明的一个侧面中，微细凹凸结构层包含活性能量射线固化型树脂组合物的固化物，优选上述活性能量射线固化型树脂组合物至少包含具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯。此外，上述具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯，优选从聚乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯的环氧乙烷加成物、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性三丙烯酸酯、甘油环氧乙烷改性三丙烯酸酯以及聚甘油环氧乙烷改性聚丙烯酸酯构成的群中选出的至少1种。

[0102] 相对于活性能量射线固化型树脂组合物中的聚合性成分100质量份，具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯的含量优选30～100质量份，更优选30～80质量份，特别优选30～70质量份。

[0103] 形成微细凹凸结构层的材料，通过含有具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯，能够得到耐擦伤性优异的结构体。

[0104] (聚合引发剂)

[0105] 作为聚合引发剂，可列举公知的材料。

[0106] 利用可见光、紫外线等光反应使树脂组合物固化时，作为光聚合引发剂，可列举自由基聚合引发剂、阳离子聚合引发剂。

[0107] 作为自由基聚合引发剂，只要是照射公知的活性能量射线产生自由基的物质即可，可列举苯乙酮系光聚合引发剂、苯偶姻系光聚合引发剂、二苯甲酮系光聚合引发剂、噻吨酮系光聚合引发剂、酰基膦氧化物系光聚合引发剂等。这些自由基聚合引发剂，可以单独使用1种，也可以并用2种以上。并用时，优选并用吸收波长不同的2种以上的引发剂。

[0108] 作为苯乙酮系光聚合引发剂，例如可列举苯乙酮、p-(叔丁基)-1’，1’，1’-三氯苯乙酮、氯苯乙酮、2’，2’-二乙氧基苯乙酮、羟基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2’-苯基苯乙酮、2-氨基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯甲基二甲基缩酮、1-羟基环己基-苯基酮、1-[4-(2-羟基乙氧基)-苯基]-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苯甲基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮、2-甲基-2-吗啉代基(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代基苯基)-丁酮、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮等。

[0109] 苯偶姻系光聚合引发剂，例如可列举联苯甲酰、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚等。

[0110] 作为二苯甲酮系光聚合引发剂，例如可列举二苯甲酮、苯甲酰苯甲酸、苯甲酰安息香酸甲酯、甲基-o-苯甲酰苯甲酸酯、2，4，6-三甲基二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、羟基二苯甲酮、羟基丙基二苯甲酮、丙烯酸二苯甲酮、4，4’-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4，4-双(二乙基氨基)二苯甲酮等。

[0111] 作为噻吨酮系光聚合引发剂，例如，可列举噻吨酮、2-氯噻吨酮、2，4-二氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、二乙基噻吨酮、二甲基噻吨酮等。

[0112] 作为酰基膦氧化物系光聚合引发剂，例如，可列举2，4，6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦、双(2，6-二甲氧基苯甲酰)-2，4，4-三甲基戊基氧化膦、苯甲酰二乙氧基氧化膦、双(2，4，6-三甲基苯甲酰)苯基氧化膦等。

[0113] 作为其他自由基聚合引发剂，例如，可列举α-酰基肟酯、苯甲基-(o-乙氧基羰基)-α-单肟、乙醛酸酯、3-香豆素酮、2-乙基蒽醌、樟脑醌、四甲基秋兰姆硫醚、偶氮二异丁腈、过氧化苯甲酰、二烷基过氧化物、过氧化特戊酸叔丁酯等。

[0114] 作为阳离子聚合引发剂，只要是公知的照射活性能量射线产生酸的引发剂即可，可列举锍盐、碘鎓盐、鏻盐等。这些阳离子聚合引发剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

[0115] 作为锍盐，例如，可列举三苯基锍六氟磷酸酯、三苯基锍六氟锑酸酯、双(4-(二苯基锍)-苯基)硫醚-双(六氟磷酸酯)、双(4-(二苯基锍)-苯基)硫醚-双(六氟锑酸酯)、4-二(p-甲苯酰基)锍-4’-叔丁基苯基羰基-二苯基硫醚六氟锑酸酯、7-二(p-甲苯酰基)锍-2-异丙基噻吨酮六氟磷酸酯、7-二(p-甲苯酰基)锍-2-异丙基噻吨酮六氟锑酸酯等。

[0116] 作为碘鎓盐，例如，可列举二苯基碘鎓六氟磷酸酯、二苯基碘鎓六氟锑酸酯、双(十二烷基苯基)碘鎓四(五氟苯基)硼酸酯等。

[0117] 作为鏻盐，例如，可列举四氟鏻六氟磷酸酯、四氟鏻六氟锑酸酯等。

[0118] 作为这些光聚合引发剂，从易得到满足上述压痕弹性模量以及Δμ的结构体的观点考虑，优选从苯乙酮系光聚合引发剂以及酰基膦氧化物系光聚合引发剂构成的群中选出的至少1种的光聚合引发剂。

[0119] 利用红外线等热反应使树脂组合物固化时，作为热聚合引发剂，例如，可列举有机过氧化物(过氧化甲乙酮、过氧化苯甲酰、过氧化二异丙苯、叔丁基氢化过氧化物、过氧化氢异丙苯、过氧化辛酸叔丁酯、过氧化苯甲酸叔丁酯、过氧化月桂酰等)、偶氮系化合物(偶氮二异丁腈等)、上述有机过氧化物与胺(N,N-二甲基苯胺、N,N-二甲基-p-甲苯胺等)组合而得的氧化还原聚合引发剂等。

[0120] 这些热聚合引发剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

[0121] 相对于聚合性成分100质量份，聚合引发剂的含量优选为0.1～10质量份。若聚合引发剂的含量在0.1质量份以上，则聚合容易进行。若聚合引发剂的含量在10质量份以下，则得到的固化物着色、或机械强度下降的情况变少。

[0122] (其它成分)

[0123] 树脂组合物还可以含有非反应性的聚合物。

[0124] 作为非反应性的聚合物，例如，可列举丙烯酸树脂、苯乙烯系树脂、聚氨酯树脂、纤维素树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚酯树脂、热塑性弹性体、改性硅树脂等。其中，从提高结构体的耐擦伤性的观点考虑，优选包含改性硅树脂。此外，树脂组合物包含改性硅树脂时，其含量相对于聚合性成分100质量份，优选为1～13质量份，更优选1～9质量份，特别优选5～9质量份。

[0125] 此外，根据需要，树脂组合物除上述材料以外，还可以含有表面活性剂、脱模剂、润滑剂、增塑剂、防静电剂、光稳定剂、抗氧化剂、阻燃剂、阻燃助剂、阻聚剂、填充剂、硅烷偶联剂、着色剂、强化剂、无机填料、无机或有机系微粒、耐冲击性改性剂、少量的溶剂等公知的添加剂。

[0126] (粘度)

[0127] 树脂组合物的粘度，在后面详细叙述，但从流入模具表面形成的微细凹凸结构的难易度的观点考虑，优选不要太高。具体地，25℃条件下，用回旋式B型粘度计所测定的树脂组合物的粘度优选在10000mPa·s以下，更优选5000mPa·s以下，进一步优选2000mPa·s以下。

[0128] 但是，若是即使树脂组合物的粘度超过10000mPa·s时，也能在与模具接触时预先进行加温使粘度下降，则没有特别的问题。此时，70℃的条件下，用回旋式B型粘度计所测定的树脂组合物的粘度优选5000mPa·s以下，更优选2000mPa·s以下。

[0129] 树脂组合物的粘度的下限值没有特别限定，但在10mPa·s以上时，湿润时不会展开，可高效制造层叠结构体，因此优选。

[0130] “中间层”

[0131] 本发明的结构体可以在基材和微细凹凸结构层之间具有中间层。

[0132] 通过具有中间层，能够赋予结构体铅笔硬度的提高、与基材的粘合性、紫外线遮蔽性、防静电性、雾度调整、着色、设计性等的功能。中间层可以是一层，也可以是两层以上。此外，具有中间层时，由于中间层具有分散擦伤时的能量的功能，耐擦伤性进一步变得良好，因此优选。

[0133] 中间层的表面可以是平滑的，也可以具有微细凹凸结构。

[0134] 用于形成中间层的材料只要不对本发明的效果造成坏影响，则没有特别限定，但优选含有活性能量射线固化型树脂组合物。作为活性能量射线固化型树脂组合物中所含的聚合性成分，例如，可以使用与作为用于形成微细凹凸结构层的材料的聚合性成分相同的成分。此外，活性能量射线固化型树脂组合物还可以含有各种胶粘剂或无机微粒、有机微粒、添加剂。

[0135] 本发明的一个侧面中，用于形成中间层的材料含有活性能量射线固化型树脂组合物，上述活性能量射线固化型树脂组合物包含从酯(甲基)丙烯酸酯以及聚氨酯(甲基)丙烯酸酯构成的群中选出至少1种的(甲基)丙烯酸酯。

[0136] 作为酯(甲基)丙烯酸酯，例如，可列举季戊四醇(三)四丙烯酸酯、二季戊四醇(五)六丙烯酸酯、聚季戊四醇聚丙烯酸酯等。

[0137] 作为聚氨酯(甲基)丙烯酸酯，例如，可列举季戊四醇(三)四丙烯酸酯与六亚甲基二异氰酸酯的反应生成物、(聚)季戊四醇(聚)丙烯酸酯与六亚甲基二异氰酸酯的反应生成物等。

[0138] “其它层”

[0139] 本发明的一个侧面中，结构体可以具有粘着剂层。优选粘着剂层配置在基材的没有配置微细凹凸结构层的一侧的表面上。即，可以将本发明的结构体按照粘着剂层、基材、微细凹凸结构层这个顺序层叠。

[0140] “压痕弹性模量”

[0141] 本发明中，结构体的压痕弹性模量，例如可以使用微型压痕硬度试验机测定。此处，得到的压痕弹性模量与杨氏模量相关。压痕弹性模量与杨氏模量的相关关系的说明，记载于“材料试验技术”(Vol.43，No.2，P148-152，1998年4月号)登载的“利用万能硬度试验的材料特性值的评价(ユニバーサル硬さ試験による材料特性値の評価)”(Cornelia Heermant，Dieter Dengel)共同著作，片山繁雄、佐藤茂夫共同翻译)。

[0142] 另外，本发明中的压痕弹性模量使用通过下述方法测定的数值。即，通过光学粘着剂在结构体的基材侧的表面贴上透明的玻璃板(松浪硝子工业株式会社制“大型载玻片，商品号：S9112，76mm×52mm尺寸)，将其作为样品，使用微型压痕硬度试验机(装置名称：フィッシャースコープHM2000XYp，费舍尔仪器公司制)，将压头压入样品的微细凹凸结构层侧的表面，从而能够测定结构体的压痕弹性模量。优选压头使用维氏压头(四面金刚石锥体)，评价在恒定室温(温度23℃、湿度50％RH)下进行。评价过程可以通过以下方式进行：以在以1mN/s进行5秒压入后，以5mN/s进行10秒徐变，然后，以1mN/s经5秒除去负荷的条件下进行测定，通过解析软件(WIN-HCU，费希尔仪器公司制)依次解析压头的压入量，从而可以算出各样品的压痕弹性模量。

[0143] 结构体的压痕弹性模量为1～1300MPa，优选50～500MPa，更优选160～300MPa。若结构体的压痕弹性模量在1MPa以上，则形成微细凹凸结构层的材料变得很柔软，能够防止纳米尺度的突起的合一或压碎。此外，若压痕弹性模量在1300MPa以下，则能够抑制微细凹凸结构层的凸部相对于外部压力易折断的情况。

[0144] 像这样，为了得到压痕弹性模量在1～1300MPa的结构体，作为形成微细凹凸结构层的材料，优选使用上述包含具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯的活性能量射线固化型树脂组合物。

[0145] “动摩擦系数”

[0146] 本发明的结构体表面的动摩擦系数可以使用摩擦损耗试验机，对结构体表面进行往复磨耗算出。具体地，使用通过下述方法测定的数值。即，通过光学粘着剂在结构体的基材侧的表面贴上透明的玻璃板(松浪硝子工业株式会社制大型载玻片，商品号：S9112，76mm×52mm尺寸)，将其作为样品，使用摩擦磨耗试验机(装置名称：トライボギアTYPE：HHS2000，新东科学株式会社制)，实施样品的往复磨耗试验。可以将擦拭纸(bemcot)(旭化成纺织株式会社制，无尘室擦拭器，BEMCOT M-3II)安装于2cm方形的压头，在负荷1000g、冲程30mm、速度30mm/s的条件下进行1000次往复磨耗试验，算出动摩擦系数。

[0147] 通常，关于往复磨耗试验中试验片的磨损现象，根据动摩擦系数的变化，往复次数与动摩擦系数的关系分为以下三个阶段。

[0148] ·动摩擦系数呈特定比例上升或降低的“初期磨耗”

[0149] ·动摩擦系数大致以特定的数值推移的“稳态磨耗”

[0150] ·动摩擦系数急剧上升的“异常磨耗”

[0151] 此处，将往复磨耗试验中的初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率设为Δμs，将试验接近结束时的动摩擦系数的变化率设为Δμf时，其比值Δμ(Δμf/Δμs)是反映磨耗进展的程度的数值。

[0152] 例如，Δμ≒1时，表示初期磨耗阶段维持到磨耗试验结束，耐擦伤性优异。另一方面，Δμ小于1时，磨耗举动经初期磨耗过渡至稳态磨耗阶段，因此，相比于维持在初期磨耗的情况，其耐擦伤性较差。此外，Δμ大于1时，表示磨耗进展至异常磨耗阶段，结构体的表面受到了较大的损伤。

[0153] 通过实施往复磨耗试验，结构体的表面状态如下产生了变化。

[0154] 微细凹凸结构层的凹凸没有因摩擦而减少而呈残留的状态，往复磨耗试验中，动摩擦系数以特定的比例增减。这个状态称为初期磨耗阶段。往复磨耗试验中，可认为其初期磨耗阶段越长，该结构体的耐擦伤性越优异。

[0155] 微细凹凸结构层的凸部的磨耗继续进行时，往复磨耗试验中，动摩擦系数变成大致以特定的数值推移。这个状态称为稳态磨耗阶段。进一步地，微细凹凸结构层的磨耗继续进行时，往复磨耗试验中，动摩擦系数变成急剧上升。这个状态称为异常磨耗阶段。

[0156] 在表面具有微细凹凸结构层的结构体的往复磨耗试验中，如上所述依次经历初期磨耗阶段、稳态磨耗阶段、异常磨耗阶段，因此，初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率可以通过测定实验开始至第50次往复时的动摩擦系数的变化值求出。具体地，对于往复磨耗试验的往复次数与得到的动摩擦系数，制作相关图，对于初期磨耗阶段的动摩擦系数的数值，算出其一次近似表达式，通过算出该一次近似表达式的斜率，可以算出初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率。

[0157] 本说明书中，初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率(Δμs)是指，对于至第20～40次往复时的动摩擦系数的曲线制作一次近似表达式，根据该一次近似表达式的斜率算出的数值。

[0158] 同样地，试验接近结束时的动摩擦系数的变化率(Δμf)是指，试验接近结束时，即，对于第800～1000次往复时的动摩擦系数的曲线制作一次近似表达式，根据该一次近似表达式的斜率算出的数值。

[0159] 本发明的结构体中，动摩擦系数的变化率的比值Δμ为0.15～1.05，优选0.3～1.0，更优选0.6～0.9。若Δμ在0.15～1.05的范围，则能够较长地维持在初期磨耗阶段，得到具备优异的耐擦伤性的结构体。

[0160] 此外，磨耗试验中的试验初期的动摩擦系数(μs)是反映结构体表面的滑动难易度的数值，μs越小，越能用较小负荷(力)擦去表面附着的污渍。此处，试验初期的动摩擦系数是指，结构体表面的往复磨耗试验中，1次往复结束时的动摩擦系数。此外，本发明的结构体表面的动摩擦系数是指上述试验初期的动摩擦系数。

[0161] 本发明的结构体中，μs优选0.55以下，更优选0.38～0.5。若μs在0.55以下，则擦去污渍需要的负荷(力)较小，且能够防止纳米尺度的突起(凸部)受到损伤。

[0162] 本发明的一个侧面中，作为得到Δμ为0.1～1.05的结构体的方法，如上所述，作为形成微细凹凸结构层的材料，优选使用至少包含具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯的活性能量射线固化型树脂组合物。此外，优选凸部的间距在120nm以上，进一步优选140nm以上。

[0163] 此外，本发明的其它的侧面，是耐擦伤性优异的结构体的检测方法。

[0164] 即，是具备耐擦伤性优异的微细凹凸结构层的结构体的检测方法，该检测方法的特征在于，包含以下工序：测定上述结构体的压痕弹性模量的工序，通过往复磨耗试验测定上述结构体表面的动摩擦系数的工序，检测出上述结构体中的压痕弹性模量在1～1300MPa的范围，且以下的式(1)所示的上述结构体表面的动摩擦系数的变化率之比(Δμ)为0.15～1.05的结构体的工序。

[0165] Δμ＝Δμf/Δμs···(1)

[0166] (式(1)中，Δμs表示结构体表面在往复磨耗试验中初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率，Δμf表示结构体表面在往复磨耗试验中试验接近结束时的动摩擦系数的变化率。)[0167] ＜用途＞

[0168] 本发明的结构体适宜用作表面具有微细凹凸结构的功能性物品。作为功能性物品，例如，可列举具备本发明的结构体的防反射物品，防水性物品等。特别是，具备本发明的结构体的显示器或汽车用构件，是功能性物品，是适宜的。

[0169] 具备本发明的结构体的防反射物品体现较高的耐擦伤性和良好的防反射性能。作为防反射物品，例如，可列举在图像显示装置等的各种显示装置(液晶显示装置、等离子显示面板、电致发光显示器、阴极管显示装置、鱼群探测器显示器、医疗显示器等)、透镜、橱窗、眼镜镜片、比色计等的对象物的表面贴上本发明的结构体而得的物品等。

[0170] 本发明的结构体由于表面的微细凹凸结构而具备优异的防水性，体现较高的耐擦伤性和良好的防水性能的同时，体现优异的防反射性能。作为防水性物品，例如，可列举在窗户材料、屋顶瓦片、管道、室外照明、弧形镜面、车辆用窗户、车辆用镜子、食品内盖、管子、饮料容器、酸奶盖等对象物的表面贴上本发明的结构体的物品等。

[0171] 各对象物中，贴上结构体的部分为立体形状时，预先准备与其形状对应的形状的基材，在该基材上形成表层得到结构体后，将该结构体贴在对象物的特定部位即可。

[0172] 此外，对象物作为图像显示装置时，并不局限于贴在其表面，也可以在其前面板上贴付本发明的结构体，也可以由本发明的结构体构成前面板本身。

[0173] 此外，本发明的结构体除上述用途以外，还可以应用于例如光波导管、浮雕全息图、透镜、偏振光分离元件等光学用途，或细胞培养片、除雪机器、滑雪雪橇·滑雪板等体育运动用品，储热材料、保温材料、隔音材料、指纹判断、排气扇等的用途。

[0174] ＜结构体的制造方法＞

[0175] 本发明的结构体的制造方法中，作为配置于表面的微细凹凸结构层的形成方法，只要具有本发明的效果则没有特别限定，但优选使用模具的转印法，具体地，是通过将上述树脂组合物与表面具有微细凹凸结构的反转结构的模具接触，使其固化形成的方法(纳米压印法)。即，本发明的结构体的制造方法优选包含通过纳米压印法形成微细凹凸结构层的工序。

[0176] 以下，对转印法中使用的模具的一例进行说明。

[0177] (模具)

[0178] 模具的表面具有微细凹凸结构的反转结构。

[0179] 作为模具的材料，可列举金属(包括表面形成有氧化膜的金属。)、石英、玻璃、树脂、陶瓷等。

[0180] 作为模具的形状，可列举辊状、圆管状、平板状、片状等。

[0181] 作为模具的制作方法，可列举下述方法(I-1)、方法(I-2)。其中，从能够大面积化且制作简便的观点考虑，优选方法(I-1)。

[0182] (I-1)通过在铝基材的表面，形成具有多个细孔(凹部)的阳极氧化铝的方法，形成微细凹凸结构的反转结构的方法。

[0183] (I-2)通过电子束平板印刷法、激光干涉法等在模具基材的表面形成微细凹凸结构的反转结构的方法。

[0184] 作为方法(I－1)，优选包含下述工序(a)～(f)的方法。

[0185] (a)将铝基材在电解液中恒定电压下进行阳极氧化，在铝基材的表面形成氧化膜的工序。

[0186] (b)除去氧化膜的一部分或全部，在铝基材的表面形成阳极氧化的细孔产生点的工序。

[0187] (c)在工序(b)之后，将铝基材在电解液中，再次进行阳极氧化，形成在细孔产生点具有细孔的氧化膜的工序。

[0188] (d)在工序(c)之后，使细孔的直径扩大的工序。

[0189] (e)在工序(d)之后，在电解液中，再次进行阳极氧化的工序。

[0190] (f)反复进行工序(d)和工序(e)，得到在铝基材的表面形成有具有多个细孔的阳极氧化铝的模具的工序。

[0191] 工序(a)：

[0192] 如图2所示，通过将铝基材20阳极氧化，形成具有细孔22的氧化膜24。

[0193] 作为铝基材的形状，可列举辊状、圆管状、平板状、片状等。

[0194] 由于铝基材，附着有加工成特定形状时使用的油，因此优选预先对其进行脱脂处理。此外，为了使铝基材的表面状态平滑，优选进行研磨处理。

[0195] 铝的纯度优选99％以上，更优选99.5％以上，进一步优选99.8％以上。若铝的纯度低，则具有以下情况，阳极氧化时，形成通过杂质的偏析导致可见光散射的较大的凹凸结构，或者阳极氧化得到的细孔的规律性下降。

[0196] 作为电解液，可列举硫酸、草酸、磷酸等。

[0197] 使用草酸作为电解液时，草酸的浓度优选0.8M以下。若草酸的浓度在0.8M以下，则能够防止电流值的上升，抑制氧化膜的表面变粗糙。

[0198] 此外，化成电压为30～100V时，能够得到具有周期为100nm～200nm的规律性高的细孔的阳极氧化铝。化成电压高于或低于该范围时，都有规律性下降的倾向。电解液的温度优选60℃以下，更优选45℃以下。通过使电解液的温度在60℃以下，能够防止所谓的“烧伤”现象的产生，抑制细孔的破损、表面溶解、细孔的规则性不稳定的情况。

[0199] 使用硫酸作为电解液时，优选硫酸的浓度在0.7M以下。若硫酸的浓度在0.7M以下，则能够防止电流值的上升，维持恒定电压。

[0200] 此外，化成电压为25～30V时，能够得到具有周期为63nm的规律性高的细孔的阳极氧化铝。化成电压高于或低于该范围时，都有规律性下降的倾向。电解液的温度优选30℃以下，更优选20℃以下。通过使电解液的温度在30℃以下，能够防止所谓的“烧伤”现象的产生，抑制细孔的破损、表面溶解、细孔的规则性不稳定的情况。

[0201] 工序(b)：

[0202] 如图2所示，若是暂时将氧化膜24的一部分或全部除去，通过将其作为阳极氧化的细孔产生点26，能够提高细孔的规律性。即使是未将氧化膜24全部除去而是一部分残留的状态，只要是氧化膜24中留有规律性已经被充分提高的一部分，则能够达到除去氧化膜的目的。

[0203] 作为除去氧化膜24的方法，可列举将氧化膜24溶解于不溶解铝能选择性溶解氧化膜24的溶液中除去的方法。作为这样的溶液，例如，可列举铬酸/磷酸混合溶液等。

[0204] 工序(c)：

[0205] 如图2所示，将已除去氧化膜的铝基材20再次通过阳极氧化形成具有圆柱状细孔22的氧化膜24。

[0206] 阳极氧化可以在与工序(a)相同的条件下进行。阳极氧化的时间越长，越能得到较深的细孔。

[0207] 工序(d)：

[0208] 如图2所示，进行使细孔22的直径扩大的处理(以下，有时称为“扩大细孔直径的处理”。)。扩大细孔直径的处理是浸渍于能溶解氧化膜24的溶液中，使通过阳极氧化得到的细孔直径扩大的处理。作为这样的溶液，例如，可列举5质量％左右的磷酸水溶液等。

[0209] 扩大细孔直径的处理的时间越长，细孔直径越大。

[0210] 工序(e)：

[0211] 如图2所示，通过再次进行阳极氧化，进一步形成由圆柱状的细孔22的底部进一步向下延伸的直径小的圆柱状细孔22。

[0212] 阳极氧化，可以在与工序(a)相同的条件下进行。阳极氧化的时间越长，越能得到较深的细孔。

[0213] 工序(f)：

[0214] 如图2所示，通过反复进行工序(d)的扩大细孔直径的处理和工序(e)的阳极氧化，形成具有由直径的开口部向深度方向连续减少的形状的细孔22的氧化膜24。像这样，能够得到在铝基材20的表面具有阳极氧化铝(铝的多孔性氧化膜(氧皮铝))的模具28。最后，优选通过工序(d)结束。

[0215] 反复的次数的合计优选为3次以上，更优选5次以上。通过使反复的次数在3次以上，能够得到蛾眼结构，具有细孔直径连续性地减少、具有充分的降低反射率的效果。

[0216] 作为细孔22的形状，可列举大致圆锥形状、棱锥形状、圆柱形状等。优选如圆锥形状、棱锥形状等这样的在与深度方向垂直的方向上的细孔截面积从最表面向深度方向连续减少的形状。

[0217] 优选相邻细孔22之间的平均间隔在可见光的波长以下，即优选在400nm以下，更优选25～300nm，进一步优选80～250nm。

[0218] 相邻细孔22之间的平均间隔是通过电子显微镜测定50个点的相邻细孔22之间的间隔(由细孔22的中心至相邻细孔22的中心的距离)，取这些数值的平均值而得的数值。

[0219] 细孔22的平均深度优选100～400nm，更优选130～300nm。

[0220] 细孔22的平均深度是通过上述电子显微镜观察在倍率30000倍下观察结构体的截面图时，测定50个点的细孔22的最底部与细孔22间存在的凸部的最顶部之间的距离，取这些数值的平均值而得的数值。

[0221] 细孔22的高宽比(细孔22的平均深度/相邻细孔22之间的平均间隔)优选0.3～4，更优选0.8～2.5。

[0222] 可以用脱模剂处理模具的形成有微细凹凸结构的一侧的表面。

[0223] 作为脱模剂，可列举有机硅树脂、氟树脂、氟化合物、磷酸酯等，优选氟化合物以及磷酸酯。

[0224] 作为氟化合物的市售品，可列举苏威特种聚合物(Solvay Specialty Polymers)日本株式会社制造的“フルオロリンク”、信越化学工业株式会社制造的氟烷基硅烷“KBM－7803”、旭硝子株式会社制造的“MRAF”、株式会社HARVES公司制造的“オプツールHD1100”、“オプツールHD2100系列”、大金工业株式会社制造的“オプツールDSX”、住友3M株式会社制造的“ノベックEGC－1720”、株式会社FLUOROTECH制造的“FS－2050”系列等。

[0225] 作为磷酸酯，优选(聚)氧化烯烷基磷酸化合物。作为市售品，可列举城北化学工业株式会社制造的“JP－506H”、AXELL株式会社制造的“モールドウイズINT－1856”、日光化学株式会社制造的“TDP－10”、“TDP－8”、“TDP－6”、“TDP－2”、“DDP－10”、“DDP－8”、“DDP－6”、“DDP－4”、“DDP－2”、“TLP－4”、“TCP－5”、“DLP－10”等。

[0226] 这些脱模剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

[0227] 使用如上述所得的铝基材的表面具有阳极氧化铝的模具，通过转印法形成微细凹凸结构时，结构体的微细凹凸结构是转印阳极氧化铝的表面的微细凹凸结构形成得到的。

[0228] 下面，对用于制造结构体的制造装置、使用该制造装置的结构体的制造方法的一例进行具体的说明。

[0229] ＜结构装置以及结构体的制造方法＞

[0230] 图1所示的结构体10，例如，使用图3所示的制造装置，按照下述方式制造。

[0231] 从储罐32将形成表层用的材料(活性能量射线固化型树脂组合物)供给于表面具有微细凹凸结构的反转结构(图略)的辊状模具30与沿辊状模具30的表面移动的作为带状膜的基材12之间。

[0232] 将基材12以及上述材料夹在辊状模具30与通过气压缸34调整钳口压力的压料辊36之间。由此，使上述材料在基材12与辊状模具30之间均一传递的同时，填充至辊状模具30的微细凹凸结构的凹部内。

[0233] 从设置于辊状模具30的下方的活性能量射线照射装置38，通过基材12向上述材料照射活性能量射线使其固化。像这样，得到如图1所示的转印有辊状模具30的表面的微细凹凸结构的结构体10。

[0234] 作为活性能量射线照射装置38，优选高压汞灯、金属卤化物灯、LED灯等。光照射能量优选100～10000mJ/cm2。

[0235] ＜作用效果＞

[0236] 以上说明的结构体10由于表面具有微细凹凸结构，因此防反射性能优异。

[0237] 此外，可以通过粘合剂层在结构体10的基材的内表面设置分离膜。通过设置粘合剂层，能够容易地贴付于其它膜状或片状的物品(前面板、偏光元件等)。

[0238] 本发明的其它方式如下所示。

[0239] ＜1＞一种结构体，其具有基材和设置于上述基材的至少一面的微细凹凸结构层，上述微细凹凸结构层设置于上述结构体的表面，上述结构体的压痕弹性模量为1～1300MPa，且上述式(1)所示的上述结构体表面的动摩擦系数的变化率之比(Δμ)为0.15～
1.05，

[0240] 上述微细凹凸结构层包含活性能量射线固化型树脂组合物的固化物，所述活性能量射线固化型树脂组合物含有选自由聚乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯的环氧乙烷加成物、以及乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯构成的群中的至少1种的具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯。

[0241] ＜2＞如＜1＞记载的结构体，其中，相对于上述活性能量射线固化型树脂组合物的固化物中所含的聚合性成分100质量份，上述具有氧乙烯基的(甲基)丙烯酸酯的含量为30～100质量份。

[0242] ＜3＞如＜1＞或＜2＞记载的结构体，其中，上述活性能量射线固化型树脂组合物进一步含有改性有机硅树脂。

[0243] ＜4＞如＜1＞～＜3＞的任一项记载的结构体，其中，相对于上述聚合性成分100质量份，上述改性有机硅树脂的含量为1～13质量份。

[0244] ＜5＞如＜1＞～＜4＞的任一项记载的结构体，其中，上述活性能量射线固化型树脂组合物不含聚氨酯(甲基)丙烯酸酯。

[0245] 实施例

[0246] 下面，通过实施例对本发明进行具体的说明，但本发明并不局限于这些实施例。

[0247] (活性能量射线固化型树脂组合物A的制备)

[0248] 将作为聚合性成分的季戊四醇三丙烯酸酯(第一工业制药株式会社制，商品名称“ニューフロンティアPET－3”)20质量份、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(新中村工业株式会社，商品名称“ATM－35E”)80质量份，作为聚合引发剂的1-羟基环己基苯基酮(CIBA日本株式会社制，商品名称“IRGACURE184”)0.1质量份以及双(2，4，6-三甲基苯甲酰)-苯基氧化膦(CIBA日本株式会社制，商品名称“IRGACURE819”)0.5质量份，和脱模剂(日光化学株式会社制，商品名称“TDP－2”)0.1质量份混合，制备活性能量射线固化型树脂组合物A(树脂组合物A)。

[0249] (活性能量射线固化型树脂组合物B～M的制备)

[0250] 除变更为表1记载的组成以外，通过与活性能量射线固化型树脂组合物A相同的操作，制备各活性能量射线固化型树脂组合物。

[0251] [表1]

[0252]

[0253] 表1中记载的成分如下所示

[0254] “PET－3”：季戊四醇三丙烯酸酯(第一工业制药株式会社制，商品名称“ニューフロンティアPET－3”)

[0255] “ATM－35E”：乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(新中村工业株式会社制，商品名称“ATM－35E”)

[0256] “DPEA－12”：二季戊四醇六丙烯酸酯EO改性化合物(日本化药株式会社制，商品名称“DPEA－12”)

[0257] “M－260”：聚乙二醇二丙烯酸酯(东亚合成株式会社制，商品名称“M－260”)[0258] “BYK－3570”：聚醚改性的硅油(BYK日本株式会社制，商品名称“BYK－3570”)[0259] “DPHA”：二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药株式会社制，商品名称“DPHA”)[0260] “CN2271E”：聚酯丙烯酸酯低聚物(沙多玛公司制，商品名称“CN2271E”)[0261] “CN152”：环氧丙烯酸酯低聚物(沙多玛公司制，商品名称“CN152”)

[0262] “APG－200”：三丙二醇二丙烯酸酯(新中村工业株式会社制，商品名称“APG－200”)

[0263] “HEA”：丙烯酸2-羟乙酯(大阪有机化学工业公司制，商品名称“HEA”)[0264] “IRG.184”：1-羟基环己基苯基酮(BASF公司制，商品名称“IRGACURE184”)[0265] “IRG.819”：双(2,4,6-三甲基苯甲酰)-苯基氧化膦(BASF公司制，商品名称“IRGACURE819”)

[0266] “TDP－2”：(日光化学株式会社制，商品名称“TDP－2”)

[0267] ＜测定·评价＞

[0268] (模具的细孔的测定)

[0269] 切取一部分模具，在表面以及纵截面上蒸镀铂1分钟，使用场发射扫描电子显微镜(日本电子株式会社制，“JSM-7400F”)，在加速电压3.00kV的条件下扩大至20000倍观察，测定50个点的相邻细孔之间的间隔(从细孔的中心至相邻细孔的中心的距离)，将其平均值作为相邻细孔的平均间隔。

[0270] 此外，扩大20000倍观察模具的纵截面，测定50个点的细孔的最底部与存在于细孔间的凸部的最顶部之间的距离，将其平均值作为细孔的平均深度。

[0271] (微细凹凸结构的凸部的测定)

[0272] 在测定样品的表层以及纵截面蒸镀铂10分钟，使用场发射扫描电子显微镜(日本电子株式会社制，“JSM-7400F”)，在加速电压3.00kV的条件下扩大至20000倍观察，测定50个点的相邻凸部之间的间隔(从凸部的中心至相邻凸部的中心的距离)，将其平均值作为相邻凸部的平均间隔。

[0273] 此外，将测定样品的截面扩大至20000倍观察，测定50个点的凸部的最底部与存在于凸部间的凹部的最顶部之间的距离，将其平均值作为凸部的平均高度。

[0274] (往复磨耗试验)

[0275] 通过光学粘合剂在结构体的基材侧的表面上贴付透明的玻璃板(松浪硝子工业株式会社制，“大型载玻片，产品编号：S9112”，76mm×52mm尺寸)，将其作为样品，使用摩擦磨损试验机(装置名称：TriboGear型号：HHS2000，新东科学株式会社制)对样品实施往复磨耗试验。在2cm方形的压头上安装擦拭纸(bemcot)(旭化成纺织株式会社制，无尘室擦拭器，BEMCOT M-3II)，在负荷1000g、冲程30mm、速度30mm/s的条件下进行1000次往复磨耗试验，算出动摩擦系数。

[0276] 另外，将一次往复结束时的动摩擦系数设为μs。

[0277] (耐擦伤性)

[0278] 对于往复磨耗试验后的样品，将玻璃板的没有贴付结构体的一侧的表面涂成黑色，肉眼评价结构体表面的伤痕情况。

[0279] S：没有确认到伤痕。

[0280] A：能够确认的伤痕少于5条，磨损部位没有白晕。

[0281] B：能够确认的伤痕在5条以上，少于20条，磨损部位稍许白晕。

[0282] C：能够确认的伤痕在20条以上，磨损部位明显可见白晕。

[0283] D：表层被刮去，伤痕达到基材。

[0284] (根据磨耗进度曲线算出Δμ)

[0285] 如图4所示，根据往复磨耗试验的结果制作往复次数与摩擦系数的关系图，求出30次往复结束时的曲线的切线，将斜率的数值作为Δμs。切线是将前后10次往复(20～40次往复)中的曲线进行一次式近似而得到的直线。

[0286] 此外，通过相同的方法求出900次往复结束时的曲线的切线，将斜率的数值设为Δμf。切线是将前后100次往复(800～1000次往复)中的曲线进行一次式近似而得到的直线。

[0287] 根据以上方法得到的数值，计算Δμ(Δμf/Δμs)。

[0288] (压痕弹性模量的测定)

[0289] 通过光学粘合剂在结构体的基材侧的表面上贴付透明的玻璃板(松浪硝子工业株式会社制，“大型载玻片，产品编号：S9112”，76mm×52mm尺寸)，将其作为样品。使用微型压痕硬度试验机(装置名称：フィッシャースコープHM2000XYp，费舍尔仪器公司制)，测定样品的压痕弹性模量。压头使用维氏压头(四面金刚石锥体)，评价在恒定室温(温度23℃、湿度50％)下进行。评价过程是，在以1mN/s进行5秒压入后，以5mN/s进行10秒徐变，然后，以1mN/s经5秒除去负荷的条件下进行测定，通过解析软件(WIN-HCU，费希尔仪器公司制)算出各样品的压痕弹性模量。

[0290] “具有微细凹凸的反转结构的模具的制造”

[0291] 将纯度99.99质量％、厚度0.3mm的铝板切成30mm×90mm的大小，在高氯酸/乙醇混合溶液(体积比＝1/4)中电解研磨，将其用于铝基材。

[0292] 工序(a)：

[0293] 将0.05M草酸水溶液4.6L作为电解液，用直径8cm、高度2cm的半月形搅拌叶片以350rpm的转速搅拌的同时，将电解液的初期温度调节至15℃。将铝基材浸渍于电解液中，在外加电压80V的条件下阳极氧化5分钟，形成氧化膜。

[0294] 工序(b)：

[0295] 将形成有氧化膜的铝基材浸渍于混合有6质量％的磷酸与1.8质量％的铬酸的70℃的水溶液中3小时，溶解除去氧化膜，使作为阳极氧化的细孔产生点的凹痕露出。

[0296] 工序(c)：

[0297] 将细孔产生点露出的铝基材浸渍于调节至15℃的0.05M的草酸水溶液中，在80V的条件下阳极氧化6秒，在铝基材的表面再次形成氧化膜。

[0298] 工序(d)：

[0299] 将形成有氧化膜的铝基材浸渍于调节至32℃的5质量％磷酸水溶液中19分钟，实施扩大氧化膜的细孔的孔径扩大处理。

[0300] 工序(e)：

[0301] 进一步反复交替实施4次上述工序(c)和上述工序(e)，最后进行工序(d)。即，合计进行5次工序(c)，合计进行5次工序(d)。

[0302] 然后，用去离子水洗涤后，用吹气的方式除去表面的水分，得到形成有具有平均间隔180nm、平均深度约160nm的大致圆锥形状的细孔的氧化膜的模具。

[0303] 将像这样得到的模具浸渍于稀释至TDP－8(日光化学公司制)0.1质量％的水溶液中10分钟，通过一夜风干得到经脱模处理的模具。

[0304] “实施例1”

[0305] 将树脂组合物A数滴滴落至模具的表面。使用厚度80μm的三乙酰纤维素膜(富士膜株式会社制，“TD80ULM”，以下，也称为“TAC膜”。)作为基材，将模具上的树脂组合物A挤压展开于基材上，用基材覆盖树脂组合物A。然后，使用高压汞灯从基材侧以1000mJ/cm2的能量照射紫外线，使树脂组合物A固化。将树脂组合物A的固化物连同基材一起与模具脱离，在基材上得到表面具有相邻凸部之间的平均间隔为180nm，凸部的平均高度为150nm(高宽比：0.83)的微细凹凸结构的结构体。

[0306] 对于得到的结构体，实施往复磨耗试验以及压痕弹性模量测定。评价结果如表2所示。

[0307] “实施例2～8、比较例1～5”

[0308] 除将树脂组合物A变更为表1记载的树脂组合物以外，通过与实施例1相同的操作制造结构体，进行各种测定以及评价。结果如表2所示。

[0309] [表2]

[0310]

[0311] 根据表2的结果明确可知，实施例1、6的结构体，其表层的压痕弹性模量得到适当的控制，且往复磨耗试验结束时仍是维持于初期磨耗阶段的状态，因此，尤其显示出其优异的耐擦伤性。

[0312] 实施例2、7的结构体，其表层的压痕弹性模量得到适当的控制，且往复磨耗试验中，较长地维持于初期磨耗的状态，因此，显示了优异的耐擦伤性。

[0313] 实施例3～5、8的结构体，其表层的压痕弹性模量得到适当的控制，且往复磨耗试验结束时是略微进行稳态磨耗的程度的状态，显示了良好的耐磨擦性。

[0314] 另一方面，比较例1的结构体，其表层的压痕弹性模量高于1300MPa，因此，对于负荷，纳米级的突起(微细凹凸结构的凸部)易折损，此外，往复磨耗试验结束时，进行稳态磨耗，因此肉眼评价往复磨耗试验后的结构体表面的结果为C。

[0315] 比较例2的结构体，其表层的压痕弹性模量高于1300MPa，因此，对于负荷，纳米级的突起易折损，此外，往复磨耗试验中初期磨耗阶段短，耐擦伤性不充分，肉眼评价往复磨耗试验后的结构体表面的结果为D。

[0316] 比较例3的结构体，其在往复磨耗试验中初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率(Δμs)较高，此外，伴随初期磨耗的进行摩擦系数大幅上升，在500次往复前后超出了装置的性能界限，无法测定。肉眼评价变为无法测定时的结构体表面的结果为D。

[0317] 比较例4、5的结构体，其表层的压痕弹性模量得到适当的控制，但在往复磨耗试验中初期磨耗的状态短，耐擦伤性不充分，肉眼评价往复磨耗试验后的样品表面的结果为C。

[0318] 根据这些结果表明，本发明通过控制表层的压痕弹性模量，使对于具有上述微细凹凸结构的表面实施往复磨耗试验时的动摩擦系数的上升在适当的范围内，不仅不会损害防反射性能等光学性能，而且能够得到耐擦伤性优异的结构体。

[0319] 产业上的利用可能性

[0320] 本发明的层叠结构体作为光学性能以及机械特性优异的光学物品，特别是作为防反射膜等的防反射物品是有用的。