1.薄膜，所述薄膜具有小于500μm的厚度，包含聚合物和多个分散于其中的表面改性的六方氮化硼颗粒，所述表面改性的氮化硼颗粒包括具有表面和与所述表面键合的取代的苯基的六方氮化硼颗粒，所述取代的苯基由以下结构表示：
2 2
其中X为基团，所述基团选自NH2--、HO--、ROC(O)--、RC(O)O--、HSO3--、NH2CO--、卤
1 2
素、烷基和取代或未取代的芳基；其中R 为烷基或烷氧基，并且R 为氢、烷基或取代或未取代的芳基。
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2.权利要求1的薄膜，其中R 为氢，并且X为NH2--。
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3.权利要求1的薄膜，其中R 为氢，并且X为HO--。
4.权利要求1的薄膜，其中所述聚合物为聚酰胺酸。
5.权利要求1的薄膜，其中所述聚合物为聚酰亚胺。
6.权利要求1的薄膜，其中所述聚合物为固化的环氧树脂组合物。
7.权利要求1的薄膜，其中所述聚合物为未固化的环氧树脂组合物。
8.权利要求1的薄膜，其中所述SMhBN颗粒具有在0.5至50μm范围内的尺寸。
9.权利要求8的薄膜，其中所述SMhBN的浓度为30至70重量％。
10.方法，所述方法包括将多个表面改性的六方氮化硼颗粒在溶剂中聚合物的溶液中的分散体浇铸在剥离表面上，使如此浇铸的所述分散体形成粘稠的液体膜，并且将所述溶剂移除以形成厚度小于500μm的薄膜；其中所述表面改性的六方氮化硼颗粒包括具有表面和与其键合的取代的苯基的六方氮化硼颗粒，所述取代的苯基由以下结构表示：
2 2
其中X为基团，所述基团选自NH2--、HO--、ROC(O)--、RC(O)O--、HSO3--、NH2CO--、卤
1 2
素、烷基和取代或未取代的芳基；其中R 为烷基或烷氧基，并且R 为氢、烷基或取代或未取代的芳基。
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11.权利要求10的方法，其中R 为氢，并且X为NH2--。
1
12.权利要求10的方法，其中R 为氢，并且X为HO--。
13.权利要求1的方法，其中所述聚合物为聚酰胺酸。
14.权利要求1的方法，其中所述聚合物为未固化的环氧树脂组合物。
15.权利要求10的方法，其中所述SMhBN颗粒具有在0.5至50μm范围内的尺寸。