1.一种用于制造牙科修复物的预烧结多层氧化物陶瓷坯，其包括在化学组分方面不同的至少两个不同层并且具有小于0.4的变形系数
对于不同层的每一个基于HV2.5的至少一个测量结果计算所述系数，
其中：
HV2.5是根据ISO 14705:2008在2.5kgf(24.517N)的负荷下测量的维氏硬度；
HVmax是HV2.5的测量值的最大值；
HVmin是HV2.5的测量值的最小值；并且
是HV2.5的测量值的算术平均值。
2.根据权利要求1所述的坯，其适合于制造多单元牙科修复物。
3.根据权利要求1或2所述的坯，其中所述至少两个不同层具有不同颜色。
4.根据权利要求1所述的坯，其中所述氧化物陶瓷基于氧化锆。
5.根据权利要求1所述的坯，其中在测量点和附加测量点处的HV2.5的测量结果的基础上计算所述变形系数，所述测量点沿着截断不同层的第一线以恒定距离分布在所述坯的外表面上，所述附加测量点沿着平行于第一线的第二线以恒定距离分布在通过切割所述坯变得可接近的所述坯的中心的表面上。
6.根据权利要求5所述的坯，其中沿着所述第一和第二线的所述测量点之间的恒定距离不大于5mm。
7.根据权利要求1所述的坯，所述变形系数小于0.35。
8.根据权利要求1所述的坯，所述变形系数小于0.3。
9.根据权利要求1所述的坯，所述变形系数小于0.25。
10.根据权利要求1所述的坯，所述变形系数小于0.2。
11.根据权利要求1所述的坯，所述变形系数小于0.1。
12.根据权利要求1所述的坯，其适合于制造跨越两个或更多个单元的牙科修复物。
13.根据权利要求1所述的坯，其适合于制造跨越两个或更多个单元的牙桥。
14.根据权利要求1所述的坯，其中所述氧化物陶瓷基于稳定四方氧化锆多晶体。
15.一种用于制造牙科修复物的多层氧化物陶瓷生坯体，其包括在化学组分方面不同的至少两个不同层并且具有小于0.4的变形系数
在850到1350℃的范围内的温度下的烧结步骤之后，对于不同层的每一个基于HV2.5的至少一个测量结果计算所述系数，
其中：
HV2.5是根据ISO 14705:2008在2.5kgf(24.517N)的负荷下测量的维氏硬度；
HVmax是HV2.5的测量值的最大值；
HVmin是HV2.5的测量值的最小值；并且
是HV2.5的测量值的算术平均值。
16.根据权利要求15所述的坯，所述变形系数小于0.35。
17.根据权利要求15所述的坯，所述变形系数小于0.3。
18.根据权利要求15所述的坯，所述变形系数小于0.25。
19.根据权利要求15所述的坯，所述变形系数小于0.2。
20.根据权利要求15所述的坯，所述变形系数小于0.1。
21.根据权利要求15所述的坯，所述温度在900到1200℃的范围内。
22.根据权利要求15所述的坯，所述温度在950到1150℃的范围内。
23.根据权利要求15所述的坯，所述温度在1000到1100℃的范围内。
24.根据权利要求15所述的坯，所述温度在1100℃。
25.一种用于制造牙科修复物的过程，所述过程包括将根据权利要求1至14中任一项所述的坯或根据权利要求15至24中任一项所述的生坯体成形到期望几何形状以获得成形陶瓷产品。
26.根据权利要求25所述的过程，其中通过机械加工并且使用CAD/CAM过程执行所述成形。
27.根据权利要求25所述的过程，其中所述成形陶瓷产品具有牙科框架、基台或整体全轮廓牙科修复物的形状。
28.根据权利要求25所述的过程，其还包括致密地烧结所述成形陶瓷产品。
29.根据权利要求25所述的过程，其中所述成形陶瓷产品具有多单元牙科修复物的形状。