1.一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分(A)和(B)以6∶4到9∶1的重量比混合。
2.权利要求1的氟基表面处理剂，其中组分(A)的重均分子量与组分(B)的重均分子量之间的比为1∶1.5-1∶5。
3.权利要求1或2的氟基表面处理剂，其中改性组分(A)的硅烷的含氟氧化烯基团聚合物的残基具有3-151个通式(1)表示的重复单元：
-CgF2gO- (1)
其中g是1-6的整数，其对于每个重复单元是独立的，和组分(B)的含氟氧化烯基团的聚合物具有5-755个式(1)的重复单元。
4.权利要求1的氟基表面处理剂，其中组分(A)的硅烷是由通式(2)表示的硅烷：
其中Rf是单价的氟氧烷基或者二价氟氧化烯基，Q是将Rf基团和X基团连接在一起的二价有机基团，X是具有与可水解基团结合的硅烷和多个可水解基团的单价有机基团，和a是1或2。
5.权利要求4的氟基表面处理剂，其中在式(2)中，当a是1时，Rf是选自下列通式(3)、(4)和(5)中的一种：
其中Y独立为F或者CF3基团，m是3-150的整数，和d’是1-3的整数，
C3F7O(CF2CF2CF2O)mCd′F2d′-
(4)
其中m是3-150的整数和d’是1-3的整数，和
其中Y独立为F或者CF3基团，z是H或F，p和q各自为0-150的整数，p+q是3-150，d是1-3的整数，和该重复单元可以随机连接在一起。
6.权利要求4的氟基表面处理剂，其中在式(2)中，当a是2时，Rf是选自以下通式(6)、(7)和(8)中的一种：
其中Y独立为F或者CF3基团，d’独立为1-3的整数，e是2-6的整数，r和t各自为
0-150的整数，s是0-6的整数，并且r+t+s是3-150，和该重复单元可以随机结合在一起，-CdF2dO(CF2CF2CF2O)m′CdF2d- (7)
其中m’是3-150的整数和d是1-3的整数，和
Y独立为F或者CF3基团，d独立为1-3的整数，p’和q’各自为0-150的整数，p’+q’是3-150，和该重复单元可以随机连接在一起。
7.权利要求4的氟基表面处理剂，其中Q为未取代或者取代的具有2-12个碳原子的二价烃基，其可以包含至少一种选自酰胺键、醚键、酯键、乙烯键和二有机亚甲硅基团的结构。
8.权利要求7的氟基表面处理剂，其中Q是选自具有下式的二价基团的一种：
-CH2OCH2CH2-
-CH2OCH2CH2CH2-
-CF2OCH2CH2CH2-
其中，b是2-4的整数和M是甲基。
9.权利要求4的氟基表面处理剂，其中X为可水解的甲硅烷基，或线性、支化或者环状硅氧烷基或者甲硅烷基，其具有可水解甲硅烷基或可水解甲硅烷基亚烷基。
10.权利要求9的氟基表面处理剂，其中X是由下式中任意一种表示的具有结合烷氧基的甲硅烷基的基团：
-Si(OR)3
其中c是2-6的整数，和OR是具有1-10个碳原子的烷氧基、具有2-10个碳原子的烷氧烷氧基、具有2-10个碳原子的烯氧基，或具有1-10个碳原子的酰氧基。
11.权利要求1的氟基表面处理剂，其中组分(B)的含氟氧化烯基的聚合物是选自具有下式(9)-(12)的聚合物的一种：
其中x、y和z是满足含氟氧化烯基团的聚合物的重均分子量为1,500-20,000的数值。
12.权利要求1的氟基表面处理剂，其还包含氟改性的醚溶剂或者氟改性的芳族烃溶剂。
13.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的制品。
14.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的光学制品。
15.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的触摸板。
16.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的抗反射膜。
17.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的SiO2-处理的玻璃。
18.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的回火玻璃。