特别是用于在生产材料板过程中胶合颗粒的装置的、具有双倍清洁装置的下降料道结构 |
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| 申请号 | CN201380060981.2 | 申请日 | 2013-11-22 | 公开(公告)号 | CN104812542A | 公开(公告)日 | 2015-07-29 |
| 申请人 | 迪芬巴赫机械工程有限公司; | 发明人 | D·克罗尔; G·冯哈斯; R·施威; J·斯科里贝; M·格哈特; | ||||
| 摘要 | 本 发明 涉及一种下降料道结构(20)，该下降料道结构特别是用于胶合颗粒(1)的装置，所述颗粒至少部分地由适于生产材料板的 纤维 和/或碎屑构成，其中，该下降料道结构(20)具有下降料道(21)，下降料道具有用于馈送颗粒(1)的入口和用于输出颗粒(1)的出口，并具有用于清洁下降料道(21)的至少一个内壁(21)的至少一个第一清洁装置。本发明的目的在于提供一种可有效地防止固体粘性材料形成于下降料道内的下降料道结构。本发明此外意在用于非常不同类型的下降料道并且可 修改 为集成到现有设备中。本发明的关键在于下降料道结构(20)还具有用于清洁至少一个第一清洁装置的至少一个第二清洁装置。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种下降料道结构(10；20；30；40；50；60)，所述下降料道结构特别是用于胶合颗粒(1)的装置，所述颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成，其中，所述下降料道结构(10；20；30；40；50；60)具有下降料道(21；31；41；51；61)，所述下降料道具有用于馈送颗粒(1)的入口和用于输出颗粒(1)的出口，并具有用于清洁所述下降料道(21；31；41；51；61)的至少一个内壁(21a…21d)的至少一个第一清洁装置，其特征在于，所述下降料道结构(10；20；30；40；50；60)还具有用于清洁所述至少一个第一清洁装置的至少一个第二清洁装置。 |
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| 说明书全文 | 特别是用于在生产材料板过程中胶合颗粒的装置的、具有双倍清洁装置的下降料道结构 [0002] 由例如碎屑或中密度纤维或其它可流动的材料生产材料板至今是自动化过程，并且多年来在许多国家已得到应用。如已知地，对经预加工的碎屑或纤维的压制要么以循环方式进行，要么连续地进行。在此，除了位于压力机之前和之后的许多设备部件外，借助散布机来生产散布料垫起到了突出的作用，然而，除了原材料的质量外，生产出的散布料垫的质量也是重要因素。对用天然原材料和人造粘结剂来制造价格便宜的材料板的迫切希望迫使生产者去开发更加高效的制造方法。在此，特别的重点是特别少的停工时间和较少的磨损。 [0003] 本发明涉及借助粘结剂来胶合颗粒的领域。基本上将粘结剂理解为所谓的胶粘漂浮液，其主要成分由胶粘材料组成。另外根据需要还添加了乳化剂、硬化剂、甲醛吸附剂、染料、除虫剂、防霉剂以及其它添加剂等。通常也可使用没有添加剂的胶粘材料。 [0004] 作为粘结剂，不求完全，以下材料当属考虑之列：异氰酸酯、MDI、三聚氰胺尿素甲醛(MUF)、尿素甲醛(UF)、MUPF或PF。 [0005] 胶合通常以如下方式进行，即，散布料或颗粒借助定量装置送入下降料道，并且借助设置在下降料道内或设置在下降料道之前的喷嘴来加载有粘结剂。胶合好的散布料多半在位于下降料道之后的滚筒内借助旋转的运送工具(机械混合器)进行处理和/或进一步胶合，随后散布成散布料，并且随后在时间上在胶合剂硬化之前进行压制。或者，该散布料在不通过机械混合器的情况下直接送入散布装置内，以对散布料垫进行散布，并且随后进行压制。 [0006] 例如由DE 10 2010 064 339 A1已知这样一种装置。在此，产生如下问题：粘结剂以及用粘结剂胶合的颗粒可沉积在下降料道的内壁上，因而，下降料道易于变脏。这使得有必要定期清洁下降料道。为此，设备必须停转，这会随之造成相应的生产停工。 [0007] 此外，随着时间流逝，在下降料道的内壁处可能会形成具有不可忽略尺寸的牢固的沉积物。使这种沉积物分解并且下落到混合器中不能确保这种牢固的沉积物团块在混合器内被碾碎并分散开。因此，在由离开混合器的胶合颗粒构成的膏状物内还有其它牢固的团块，这些团块在生产材料板的后续过程中会影响产品质量和/或损坏压力机。 [0008] 为了防止或减少弄脏下降料道的内壁以及在内壁上形成牢固的沉积物，在文献WO2011/134844 A1中建议借助刮铲或抹刀来擦过下降料道的内壁。用支撑构造稳固地固定抹刀，该支撑构造由上环和下环构成。上环与带有内啮合齿的齿圈相连接，该齿圈经由小齿轮和马达来驱动。通过以此方式驱动，刮铲在绕垂直轴线转动时擦过旋转对称的下降料道的内壁。 [0009] 尽管以此方式避免了在下降料道的内壁上形成较大的沉积物，但却是以伴随着刮铲将新的元件和表面引入下降料道为代价的，这些新的元件和表面又会被弄脏并且在它们上面会形成牢固的沉积物。因此，特别在大型的设备中，附着物会形成于刮铲上，这些附着物可以重达50公斤并且以团块形式下落，这会造成损坏混合器和/或后续的机器。 [0010] 因此，在文献WO 2011/134844 A1中建议将刮铲冷却到低于空气湿度的冷凝点的温度，以使在表面上形成冷凝物膜，该冷凝物膜可降低喷入的化学成分、特别是热粘结的胶粘材料的粘性。 [0011] 根据特定应用的要求、特别是根据使用哪些粘结剂和/或哪些添加剂，不期望在下降料道内冷凝成湿气。在此情况下，并不能有效使用由文献WO 2011/134844 A1所建议的刮铲冷却。 [0012] 在其它情况下，根据所使用的粘结剂和/或所使用的添加剂，冷凝物膜不起作用或者作用甚小，因而，仅仅稍微减少附着，或者当一定的粘结剂或添加剂在湿气和/或在降低温度的情况下更易于附着和/或结团块时甚至还会增加附着。在这些情况下可能也不能使用由文献WO 2011/134844 A1所建议的刮铲冷却。 [0013] 此外，为了实现由文献WO 2011/134844 A1所建议的刮铲冷却，有必要设有用于冷却流体的相应输入管路和输出管路，这些管路具有足够的运送能力。为了向转动的下降料道的壁和/或转动的刮铲供给冷却流体，此外有必要设有对应的引导流体的联接装置，这些联接装置使冷却流体能从设备的静止部分传递到转动的下降料道壁和/或转动的刮铲。为此必需的机械构造可产生较高的花费，并且可能难以实现持续的高效密封。 [0014] 因此，本发明的任务是提出一种下降料道结构，该下降料道结构可有效地避免在下降料道内形成牢固的附着物。 [0015] 因此，本发明的任务是提出下降料道结构，该下降料道结构可用于不同形式的下降料道。 [0016] 此外，本发明的任务是提出一种下降料道结构，该下降料道结构可以容易地集成到已建立的设备中。 [0018] 作为解决方案提出一种下降料道结构，该下降料道结构特别是用于胶合颗粒的装置，这些颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成，其中下降料道结构具有下降料道，该下降料道具有用于馈送颗粒的入口和用于输出颗粒的出口，并具有用于清洁下降料道的至少一个内壁的至少一个第一清洁装置和用于清洁该至少一个第一清洁装置的至少一个第二清洁装置。 [0019] 第一清洁装置允许保持下降料道的内壁干净，而第二清洁装置允许保持第一清洁装置干净。由此，可以有效确保在下降料道内不会形成牢固的沉积物。 [0020] 在较佳的设计中，第一清洁装置可构造成至少一个可移动的支承元件，该支承元件相对于、尤其是平行于下降料道的所属的第一内壁可移动地设置，其中至少一个第一擦拭元件设置或构造在可移动的支承元件上，以使得在可移动的支承元件移动时擦拭对应的内壁。 [0021] 以此方式，可以通过相对较少的构造花费来实现有效和可靠的第一清洁装置。 [0022] 可移动的支承元件可设置成穿过构造在两个相邻的内壁之间或内壁的两个端部之间的间隙。 [0023] 在此还可规定，支承元件同时是下降料道的部分壁或者下降料道的内壁。 [0024] 可移动的支承元件可构造成壁，该壁的高度等于对应的内壁的待擦拭高度。 [0025] 较佳地，可移动的支承元件可构造成是弹性的。 [0026] 第二清洁装置可特别具有第二擦拭元件。 [0027] 特别是，第二擦拭元件可设置在壁或支承元件处。 [0028] 以此方式，可以通过相对较少的构造花费来实现有效和可靠的第二清洁装置。 [0029] 特别是可以将可移动的支承元件构造成下降料道的构成下降料道的内壁的壁元件。 [0030] 下降料道可具有多个壁元件，这些壁元件构造成拱形，其中，各个壁元件与另一壁元件在其外侧部分地交叠。 [0031] 在另一较佳的设计中，第一清洁装置可具有至少一个第一刮刀，该刮刀分配给至少一个内壁，且第二清洁装置可具有至少一个第二刮刀以及用于使该第二刮刀从静止位置沿与刮刀大致平行的轴线运动的驱动装置，以擦拭第一刮刀。 [0032] 在又一较佳的设计中，第一清洁装置可具有至少一个第一刮刀以及用于使该第一刮刀从静止位置沿与至少一个内壁大致平行的轴线运动的驱动装置，以擦拭该第一内壁，而第二清洁装置可具有至少一个第二刮刀以及用于使该第二刮刀从静止位置运动经过定位在该静止位置中的第一刮刀的驱动装置，以擦拭第一刮刀。 [0033] 在再一较佳设计中，第一清洁装置可具有至少一个柔性的擦拭元件、特别是环形的擦拭元件，用以清洁至少一个内壁。 [0034] 应用柔性的擦拭元件的有益效果是擦拭元件容易适应下降料道的不同形式。 [0035] 此外，下降料道还可特别是具有第一引导装置和第二引导装置，其中第一引导装置和第二引导装置被设置成保持和引导至少一个擦拭元件，以使得允许在擦拭元件和下降料道的至少一个内壁之间沿切向方向相对于该至少一个内壁作相对运动，其中还设有驱动装置，该驱动装置被设置成作用于下降料道、第一引导装置、第二引导装置和/或至少一个擦拭元件，以产生相对运动。 [0036] 第一和/或第二引导装置较佳地具有：多个引导机构、特别是引导滚轮或者引导齿轮，以及环形引导元件、特别是环形引导绳索、环形引导带，环形引导线材或者环形引导链条，该引导元件围绕引导机构，其中至少一个柔性的擦拭元件直接地或通过保持装置和/或转向装置固定到环形引导元件处。 [0037] 特别是，应用绳索或线材的优点在于，未经处理地具有特别适于清洁的粗糙表面。 [0038] 此外，绳索和线材具有相对较小的表面，这有效地抵抗形成较大的附着物。由于绳索的高度柔性，因而绳索此外还具有相对较高的自清洁特性，并且容易清洁。 [0039] 环形擦拭元件可借助转向装置设置成包围下降料道的具有至少一个内壁的壁元件。 [0040] 环形擦拭元件还可设置成在下降料道内的内壁区域内延伸。 [0041] 当环形擦拭元件设置成在下降料道内延伸时，环形擦拭元件的两段与内壁相邻地设置，以使得通过环形擦拭元件产生双倍的擦拭效果。 [0042] 较佳地可设有驱动装置，该驱动装置被设置成使至少一个柔性的擦拭元件沿擦拭元件的纵向延伸方向进行往复运动。 [0043] 通过擦拭元件的往复运动、特别是振荡运动，可以改善将擦拭元件作用于内壁或者附着到内壁上的沉积物的擦拭效果。 [0044] 较佳地，此外设有两个卷绕装置，其中，柔性的擦拭元件与卷绕装置相连，以能够由卷绕装置卷起和退绕。 [0045] 还可设有另一驱动装置，该另一驱动装置设置成使环形擦拭元件作循环运动。 [0046] 通过擦拭元件的特别是连续、间歇和/或可与往复运动组合的循环运动，改善了将擦拭元件作用于内壁或者附着到内壁上的沉积物的擦拭效果。 [0047] 至少一个环形擦拭元件可沿大致水平方向与下降料道的至少一个内壁相邻地延伸。 [0048] 至少一个环形擦拭元件还可沿大致垂直方向与下降料道的至少一个内壁相邻地延伸和/或以下降料道的形式沿垂直方向相应地延伸。 [0049] 还可设有另外的张紧装置，这些张紧装置设置成作用于第一引导装置和/或第二引导装置和/或至少一个擦拭元件，从而保持至少一个擦拭元件处于应力下。 [0050] 擦拭元件可被引导经过第二清洁装置，或者穿过第二清洁装置。 [0051] 第二清洁装置也可实施成流体浴、毛刷、擦拭条或者擦拭缸。 [0052] 较佳地，第二清洁装置也可构造成设置在或者可引入至少一个擦拭元件的移动路径内的障碍物。 [0053] 可引入的障碍物可以特别是设置在下降料道的具有至少一个内壁的壁内，其中，可引入的障碍物可在第一位置和第二位置之间调节，在第一位置中，障碍物沿下降料道内部的方向从内壁突出，在第二位置中，该障碍物沿下降料道内部的方向不突出超过内壁。 [0054] 第一擦拭元件和/或第二擦拭元件和/或刮刀可构造成刮铲、抹刀或者棒、特别是圆棒。 [0056] 由于棒、特别是圆棒、绳索、线材或带材具有相对较小的表面，所以在其上形成较大的牢固的附着物的可能性减小。 [0057] 较佳地，下降料道的横截面被构造成沿颗粒的下落方向从上到下逐渐缩小。 [0058] 下降料道可构造成圆柱形、圆锥形、立方体形、规则或不规则多边形或者楔形。 [0059] 下降料道在入口和出口的区域内具有不同形状的横截面。 [0060] 不同形状的横截面可从如下形状中选择：圆形、椭圆形、方形、矩形、规则或不规则多边形的形状以及由组合的弧段构成的形状。 [0061] 下降料道可构造成多部分，具有多个壁，这些壁分别形成下降料道的内壁。 [0062] 下降料道可具有大致凹形。 [0063] 下降料道的至少一个内壁、较佳为下降料道的所有内壁可在两分钟内被擦拭至少一次、特别是一分钟内被擦拭一次。 [0065] 在较佳的其它设计中，第一清洁装置具有至少一个刮刀，该刮刀设计成相对于至少一个内壁运动，而第二清洁装置具有柔性的擦拭元件，该擦拭元件在刮刀的移动路径中经至少一个内壁张紧。 [0066] 作为另一解决方案的是一种用于胶合颗粒的装置，这些颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成，其中，该装置具有下降料道结构。 [0067] 此外，该装置还可具有用于馈送颗粒的馈送装置和用于输出粘结剂的多个喷嘴，其中，这些喷嘴设置在下降料道内的区域中和/或下降料道的入口上方。 [0068] 此外，该装置具有位于下降料道结构之后的混合装置。 [0070] 图1示意地示出用于胶合颗粒的装置； [0071] 图2A以示意俯视图示出根据本发明的第一实施方式的下降料道结构； [0072] 图2B是图2A的下降料道结构的示意侧向剖视图； [0073] 图2C是图2A的下降料道结构的变型的示意侧向剖视图； [0074] 图2D是图2A的下降料道结构的又一变型的示意俯视图； [0075] 图3A示出根据本发明的第二实施方式的下降料道结构的示意俯视图； [0076] 图3B示出处于壁已被调节的状态下的图3A的下降料道结构； [0077] 图3C示出根据本发明的第二实施方式的下降料道结构的示意俯视图； [0078] 图3D是图3A的下降料道结构的示意俯视图； [0079] 图4以示意侧向剖视图示出根据发明的第三实施方式的下降料道结构； [0080] 图5以示意侧向剖视图示出根据本发明的第四实施方式的下降料道结构； [0081] 图6A以示意侧向剖视图示出根据本发明的第五实施方式的下降料道结构； [0082] 图6B是图6A的下降料道结构的示意俯视图； [0083] 图6C和6D示意地示出图6A和6B的下降料道结构的第一变型； [0084] 图6E示意地示出图6A和6B的下降料道结构的另一变型； [0085] 图6F示出第二清洁单元的示例性设计； [0086] 图6G和6H示意地示出图6A和6B的下降料道结构的又一变型；以及 [0087] 图6G和6H示意地示出图6A和6B的下降料道结构的再一变型。 [0088] 由于大量的实施例，接下来引入附图标记21×，23×，24×，31×，32×，33×，34×作为多部件的参照，用a到d来代替表示x。 [0089] 在图1中以示意图示出开头有定量装置2并且结尾有混合装置7的、用于胶合颗粒的装置的总体图。在定量装置和混合装置之间设置有下降料道3以及接下来将进一步描述的下降料道结构10。在此，通常借助出料装置将作为颗粒流1的颗粒从颗粒料仓加入到定量装置2内，在那里称重，并经由用于定量的常见的带调节装置(未示出)进入下降料道4。在下降料道内，颗粒流或颗粒1分散和/或分布到分散装置3上，并在此分散和/或分布成颗粒帘5。分散装置3可具有特别是耙和/或挡板、辐条辊(该辐条辊由至少两个盘构成，这些盘与(带有或不带有贯穿的轴的)转动轴线径向间隔开地具有与转动轴线平行设置的杆、管或类似物)和/或较佳地构造成钉状辊的分散辊。 [0091] 在此后的过程中，颗粒帘5下落通过下降料道结构10，随后到达位于下降料道结构10之后的混合装置7，在该混合装置内，混合工具8借助旋转驱动的轴9使已胶合的颗粒再次机械混匀，并最终作为经混匀的颗粒流(出料箭头)输出。 [0092] 随后，已胶合的颗粒流临时储存在定量料仓内或者直接引入用于形成散布料垫的散布装置内，该散布料垫在后续过程中在压力机中可压制成材料板和/或可硬化。 [0093] 原则上，下降料道结构10具有足够的下落高度，由此，胶合剂可足够牢固地与颗粒连结，并且应当较佳地构造成沿下落方向为下降料道4的至少一半长。 [0094] 如图所示，下降料道4和下降料道结构10可作为分开的装置来设置。或者，下降料道4也可以与下降料道结构10的下降料道构造成一个单元。 [0095] 参照图2A到6J，现描述作为下降料道结构10应用于图1的装置中的下降料道结构的不同实施方式。 [0096] 在图2a到2c中示出下降料道结构20的第一实施方式。 [0097] 图2A到2C是具有下降料道21的下降料道结构20。下降料道21具有矩形横截面，其中，四个壁或壁元件分别定义下降料道21的内壁21a,…,21d。在每两个内壁21a,…,21d或者具有相关的内壁的壁或壁元件之间分别构造有间隙，穿过这些间隙设置有至少一个支承元件23a,…,23d。 [0098] 支承元件23a,…,23d分别属于内壁21a,…,21d，并且沿与它们的表面大致平行的方向可移动地设置。在各个支承元件23a,…,23d的端部区域处设置有擦拭元件22a,…,22d。 [0099] 支承元件23a,…,23d和擦拭元件22a,…,22d是用于清洁下降料道的对应的内壁21a…21d的清洁装置，其中，通过如下方式来清洁内壁21a,…,21d：使对应的支承元件沿与相关的内壁21a,…,21d平行的方向移位，以使得擦拭元件22a,…,22d擦过内壁21a,…,21d并且以此方式来清洁内壁，以及清洁已沉积于这些内壁上的可能粘结剂或颗粒。 [0100] 擦拭元件22a,…,22d可构造成刮铲、抹刀、棒、特别是圆棒、绳索、线材、带材、链条、毛刷或者其它合适的形式。 [0101] 支承元件23a,…,23d可例如构造成纵长板，如图2b中所示，其中，例如两块板23a彼此叠置地平行延伸，并且擦拭元件22a设置在两块板23a处。 [0102] 如图2C中所示，支承元件23a,…,23d同样可以分别构造成高度上基本延伸通过各个对应的内壁21a,…,21d的待擦拭区域的壁。 [0103] 支承元件23a,…,23d的其它构造方式同样也是可以的。尽管图2A到2C示出了沿颗粒的下落方向以直线延伸的具有矩形横截面的下降料道21，但这并不是限制性的。因此，例如呈倒棱锥形式的下降料道21可被构造成沿颗粒1的下落方向从上到下逐渐缩小。 [0104] 其它的横截面，例如呈规则或不规则多边形的横截面也是可以的。内壁21a,…,21d可沿水平方向以直线延伸，或者可构造成具有朝向下降料道内部的凸起的凹形或者是具有朝向下降料道外部的凹陷的凸形；在这些情况下，支承元件同样可构造有对应的曲率，因而，它们在移动时遵循对应所属的内壁的凸起，并且以此方式确保擦拭元件21a,…,21d可通过擦过对应的内壁来清洁它们。 [0105] 支承元件23a,…,23d在移动时经过对应所属的第二清洁装置24a,…,24d，这些第二清洁装置清洁支承元件23a,…,23d。 [0106] 第二清洁装置24a,…,24d能以例如与图2a中所示不同的方式设置。第二清洁装置也清理第一清洁装置的至少一部分。 [0107] 第二清洁装置可构造成内壁的一侧或一边，或者也可以构造成擦拭元件24a,…,24d、特别是构造成刮铲、抹刀、棒、特别是圆棒、绳索、线材、带材、链条、毛刷或者其它合适的形式。 [0108] 因此，第二清洁装置(擦拭元件24b)可构造成或者作用为内壁21a的一侧或一边，支承元件23或第一清洁装置的其它部分在移位时经过该第二清洁装置，从而以此方式被擦拭和清洁(图2A，右上)。 [0109] 以类似的方式，作为第二清洁装置，在内壁21d的一侧设置有擦拭元件24a。如果支承元件23移位，则该支承元件连同其朝向下降料道21内部的表面经过擦拭元件24a，并且以此方式被擦拭和清洁(图2A，左上)。 [0110] 作为第二清洁装置，同样可以在支承元件23b的端部构造有擦拭元件24c。当支承元件23b完全沿进入下降料道21内部的方向运动时，擦拭元件24c与支承元件23c的朝向下降料道21内部的那侧接触。如果支承元件23c移位，则该支承元件擦过擦拭元件24c，并且以此方式被擦拭和清洁(图2A，右下)。 [0111] 最后，擦拭元件24d也可设置在下降料道21外部，因而，当支承元件23d移位时，它连同其朝向下降料道21内部的表面擦过擦拭元件24d，并且以此方式被擦拭和清洁(图2A，左下)。 [0112] 根据图2D在此较佳的是，支承元件23a,…,23d构造成是弹性的，以使设置在支承元件23a的端部处的擦拭元件22a通过弹性力的作用被压抵内壁21a。因此，如果支承元件23a移位，则在弯曲的内壁的情况下，擦拭元件22a可靠地沿着弯曲的内壁21a并在弯曲的内壁21a上擦拭，以擦拭和清洁内壁。 [0113] 如图2D中的实施例所示，因此，将下降料道21构造成具有大致圆形或椭圆形横截面并带有具有内壁21a的各个壁就够了。通过壁的两端之间的间隙，将支承元件23a引入下降料道21内部。壁可呈螺旋形弯曲，以使壁的两端交叠，因此，壁界限出大于360°的角度。在各端部之间构造有间隙，引导支承元件23a穿过该间隙。 [0114] 支承元件23a可构造成弹性的壁，该壁的高度基本上等于下降料道21的内壁21a的待擦拭区域的高度。 [0115] 如果应用至少两个较佳为狭窄的支承元件23a，其中在该支承元件的端部处设有较佳为刚性的擦拭元件22a、例如圆棒，则下降料道21a也可以构造成沿颗粒的下落方向从上向下逐渐缩小，特别是呈倒棱锥的形式。在此，较佳的是对于每个支承元件23a设有独立的驱动装置(未示出)，其中，将驱动装置操纵成使支承元件23a移位以使擦拭元件22a以大致保持垂直的定向沿下降料道21的内壁21a运动。类似于图2A，第二清洁装置例如分开地在下降料道21外作为擦拭元件24d设置。 [0116] 参照图3A和3B，现在描述根据第二实施方式的下降料道结构30。 [0117] 下降料道结构30具有下降料道31，该下降料道由多个壁元件构成，这些壁元件分别具有壁31a,…,31d，这些壁根据大致拱形、特别是圆弧形或椭圆弧形弯曲。 [0118] 由拱形壁元件总地包围的角度之和至少等于360°与由最长的壁元件所包围的角度之和的角度。 [0119] 如图3A中可知，壁元件部分地彼此交叠，以使具有内壁31a的壁元件向外与具有内壁31b的相邻壁元件交叠，并且向外与具有内壁31d的另一相邻壁元件交叠。 [0120] 在各个壁元件处设置有擦拭元件32a,…,32d，以使它们分别擦拭对应的相邻壁元件的在外部的内壁31a,…,31d。 [0121] 如由箭头所示，每个壁元件可被调节或运动到使该壁元件特别是绕属于该弧的中点转动。这例如在图3B中示出。以此方式，例如内壁31a和31b相对彼此移位，以使擦拭元件32b在内壁31a上擦拭并且清洁该内壁。 [0122] 对于内壁31a，因此，壁元件31b和擦拭元件32b是清洁该内壁31a的第一清洁装置。壁元件31c和擦拭元件32c又是清洁内壁32b并且由此清洁第一清洁装置的第二清洁装置。 [0123] 在图4中所示的第三实施方式中，下降料道结构40具有下降料道41，在该下降料道中，至少一个刮铲或刮刀42以已知的方式设置成擦拭内壁41a的第一清洁装置。在此，下降料道41可相对于刮刀42和/或刮刀42相对于下降料道41运动、特别是绕转动轴线转动。 [0124] 下降料道结构40此外具有呈刮铲或刮刀44形式的第二清洁装置，该刮铲或刮刀可借助电动、液压或者气动操作的进给轴(Zustellachse)作为驱动装置43从静止位置沿大致与刮刀42平行的轴线来调节，以使得擦拭并以此方式清洁刮刀42。在此可规定，在可动的刮刀42的情况下，刮刀42首先运动到清洁位置，并且在刮刀44运动离开静止位置之前停在该清洁位置。 [0125] 如图4中所示，此外可设有装料漏斗45，该装料漏斗不必是下降料道结构10的一部分。装料漏斗45与下降料道41的内壁41a一起构成间隙，刮刀42经过该间隙可引入到下降料道41的内部。此外，装料漏斗45可保护免受由胶合剂和/或已胶合的颗粒1产生的污染的影响。为了使下降料道41保持清洁，可将由空气或者不再粘性的、但已胶合的颗粒构成的罩套引入该间隙内。 [0126] 在图5中所示的第四实施方式中，下降料道结构50具有下降料道51。 [0127] 此外，下降料道结构50具有呈至少一个刮铲或刮刀52形式的第一清洁装置，该第一清洁装置借助电动、液压或者气动操作的进给轴作为驱动装置53从由虚线示出的静止位置沿大致与内壁51a平行的轴线进行调节，以使得擦拭并以此方式清洁内壁51a。 [0128] 此外，下降料道结构50具有较佳呈至少一个刮铲或刮刀54形式的第二清洁装置，该第二清洁装置借助电动、液压或者气动操作的进给轴55作为驱动装置从静止位置运动经过定位在静止位置的刮刀52，以使得擦拭并以此方式清洁刮刀52。 [0129] 代替刮铲或刮刀54，也可使用其它合适的擦拭装置来作为清洁装置。如果此外将刮刀54或其它合适的擦拭装置设置成使刮铲或刮刀52在从下降料道51驶出时经过该刮刀54，则可以取消驱动装置55。 [0130] 在第五实施方式中，下降料道结构60具有柔性擦拭元件62作为清洁装置，如图6A至6J中所示。 [0131] 如图6A和6B中所示，在该实施方式中，下降料道61可以构造成旋转对称的、特别是圆锥形，并具有限定内壁61a的壁。下降料道的壁可以为拱形弯曲，因而，下降料道61沿颗粒的下落方向从上向下逐渐缩小。 [0132] 在此实施方式中，第一清洁装置具有柔性擦拭元件62、特别是环形绳索、较佳实施成钢丝绳。 [0133] 环形绳索经由转向装置63(在此为转向轮)来引导和保持，以使该环形绳索包围下降料道61的壁，因而，绳索既在下降料道61中与内壁61a相邻地延伸，又在下降料道61外延伸。 [0134] 转向轮可分配有驱动装置(未示出)，以经由转向轮使绳索沿环形绳索的延伸方向运动。该运动可以是绳索的间歇或连续进行的运动或者绳索的振荡式往复运动，或者其组合。 [0135] 为了产生擦拭元件62与下降料道61或其内壁61a之间的相对运动，由此使绳索与内壁61a相切地运动以擦拭内壁，下降料道61可借助合适的驱动装置(未示出)运动、特别是绕转动轴线转动，和/或可设有引导装置，这些引导装置分配有转向装置63，如参照图6C和6D更详细地描述地。 [0136] 为了避免在该绳索上形成可能会结成团块的胶合剂或胶合的颗粒1的附着物，可设有具有用于清洁绳索的擦拭元件66的第二清洁装置，并且第二清洁装置设置成使绳索经过该第二清洁装置或者穿过该第二清洁装置。该第二清洁装置可例如构造成绳索会经过的毛刷、擦拭铲或擦拭条，或者绳索所穿过的擦拭间隙或擦拭缸。该第二清洁装置也可构造成流体浴，该流体浴例如填充有水和/或清洁剂，而擦拭元件62被引导通过该流体浴，以洗掉并溶解胶合剂和/或颗粒1。 [0137] 由于下降料道61的指向下降料道61内部的弯曲或凹入的形状，其中壁特别是可构造成隆起的，因而得到如下有利的效果：绳索特别良好地抵靠于下降料道61的内壁61a，并且由于其柔性而适应于内壁61a的形状。由此可实现对下降料道61的内壁61a的特别可靠的清洁。 [0138] 为了进一步加强该效果，可设有附加的张紧装置64、65，这些张紧装置在图6A中示例性地示出为弹簧和压紧轮，以张紧绳索。 [0139] 作为擦拭元件62的绳索的柔性还允许绳索适应于下降料道61的不同横截面，如在入口区域内具有较大开口宽度的矩形横截面以及在出口区域内小得多的圆形横截面，如例如图6C和6D中所示。如图6C和6D中所示，下降料道61构造成多部分，例如具有四个壁，这些壁限定四个内壁61a到61d。在入口区域内，下降料道61具有矩形横截面，而下降料道61在出口区域内构造成具有圆形横截面。下降料道的壁为拱形弯曲，因而，下降料道61沿颗粒1的下落方向从上向下逐渐缩小。 [0140] 如图6A和6B的实施例中所示，在图6C和6D的实施例中，擦拭元件62作为绳索经由转向装置63引导和保持，该绳索包围下降料道，因而，绳索既在下降料道61内与内壁61d相邻地延伸，又在下降料道61外延伸。与图6A中的实施例不同的是，在图6C的实施例中，在下降料道61的下端部区域内，壁被构造成分别具有凸缘或弧段作为用于绳索的转向装置67，该转向装置用于使绳索转向并保持绳索。因此，该凸缘可视为引导装置和转向装置。 [0141] 该转向装置63属于引导装置，该引导装置具有例如链条的环形引导元件69以及例如齿轮的引导机构68。如图6D中特别示出，引导机构68设置成将环形链条张紧成使该环形链条绕下降料道61回转。 [0142] 所述实施例不是限制性的，并且作为引导元件69可采用绳索、特别是钢丝绳、带材、线材或类似物。作为引导机构68可应用滚轮、滑轨或其它元件，它们适于保持和相应地引导对应的引导装置以及并根据需求使它们转向。 [0143] 马达(未示出)可与引导机构68相连，以驱动作为引导元件69的链条并使其运动。由于转向轮与引导装置的链条62相连，所以柔性的环形擦拭元件或绳索以此方式沿与内壁61d的表面相切的方向运动。以此方式，绳索可擦拭内壁61d、或下降料道61的所有内壁61a,…,61d并且清洁它们，其中附着在内壁61a,…,61d上的可能的胶合剂或胶合的颗粒1被擦去。 [0144] 作为擦拭元件66的第二清洁装置可安装在预定的固定位置处，以在借助引导装置和所属的驱动装置使绳索运动到相应的清洁位置时清洁该绳索。清洁装置也可属于引导装置，并且与其一起运动，以跟随绳索经过下降料道61的内壁61a到61d的运动。 [0145] 尽管在图6A到6D中环形绳索包围壁，但在图6E中所示的变型中，环形绳索也可以如下方式经过转向装置72，即，环形绳索作为擦拭元件62在下降料道62内延伸，以使得绳索的来回两段均抵靠于下降料道61的内壁61d。 [0146] 绳索的这种引导具有较小的空间需求的有利效果，这是因为无需用于在下降料道61外延伸的绳索段的自由空间。此外，内壁61d通过双倍延伸的绳索相应地被双倍擦拭，这导致更好的清洁能力。 [0147] 第二清洁装置在图6E的实施例中实施成擦拭条71，绳索被引导经过该擦拭条，以擦拭该绳索。 [0148] 在图6E和6F中所示的变型中，第二清洁装置构造成可引入作为擦拭元件62的绳索的移动路径74中的障碍物75，该障碍物较佳地设置在下降料道61的具有至少一个内壁61a…61d的壁内，其中可引入的障碍物75可在第一位置和第二位置之间调节，在第一位置中，障碍物沿下降料道61的内部方向从内壁61a…61d突出，在第二位置中，该障碍物不突出超过内壁61a…61d。可引入的障碍物75可例如气动、液压或电动调节，并可例如构造成芯轴或圆锥体。在此方面，为了更好地理解，在图6E中示出移动路径74。 [0149] 当引入可引入的障碍物75时，该障碍物对抗绳索的运动。该绳索由此张紧，直至它“翻过”障碍物75或者直至绳索通过调节该障碍物75而松弛。这种处于应力下的绳索在突然的运动中放松，该运动可使绳索振动并“抖动”和/或碰到内壁61a,…,61d，由此，可抖掉沉积在绳索上的胶合剂和/或颗粒1。在此较佳的是，可使绳索的运动方向反向，以使绳索从两个方向对着可调节的障碍物75运动。 [0150] 图6G和6H示出另一变型，其中，绳索固定在两个卷绕装置73上，这些卷绕装置能使绳索卷绕和退绕。 [0151] 通过对卷绕装置73的驱动装置(未示出)的对应操纵，可使绳索沿绳索的纵向进行往复运动。 [0152] 图6G和6H示出其它的引导装置，这些引导装置可例如构造成进给轴或滑道76，卷绕装置73例如借助在滑道76内行进的滑块或者滑动元件(未示出)固定到这些进给轴或滑道处。在图6H中示例性地示出滑道76，这些滑道引导并保持卷绕装置73，并且经由卷绕装置73来卷绕环形绳索。因此，绳索可借助滑道76在内壁61d的表面上运动。 [0153] 对于下降料道61的其它内壁，同样可分别设有滑道76，卷绕装置设置在这些滑道处，将相应的绳索分配给滑道；为了说明方便起见，在图6G和6H中没有示出它们。或者，滑道76对应于下降料道61构造成拱形和环形。 [0154] 参照图6A到6H给出实施例，其中，柔性的擦拭元件62(如绳索)沿大致垂直方向在内壁61a,…,61d的区域内延伸。然而，这不是限制性的，并且如图6I和6J中所示的实施例中示出，下降料道结构60也可构造成使柔性的擦拭元件62与下降料道61的内壁61a,…,61d相邻地沿大致水平方向延伸，柔性的擦拭元件例如构造为经由转向装置63引导的环形绳索。 [0155] 较佳地，对于下降料道61的每个内壁61a,…,61d分别设有柔性的擦拭元件62，该擦拭元件例如可实施成环形绳索，该环形绳索设置成包围相关的内壁61a,…,61d，如图6I中的实施例中的内壁61d所示。 [0156] 下降料道61的内壁61a,…,61d可沿水平方向大致直线延伸，或者可以是凹形的，特别是构造成隆起的，因而，它们沿指向下降料道61内部的方向弯曲，如图6I的内壁61b的实施例中所示。 [0157] 转向装置63分配给对应的引导装置(未示出)，这些引导装置可设置成使转向装置63沿大致垂直的方向运动，如由图6J的箭头所示，以使得擦拭元件62跟随下降料道的内壁61d沿大致垂直的方向与内壁61d的表面相切地运动，并且沿大致垂直方向擦拭该内壁的表面。 [0158] 运动轴线在此能以合适的方式大致垂直、大致跟随内壁61d的侧向边缘的曲线或者以其它合适的方式定向。 [0159] 作为引导装置，可设有带或绳索传动装置，类似于参照图6A到6H所述那样。引导装置同样可以构造成进给轴或引导构件、特别是直线引导构件，其中，转向装置63分别固定到在引导构件内延伸的滑块(未示出)处，可以电动、气动或液压方式操纵该滑块。 [0160] 尽管本发明借助较佳的实施方式的实施例来描述，但它们不是限制性的。因此，各种实施方式的各种方面可组合或彼此交换。特别是，在下降料道结构中，不同形式的第一和/或第二清洁装置可组合。同样，各种类型的擦拭元件62或引导装置可组合。 [0161] 引导装置不限于所述的实施例。 [0162] 因此，代替所述引导装置例如还可设有构造成引导构件、特别是直线引导构件的引导装置，这些引导装置具有在引导构件内延伸的滑块(未示出)，可电动、气动或液压方式操纵该滑块。 [0163] 同样可应用实施成滑轨的形式的引导装置，在这些引导装置处，擦拭元件滑动地例如通过设置在滑轨内的滑动元件或滚轮来保持。 [0164] 尽管给出擦拭元件62借助第一和第二引导装置相对于下降料道61的内壁61a,…,61d运动的实施例，但这不是限制性的，并且下降料道也可以通过合适的驱动装置来运动。因此，例如下降料道61可构造成旋转对称的，并且通过相应的驱动装置作转动运动，以使得下降料道61的内壁相对于擦拭元件62运动。 [0165] 擦拭元件62在此可由对应的第一和第二引导装置保持固定，而内壁运动经过擦拭元件62。可运动的擦拭元件62也可以与可运动的下降料道61结合。 [0166] 引导装置可设置在通过下降料道61所围成的空间外和内。如果引导装置设置在下降料道61内，较佳地可设有罩盖，以保护引导装置免于弄脏，和/或可设有附加的擦拭构件，附加的擦拭构件例如可设置在柔性的擦拭元件上，以擦拭和清洁设置在下降料道内的引导装置。 [0167] 此外，下降料道结构可具有调温装置，用以将一个或多个内壁调节到低于使胶合剂硬化的阈值、较佳为低于70℃的温度。 [0168] 附图标记列表P1443:1.颗粒 [0169] 2 定量装置 [0170] 3. 分散装置 [0171] 4. 下降料道 [0172] 5. 颗粒帘 [0173] 6. 喷嘴 [0174] 7. 混合装置 [0175] 8. 混合工具 [0176] 9. 轴 [0177] 10. 下降料道结构 [0178] 20 下降料道结构 [0179] 21. 下降料道 [0180] 21x,a,b,c,d 内壁 [0181] 22. 擦拭元件 [0182] 23. 支承元件 [0183] 24. 引导元件 [0184] 30. 下降料道结构 [0185] 31 下降料道 [0186] 31x,a,b,c,d 内壁 [0187] 32. 擦拭元件 [0188] 40. 下降料道结构 [0189] 41 下降料道 [0190] 41x,a,b,c,d 内壁 [0191] 42. 刮刀 [0192] 43. 驱动装置 [0193] 44. 刮刀 [0194] 45. 装料漏斗 [0195] 50. 下降料道结构 [0196] 51 下降料道 [0197] 51a 内壁 [0198] 52. 刮刀 [0199] 53. 驱动装置 [0200] 54. 刮刀 [0201] 55. 驱动装置 [0202] 60. 下降料道结构 [0203] 61 下降料道 [0204] 61x,a,b,c,d 内壁 [0205] 62. 擦拭元件 [0206] 63. 转向装置 [0207] 64. 张紧装置 [0208] 65. 张紧装置 [0209] 66. 擦拭元件 [0210] 67. 转向装置 [0211] 68. 引导装置 [0212] 69. 引导元件 [0213] 71. 擦拭条 [0214] 72. 转向装置 [0215] 73. 卷绕装置 [0216] 74. 移动路径 [0217] 75. 障碍物 [0218] 76. 滑道 |
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