一种光辐射阻隔薄膜 |
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| 申请号 | CN201510558315.2 | 申请日 | 2015-09-06 | 公开(公告)号 | CN105172261A | 公开(公告)日 | 2015-12-23 |
| 申请人 | 汕头万顺包装材料股份有限公司; | 发明人 | 杜成城; 尹瑞堂; | ||||
| 摘要 | 一种光 辐射 阻隔 薄膜 。本 发明 为了解决现有同类光辐射阻隔薄膜存在复 合金 属层的二个不同材质金属层结合能 力 较差，容易脱层，不耐用，当被弯曲或受 热膨胀 时容易发生层间损坏的 缺陷 。技术方案要点：由透明基膜以及附着于其上的反射层构成，特征是所述反射层由反射材料的底层区域、防护材料的顶层区域以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的 中间层 区域组成，所述底层区域采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域、中间层区域和顶层区域均是在同一个 真空 溅 镀 室内依次连续成型，所述反射层的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域的厚度控制在0.5-15nm。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种光辐射阻隔薄膜，由透明基膜以及附着于其上的反射层，其特征是：所述反射层由反射材料的底层区域、防护材料的顶层区域以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域组成，所述底层区域采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域、中间层区域和顶层区域均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，所述反射层的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域的厚度控制在0.5-15nm。 |
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| 说明书全文 | 一种光辐射阻隔薄膜技术领域背景技术[0002] 随着人们日益追求居室内空间、汽车内空间之类有玻璃环境的舒适性和节能，在透光玻璃上复合阻挡红外光的光辐射阻隔薄膜已成为一种潮流。目前的光辐射阻隔薄膜的基本结构，一般是由透明基膜上依次附着有第一吸收层、反射层、第二吸收层、保护层构成。在此基础上，反射层和吸收层可以交替叠加多个，还可以附加其他功能层。其中吸收层是起到提高可见光的透射率，反射层是起到提高远红光的反射率。目前这个领域的技术改进措施正在迅猛发展。 [0003] 中国专利申请第201410629081.1号公开了一种窗膜核心功能层，其结构由基膜上依次附着有第一透明氧化物层（吸收层）、第一复合金属层（反射层）、第二透明氧化物层（吸收层）、第二复合金属层（反射层）、第三透明氧化物层（吸收层）、外侧封层（保护层）构成，所述复合金属层均由Ag层和其顶面的封层金属层构成，Ag层厚度为10-15nm，封层金属层材质为Ti或NiCr合金、厚度为3-5nm。其特点是通过在Ag层顶面覆盖化学特性更稳定、抗氧化能力强的封层金属层，可以防止Ag层氧化而丧失反射红外光的功能。这一方案的缺点是：复合金属层由二个不同材质的金属层进行复合，其结合能力较差，容易产生脱层，造成产品不耐用，当窗膜被弯曲或受热膨胀时也容易发生层间复合部位损坏。 发明内容[0004] 为了克服现有同类光辐射阻隔薄膜存在的复合金属层的二个不同材质的金属层结合能力较差，容易产生脱层，产品不耐用，当窗膜被弯曲或受热膨胀时容易发生层间复合部位损坏的缺陷，本发明的目的是提供一种改进的光辐射阻隔薄膜，可以克服现有技术的缺陷。 [0005] 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种光辐射阻隔薄膜，由透明基膜以及附着于其上的反射层构成，其特征是：所述反射层由反射材料的底层区域、防护材料的顶层区域以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域组成，所述底层区域采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域、中间层区域和顶层区域均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，所述反射层的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域的厚度控制在0.5-15nm。 [0006] 上述技术方案所述底层区域、中间层区域和顶层区域的成型，可以是在一台真空溅镀设备内，采用一室双靶结构，将反射材料作为第一靶阴极、防护材料作为第二靶阴极，通过控制双靶的间距、双靶间的隔板长度、透明基膜的运行速度以及靶阴极的电流形态、功率、频率等参数，达到透明基膜经过同一个真空溅镀室内时，依次连续成型出所述反射层的底层区域、中间层区域和顶层区域，并使得反射层的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域的厚度控制在0.5-15nm。 [0007] 上述技术方案所述透明基膜与所述反射层之间可以设有第一吸收层，所述反射层顶面可以依次设有第二吸收层和保护层。 [0008] 上述技术方案所述第二吸收层和所述保护层之间还可以依次设有另外的一个以上的反射层并间以一个以上的吸收层，另外的反射层的材质和结构可以与所述反射层相同，另外的吸收层的材质可以与所述吸收层相同。 [0009] 上述技术方案所述反射层的较佳厚度可以取10-35nm。 [0010] 上述技术方案所述反射层的中间层区域的较佳厚度可以取0.5-10nm。 [0011] 上述技术方案所述透明基膜的材料可以采用PET（聚对 苯二甲酸乙二酯）、PEN（聚萘二甲酸乙二酯）、PP（ 聚丙烯）、HDPE（高密度聚乙烯）、LDPE（低密度聚乙 烯）、PVC（聚氯乙烯）、TCA（三醋酸纤维素）、CA（醋酸纤维素）、PC（聚碳酸酯）、PVA（ 聚乙烯醇）、PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）、 COC（环烯 烃共聚物）、PI（聚酰亚胺）中的任一种。 [0012] 上述技术方案所述第一吸收层或第二吸收层的材料可以采用ZnO(氧化锌）、AZO（铝掺杂的氧化锌）、SnOx、Nb2Ox、TiOx、TiNx、TiOxNy、SiNx或SiOxNy等上述技术方案所述保护层的材料可以采用SnOx、SiO2、SiNx、SiOxNy等。 [0013] 上述技术方案所述透明基膜和所述第一吸收层之间还可以设有改善附着性能的密着层，所述密着层的材料可以采用SiOx、SiOxNy等。 [0014] 上述技术方案所述第一吸收层和所述反射层之间还可以设有用于改善吸收层的透射特性的改善层，所述改善层的材料可以采用ZnO(氧化锌）、AZO（铝掺杂的氧化锌）或ITO（氧化铟锡）等。 [0015] 本发明的有益效果：由于反射层由反射材料的底层区域、防护材料的顶层区域以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域组成，所述底层区域采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域、中间层区域和顶层区域均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型的，所述反射层的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域的厚度控制在0.5-15nm，这样可以使得不同金属材料的反射材料的底层区域和防护材料的顶层区域之间均具有了良好的亲和力，同时也调和了二个不同金属成份层间域受热收缩的差异，可以使到所述反射材料的底层区域和防护材料的顶层区域之间不会产生脱层，当窗膜被弯曲或受热膨胀时也不会发生层间复合部位损坏，从而有效提高了产品耐用程度和环境适应性。 附图说明[0017] 图1是本发明一种实施例的局部剖面示意图。 [0018] 图2是本发明另一种实施例的局部剖面示意图。 [0019] 图3是本发明又一种实施例的局部剖面示意图。 [0020] 图4是本发明再一种实施例的局部剖面示意图。 [0021] 图中：1、透明基膜；2、反射层；2.1、反射材料的底层区域；2.2、防护材料的顶层区域；2.3、中间层区域；3、透明基膜；4、第一吸收层；5、反射层；5.1、反射材料的底层区域；5.2、防护材料的顶层区域；5.3、中间层区域；6、第二吸收层；7、保护层；8、透明基膜；9、第一吸收层；10、第一反射层；10.1、第一反射材料的底层区域；10.2、第一防护材料的顶层区域；10.3、第一中间层区域；11、第二吸收层；12、第二反射层；12.1、第二反射材料的底层区域；12.2、第二防护材料的顶层区域；12.3、第二中间层区域；13、第三吸收层；14、保护层； 15、透明基膜；16、第一吸收层；17、反射层；17.1、反射材料的底层区域；17.2、防护材料的顶层区域；17.3、中间层区域；18、第二吸收层；19、保护层；20、密着层；21、改善层。 具体实施方式[0022] 参照图1，本光辐射阻隔薄膜，由透明基膜1以及附着于其上的反射层2构成，其特征是：所述反射层2由反射材料的底层区域2.1、防护材料的顶层区域2.2以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域2.3组成，所述底层区域2.1采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域2.2采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域2.1、中间层区域2.3和顶层区域2.2均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，所述反射层2的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域2.3的厚度控制在0.5-15nm。 [0023] 参照图2，本光辐射阻隔薄膜，由透明基膜3以及依次附着于其上的第一吸收层4、反射层5、第二吸收层6、保护层7构成，其特征是：所述反射层5由反射材料的底层区域 5.1、防护材料的顶层区域5.2以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域5.3组成，所述底层区域5.1采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域5.2采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域5.1、中间层区域5.3和顶层区域5.2均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，反射层5的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域5.3的厚度控制在0.5-15nm。 [0024] 参照图3，本光辐射阻隔薄膜，由透明基膜8以及依次附着于其上的第一吸收层9、第一反射层10、第二吸收层11、第二反射层12、第三吸收层13、保护层14构成，其特征是：所述第一反射层10由反射材料的第一底层区域10.1、防护材料的第一顶层区域10.2和所述反射材料和所述防护材料混合在一起的第一中间层区域10.3组成，第二反射层12由反射材料的第二底层区域12.1、防护材料的第二顶层区域12.2和所述反射材料和所述防护材料混合在一起的第二中间层区域12.3组成，所述第一底层区域10.1和第二底层区域 12.1均采用Ag层、Ag合金层、Au层、Au合金层或Ti合金层的反射材料，所述第一顶层区域 10.2和第二顶层区域12.2均采用NiCr层或Ti层的防护材料，所述第一底层区域10.1、第一中间层区域10.3和第一顶层区域10.2是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，所述第一反射层10的总厚度控制在5-50nm、所述第一中间层区域10.3的厚度控制在0.5-15nm，所述第二底层区域12.1、第二中间层区域12.3和第二顶层区域12.2是在另一个真空溅镀室内依次连续成型的，所述第二反射层12的总厚度控制在5-50nm、所述第二中间层区域 12.3的厚度控制在0.5-15nm。 [0025] 参照图4，本光辐射阻隔薄膜，由透明基膜15以及依次附着于其上的第一吸收层16、反射层17、第二吸收层18、保护层19构成，其特征是：所述反射层17由反射材料的底层区域17.1、防护材料的顶层区域17.2以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域17.3组成，所述底层区域17.1采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域17.2采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域17.1、中间层区域17.3和顶层区域17.2均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，反射层17的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域17.3的厚度控制在0.5-15nm，所述透明基膜15和所述第一吸收层14之间还设有改善附着性能的密着层20，所述密着层20的材料采用SiNx或SiOxNy，所述第一吸收层 16和所述反射层17之间还设有用于改善吸收层的透射特性的改善层21，所述改善层21的材料采用ZnO、AZO或ITO。 |
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