오염 방지제 조성물

申请号 KR1020127008683 申请日 2011-06-10 公开(公告)号 KR101226982B1 公开(公告)日 2013-01-28
申请人 가부시키가이샤 멘테크; 发明人 세키야히로시; 사와다히라쿠;
摘要 드라이 파트 부위로의 피치의 부착을 충분히 방지할 수 있는 오염 방지제 조성물을 제공하는 것.
본 발명은 초지 공정의 드라이 파트에 있어서의 피치 오염을 방지하는 오염 방지제 조성물로서, 하기 식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물을 포함하고, 폴리실록산 화합물 1분자당 아미노 변성기의 개수가 0.5~5개인 오염 방지제 조성물이다.
[식(1) 중, 치환기 R
1 은 메틸기 또는 하기 식(2)으로 표시되는 아미노 변성기를 나타내고, 실록산 단위의 반복수 n은 50~1000의 정수를 나타낸다.
식(2) 중, 치환기 R
2 및 치환기 R
3 는 각각 독립하여, 탄소수가 1~6의 알킬렌기를 나타내고, 아미노알킬렌 단위의 반복수 m은 0~2의 정수를 나타낸다.]
权利要求
  • 초지 공정의 드라이 파트에 있어서의 피치 오염을 방지하는 오염 방지제 조성물로서,
    하기 식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물을 포함하고,
    상기 폴리실록산 화합물 1분자당 아미노 변성기의 개수가 0.5~3개이며,
    상기 드라이 파트 부위에 대하여 피막을 형성하고, 또한 피치를 분산시키는 오염 방지제 조성물.

    [식(1) 중, 치환기 R 1 은 메틸기 또는 하기 식(2)으로 표시되는 아미노 변성기를 나타내고, 실록산 단위의 반복수 n은 100~800의 정수를 나타낸다.

    식(2) 중, 치환기 R 2 가 프로필렌기이며, 치환기 R 3 가 에틸렌기이며, 아미노알킬렌 단위의 반복수 m이 1이다.]
  • 제 1 항에 있어서, 유화제를 더욱 포함하고,
    이 유화제가 폴리에틸렌데실에테르, 폴리에틸렌세틸에테르 또는 폴리에틸렌스테아릴에테르인 것을 특징으로 하는 오염 방지제 조성물.
  • 제 2 항에 있어서, 상기 폴리실록산 화합물의 배합 비율이 0.1~40질량%이며,
    상기 폴리실록산 화합물 1질량부에 대한 상기 유화제의 배합 비율이 0.05~0.4질량부인 것을 특징으로 하는 오염 방지제 조성물.
  • 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 드라이 파트에 산포 노즐을 사용하여 내뿜어지고,
    통과하는 종이의 단위면적당 산포량이 폴리실록산 화합물의 고형분량으로서, 10μg~10000μg/m 2 인 것을 특징으로 하는 오염 방지제 조성물.
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    오염 방지제 조성물{ANTI-SOILING AGENT COMPOSITION}

    본 발명은 오염 방지제 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 드라이 파트에 있어서의 피치 오염을 충분히 방지할 수 있는 오염 방지제 조성물에 관한 것이다.

    종이를 제조하기 위한 초지 공정은 일반적으로 수중에 펄프가 분산된 액을 초지용의 망(와이어)에 얹고, 여분의 물을 자연 낙하시킴으로써 습지로 하는 와이어 파트와, 습지를 한 쌍의 프레스 롤 사이에 통과시키고, 펠트를 통하여 프레스 롤로 압압함으로써, 습지 중의 수분을 펠트에 이행시켜, 이것에 의해 습지를 탈수하는 프레스 파트와, 프레스 파트를 통과한 습지를 가열된 실린더에 접촉시킴으로써 건조시켜 종이로 하는 드라이 파트와, 종이를 스풀이라고 하는 막대에 감는 릴 파트를 가진다.

    그런데 상기 드라이 파트에 있어서는, 실린더, 캔버스, 캘린더 롤, 브레이커 스택 롤 등(이하 이들을 총칭하여 「드라이 파트 부위」라고 함)의 표면에 피치가 부착되는 문제가 있다. 이들에 피치가 부착되면, 종이가 오염되어 수율이 크게 저하된다.

    이에 대해, 피치의 부착을 방지하는 오염물 부착 방지제가 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 이러한 오염물 부착 방지제는 점도가 상이한 실리콘 오일과, 불소계 계면활성제를 포함하는 조성으로 되어 있다.

    또, 초지기에 대하여 공급 부여되고, 측쇄형 변성 실리콘 오일 또는 측쇄 양말단형 변성 실리콘 오일을 주성분으로 하는 초지기용 오염 방지제 조성물이 알려져 있다(특허문헌 2 참조). 이러한 오염 방지제 조성물에 있어서, 측쇄형 변성 실리콘 오일은 측쇄가 아미노기 또는 에폭시기로 치환되어 있다.

    일본 특허 공개 평7-292382호 공보

    일본 특허 제3388450호 공보

    그러나, 특허문헌 1에 기재된 오염물 부착 방지제에 있어서는, 혼합한 실리콘 오일의 점도가 지나치게 높고, 또한 실리콘 오일 자체의 점착성에 의해 드라이 파트 부위로의 피치의 부착을 충분히 방지할 수 없다.

    또, 상기 특허문헌 2에 기재된 오염 방지제 조성물은, 초지기의 롤 등에 대한 정착성이 높고, 부여한 직후로부터 롤 등에 이형·발수성을 부여할 수 있지만, 아미노 변성기의 구조나 폴리실록산 화합물 1분자당 아미노 변성기의 개수에 따라서는, 피치의 부착을 충분히 방지할 수 없다.

    본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 드라이 파트 부위로의 피치의 부착을 충분히 방지할 수 있는 오염 방지제 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

    본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 바, 소정의 구조를 가지는 아미노 변성기를 소정량 가지는 폴리실록산 화합물을 사용함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.

    본 발명은 (1) 초지 공정의 드라이 파트에 있어서의 피치 오염을 방지하는 오염 방지제 조성물로서, 하기 식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물을 포함하고, 폴리실록산 화합물 1분자당 아미노 변성기의 개수가 0.5~5개인 오염 방지제 조성물에 존재한다.

    [식(1) 중, 치환기 R 1 은 메틸기 또는 하기 식(2)으로 표시되는 아미노 변성기를 나타내고, 실록산 단위의 반복수 n은 50~1000의 정수를 나타낸다.

    식(2) 중, 치환기 R 2 및 치환기 R 3 는 각각 독립하여, 탄소수가 1~6의 알킬렌기를 나타내고, 아미노알킬렌 단위의 반복수 m은 0~2의 정수를 나타낸다.]

    본 발명은 (2) 식(2)으로 표시되는 아미노 변성기에 있어서의 아미노알킬렌 단위의 반복수 m이 1인 상기 (1)에 기재된 오염 방지제 조성물에 존재한다.

    본 발명은 (3) 식(2)으로 표시되는 아미노 변성기에 있어서의 치환기 R 2 및 치환기 R 3 가 각각 독립하여, 에틸렌기 또는 프로필렌기인 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 오염 방지제 조성물에 존재한다.

    본 발명은 (4) 식(2)으로 표시되는 아미노 변성기에 있어서의 치환기 R 2 가 프로필렌기이며, 치환기 R 3 가 에틸렌기인 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 오염 방지제 조성물에 존재한다.

    본 발명은 (5) 식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물에 있어서의 실록산 단위의 반복수 n이 100~800의 정수인 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 오염 방지제 조성물에 존재한다.

    본 발명은 (6) 폴리실록산 화합물 1분자당 아미노 변성기의 개수가 0.5~3개인 상기 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 오염 방지제 조성물에 존재한다.

    본 발명의 오염 방지제 조성물에 있어서, 1분자당 아미노 변성기의 개수를 0.5~5개로 하고, 아미노 변성기를 식(2)으로 나타내는 구조로 한 식(1)에 나타내는 폴리실록산 화합물은 드라이 파트 부위에 대하여 피막을 형성하고 또한 피치를 분산시키는 기능을 발휘한다. 이 때문에, 이 폴리실록산 화합물을 포함하는 오염 방지제 조성물은 드라이 파트 부위에 부여함으로써 드라이 파트 부위로의 피치의 부착을 충분히 방지할 수 있다. 또한, 본원 명세서에 있어서, 피치는 초지 공정에 있어서 생기는 점착성의 고체나 지분의 집합체 등이 포함된다.

    특히, 식(1)에 나타내는 폴리실록산 화합물의 실록산 단위의 반복수 n을 50~1000의 정수로 함으로써, 드라이 파트 부위에 대하여 피막이 형성되기 쉬워지고, 식(2)에 나타내는 아미노 변성기에 있어서의 치환기 R 2 및 치환기 R 3 를 각각 독립하여, 탄소수가 1~6의 알킬렌기로 하고, 아미노알킬렌 단위의 반복수 m을 0~2의 정수로 함으로써, 피치를 분산시키는 것이 가능해진다.

    본 발명의 오염 방지제 조성물에 있어서는, 식(2)으로 표시되는 아미노 변성기에 있어서의 아미노알킬렌 단위의 반복수 m이 1인 경우, 및/또는 아미노 변성기에 있어서의 치환기 R 2 및 치환기 R 3 가 각각 독립하여, 에틸렌기 또는 프로필렌기인 경우, 피치를 분산시키는 효과가 보다 향상된다.

    도 1은 본 발명에 따른 오염 방지제 조성물을 사용하는 드라이 파트의 드라이 파트 부위를 나타내는 개략도이다.

    이하, 필요에 따라서 도면을 참조하면서, 본 발명의 적합한 실시형태에 대해서 상세하게 설명한다. 또한, 상하좌우 등의 위치 관계는 특별히 언급하지 않는 한, 도면에 나타내는 위치 관계에 기초하는 것으로 한다. 또, 도면의 치수 비율은 도시의 비율에 한정되는 것은 아니다.

    본 실시형태에 따른 오염 방지제 조성물은 폴리실록산 화합물과, 유화제와, 물을 포함한다.

    본 실시형태에 따른 오염 방지제 조성물은 드라이 파트 부위에 부여함으로써, 드라이 파트 부위에 대하여 피막을 형성하고, 또한 피치를 분산시키는 기능을 발휘한다. 이 때문에, 이 오염 방지제 조성물은 드라이 파트 부위로의 피치의 부착을 충분히 방지할 수 있다.

    상기 폴리실록산 화합물은 하기 식(1)으로 표시된다.

    식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물에 있어서, 치환기 R 1 은 메틸기 또는 아미노 변성기이다. 또한, 메틸기와 아미노 변성기는 폴리실록산 화합물 1분자 중에 혼재하고 있어도 된다. 또, 치환기 R 1 이 모두 메틸기의 폴리실록산 화합물과, 치환기 R 1 의 적어도 하나가 아미노 변성기인 폴리실록산 화합물을 혼합하여 사용해도 된다.

    아미노 변성기는 하기 식(2)으로 표시된다.

    여기서, 식(2)으로 표시되는 아미노 변성기에 있어서, 치환기 R 2 및 치환기 R 3 는 각각 독립하여, 탄소수가 1~6의 알킬렌기이다. 이 경우, 피치를 확실하게 분산하는 것이 가능해진다.

    이들 중에서도, 아미노 변성기에 있어서의 치환기 R 2 및 치환기 R 3 는 각각 독립하여, 에틸렌기 또는 프로필렌기인 것이 바람직하다. 탄소쇄를 2~3으로 함으로써, 피치를 분산시키는 효과가 보다 향상된다.

    또, 치환기 R 2 및 치환기 R 3 는 상이한 알킬렌기인 것이 바람직하고, 구체적으로는 치환기 R 2 가 프로필렌기이며, 치환기 R 3 가 에틸렌기인 것이 특히 바람직하다.

    식(2)으로 표시되는 아미노 변성기에 있어서, 아미노알킬렌 단위의 반복수 m은 0~2의 정수이다. 또한, 아미노알킬렌 단위의 반복수 m이 0인 경우, 그 아미노 변성기는 치환기 R 2 를 가지지 않는다.

    아미노알킬렌 단위의 반복수 m이 3을 넘으면, 피치를 분산시키는 효과가 불충분하게 된다.

    이들 중에서도, 아미노 변성기에 있어서의 아미노알킬렌 단위의 반복수 m은 1인 것이 바람직하다.

    오염 방지제 조성물에 있어서, 폴리실록산 화합물 1분자당 아미노 변성기의 개수는 0.5~5개이며, 0.5~3개인 것이 바람직하다.

    아미노 변성기의 개수가 0.5개 미만이면, 피치를 분산하는 효과가 얻어지지 않는다. 또, 아미노 변성기의 개수가 5개를 넘으면, 이온성이 높아지고, 드라이 파트 부위의 표면 상에 과잉하게 축적하기 때문에, 표면의 끈적거림이 커져 오히려 피치가 부착되기 쉬워지는 결점이 있다.

    여기서, 본 명세서에 있어서, 「1분자당 아미노 변성기의 개수」는 1분자에 포함되는 아미노 변성기의 평균 개수를 의미하고, 구체적으로는 아미노 변성기의 총수를 분자수로 나눈 값이다. 즉, 1분자당 아미노 변성기의 개수가 0.1인 경우, 10분자에 포함되는 아미노 변성기의 총수가 1개인 것을 의미한다.

    식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물에 있어서, 실록산 단위의 반복수 n은 50~1000의 정수이며, 100~800의 정수인 것이 바람직하다.

    실록산 단위의 반복수 n이 50 미만이면, 드라이 파트 부위에 대한 피막의 형성이 불충분하게 되고, 실록산 단위의 반복수 n이 1000을 넘으면, 점도가 높은 폴리실록산 화합물이 드라이 파트 부위 표면에 점착성을 띠고 부착되므로 오히려 피치가 부착되기 쉬워지는 결점이 있다.

    폴리실록산 화합물의 25℃에 있어서의 동점도는 20000mm 2 /s 이하인 것이 바람직하고, 10000mm 2 /s 이하인 것이 더욱 바람직하다.

    동점도가 20000mm 2 /s를 넘으면, 동점도가 상기 범위 내에 있는 경우와 비교하여, 피치를 충분하게 분산할 수 없게 된다. 또, 끈적거림이 커져 오히려 피치가 부착되기 쉬워지는 결점이 있다.

    본 실시형태에 따른 오염 방지제 조성물에 있어서는 유화제가 포함된다.

    유화제를 포함함으로써 폴리실록산 화합물의 유화 안정성이 향상된다.

    유화제로서는 폴리실록산 화합물을 유화시키는 계면활성제가 사용된다.

    이들 중에서도, 유화제는 비이온 계면활성제인 것이 바람직하고, 특히, 폴리에틸렌데실에테르, 폴리에틸렌세틸에테르 또는 폴리에틸렌스테아릴에테르인 것이 보다 바람직하다.

    유화제가 이들 화합물인 경우, 폴리실록산 화합물의 유화 안정성을 향상시킬 뿐만 아니라, 종이의 색빠짐을 억제할 수 있다.

    덧붙이자면, 골판지 등의 착색된 종이를 초지기로 제조하는 경우, 알킬기가 저분자의 폴리에틸렌알킬에테르를 유화제로서 사용하면, 종이의 색을 탈락시켜, 종이의 색이 얼룩지는 결점이 있다. 그러나, 알킬기가 데실기, 세틸기, 스테아릴기의 폴리에틸렌알킬에테르를 유화제로서 사용하면 색빠짐이 억제된다.

    오염 방지제 조성물에 있어서, 폴리실록산 화합물의 배합 비율은 피치 부착 방지의 관점에서 0.1~40질량%인 것이 바람직하고, 2.0~20질량%인 것이 보다 바람직하다.

    폴리실록산 화합물의 배합 비율이 0.1질량% 미만이면, 폴리실록산 화합물의 배합 비율이 상기 범위 내에 있는 경우와 비교하여, 오염 방지제 조성물 중의 수분이 증발하기 전에, 오염 방지제 조성물 자체가 습지에 흡수되어 버려, 피막을 충분히 형성할 수 없는 경우가 있다. 한편, 폴리실록산 화합물의 배합 비율이 40질량%를 넘으면, 폴리실록산 화합물의 배합 비율이 상기 범위 내에 있는 경우와 비교하여, 오염 방지제 조성물 자체의 점도가 커져, 드라이 파트 부위의 표면 상에 균일하게 산포하기 어렵고, 또, 점착성이 커져 지면이 뜯길 우려가 있다.

    폴리실록산 화합물 1질량부에 대한 유화제의 배합 비율은 0.05~0.4질량부인 것이 바람직하고, 0.1~0.2질량부인 것이 보다 바람직하다.

    유화제의 배합 비율이 0.05질량부 미만이면, 유화제의 배합 비율이 상기 범위 내에 있는 경우와 비교하여, 유화 안정성이 불충분하게 되는 경우가 있고, 유화제의 배합 비율이 0.4질량부를 넘으면, 유화제의 배합 비율이 상기 범위 내에 있는 경우와 비교하여, 종이의 색빠짐의 정도가 커지는 결점이 있다.

    본 실시형태에 따른 오염 방지제 조성물에는 이들 이외에도 킬레이트제, pH 조정제, 방부제, 점도 조정제, 윤활제, 습윤제, 더스팅 방지제, 이형제, 접착제, 표면 수정제, 세정제, 지력 증강제, 사이즈제, 수율 향상제, 발수제, 발유제, 방활제, 활제, 유연제 등의 첨가제가 포함되어 있어도 된다.

    여기서, 상기 윤활제로서는 기어유, 실린더유, 터빈유, 스핀들유 등의 광유, 야자유, 아마인유, 피마자유, 유채씨유, 콘유 등의 식물유, 유동 파라핀, 이소파라핀 등의 파라핀류, 폴리이소부틸렌, 폴리부텐, 말레인화 폴리부텐, 폴리에틸렌 왁스, 마이크로 왁스 등의 합성유 등을 들 수 있다.

    다음에 본 실시형태에 따른 오염 방지제 조성물의 제조 방법에 대해서 설명한다.

    오염 방지제 조성물은 폴리실록산 화합물과 유화제를 물에 가하여 교반함으로써, 폴리실록산 화합물이 유화된 오염 방지제 조성물이 제조된다.

    이러한 교반에는 믹서, 호모지나이저, 밀 등이 적당히 사용된다.

    다음에 드라이 파트에 있어서의 오염 방지제 조성물의 사용 방법에 대해서 설명한다.

    도 1은 본 발명에 따른 오염 방지제 조성물을 사용하는 드라이 파트의 드라이 파트 부위를 나타내는 개략도이다.

    도 1에 나타내는 바와 같이, 오염 방지제 조성물은 드라이 파트(D)에서 사용된다.

    드라이 파트(D)는 종이체(W)와, 이 종이체(W)를 가열 건조하기 위한 복수의 원통상의 실린더(D1, D2, D3, D4, D5, D6, D7 및 D8)(이하 「D1~D8」이라고 함)와, 종이체를 실린더(D1~D8)에 누르는 캔버스(K1, K2)와, 캔버스(K1, K2)를 안내하는 캔버스 롤(KR)과, 건조한 종이체(W)의 평활성과 종이 두께를 완만하게 조정하는 브레이커 스택 롤(B)과, 건조한 종이체(W)의 평활성과 종이 두께를 조정하는 캘린더 롤(C)을 구비한다.

    드라이 파트(D)에 있어서는, 회전하는 실린더(D1~D8)의 표면에 종이체(W)가 캔버스(K1, K2)에 의해 압접된다. 이것에 의해, 종이체(W)가 실린더(D1~D8)에 부착되고 동시에 가열 건조되도록 되어 있다.

    그 후, 종이체(W)는 브레이커 스택 롤(B)에 협지되고 이어서 종이체(W)는 캘린더 롤(C)에 의해 고밀도화된다.

    상기 오염 방지제 조성물의 사용 방법에 있어서는, 도 1에 나타내는 바와 같이 드라이 파트(D)의 실린더(D1~D8), 캔버스(K1, K2), 브레이커 스택 롤(B), 캘린더 롤(C)에 대하여, 각각 화살표 A의 위치에서 오염 방지제 조성물이 직접 부여된다.

    여기서, 오염 방지제 조성물의 부여 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 산포 노즐 등을 사용하여 액상의 샤워 방식이나 안개상의 분무 방식 등이 사용된다. 이 때, 산포 노즐을 종이 폭방향으로 슬라이드시키면서, 오염 방지제 조성물을 내뿜어도 된다. 오염 방지제 조성물을 드라이 파트에 내뿜음으로써 피치 오염이 방지된다.

    이 때, 오염 방지제 조성물이 통과하는 종이의 단위면적당 산포량은 폴리실록산 화합물의 고형분량으로서 10μg~10000μg/m 2 인 것이 바람직하고, 30μg~1000μg/m 2 인 것이 보다 바람직하다.

    산포량이 10μg/m 2 미만이면, 산포량이 상기 범위 내에 있는 경우와 비교하여, 오염 방지제 조성물이 충분히 드라이 파트 부위의 표면에 부착되지 않아, 피치의 부착을 충분히 억제할 수 없는 경향이 있다. 또, 산포량이 10000μg/m 2 를 넘으면, 산포량이 상기 범위 내에 있는 경우와 비교하여, 잉여분이 드라이 파트 부위의 표면 상에 축적되어 피치를 말려들게 하여 오염물을 증대시키거나 캔버스의 눈을 막아버릴 우려가 있다.

    이상, 본 발명의 적합한 실시형태에 대해서 설명했는데, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다.

    예를 들면, 본 실시형태에 따른 오염 방지제 조성물은 유화제를 포함하고 있지만, 폴리실록산 화합물이 수용성이면, 반드시 포함시킬 필요는 없다.

    본 실시형태에 따른 오염 방지제 조성물에 있어서, 폴리실록산 화합물은 메틸기를 가지고 있지만, 메틸기의 몇개가 에폭시 변성기, 알킬기(메틸기를 제외함), 폴리에테르기, 카르복실기 또는 아르알킬기로 치환되어 있어도 된다. 이들은 1분자 내에 있어서 1종류가 존재하고 있어도 되고, 복수 종류가 혼재하고 있어도 된다.

    또한, 에폭시 변성기로서는 에폭시알킬기 또는 에폭시폴리에테르기를 들 수 있다.

    본 실시형태에 따른 오염 방지제 조성물에 있어서는, 오염 방지제 조성물을 드라이 파트에 있어서의 드라이 파트 부위에 부여하고 있지만, 드라이 파트 뿐만아니라, 프레스 파트나 릴 파트에 응용하는 것도 가능하다.

    (실시예)

    이하, 실시예 및 참고예에 기초하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.

    (실시예 1~10)

    하기 식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물 10질량%와, 폴리에틸렌데실에테르(유화제) 2.0질량%를 물에 가하고, 믹서로 교반함으로써 오염 방지제 조성물을 얻었다.

    폴리실록산 화합물에 있어서의 아미노 변성기로서는 하기 식(2)으로 표시되는 치환기를 사용했다. 또한, 아미노 변성기 이외의 R 1 은 메틸기이다.

    사용한 아미노 변성기를 표 1에 나타낸다.

    (비교예 1)

    아미노 변성기로서 폴리에테르아미노기를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 오염 방지제 조성물을 얻었다.

    (비교예 2)

    아미노 변성기로서 폴리에폭시아미노기를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 오염 방지제 조성물을 얻었다.

    (평가 방법)

    실시예 1~10 및 비교예 1, 2에서 얻어진 오염 방지제 조성물에 대하여, 후술하는 실린더 평가 1, 실린더 평가 2, 캔버스 평가 1, 캔버스 평가 2를 했다.

    실린더 평가 1, 실린더 평가 2에 있어서는, 식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물의 실록산 단위의 반복수 n을 300으로 하고, 폴리실록산 화합물의 1분자당 아미노 변성기의 개수를 1.1개, 25℃에 있어서의 동점도를 1000mm 2 /s로 조정하여 평가를 했다.

    캔버스 평가 1, 캔버스 평가 2에 있어서는, 식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물의 실록산 단위의 반복수 n을 130으로 하고, 폴리실록산 화합물의 1분자당 아미노 변성기의 개수를 1.1개, 25℃에 있어서의 동점도를 250mm 2 /s로 조정하여 평가를 했다.

    1. 실린더 평가 1

    도 1에 나타내는 원통상 드라이어(드라이 파트, 가부시키가이샤 고바야시세이사쿠쇼제)의 실린더(D1)에 실시예 1~10 및 비교예 1, 2의 오염 방지제 조성물을 5ml/min 산포하고, 8시간 가동시킨 후의 실린더(D1) 아래로 낙하한 피치의 중량을 측정했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.

    2. 실린더 평가 2

    도 1에 나타내는 원통상 드라이어의 실린더(D3)의 표면에 날끝이 접하도록 닥터 블레이드를 설치했다. 이것에 의해, 원통상 드라이어를 가동시키면 실린더(D3)에 부착된 피치가 닥터 블레이드의 날끝에 긁어모이게 된다.

    그리고, 실린더(D1)에 실시예 1~10 및 비교예 1, 2의 오염 방지제 조성물을 5ml/min 산포하고, 8시간 가동시킨 후의 닥터 블레이드의 날끝에 축적한 피치의 중량을 측정했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.

    3. 캔버스 평가 1

    도 1에 나타내는 원통상 드라이어의 캔버스(K1)에 실시예 1~10 및 비교예 1, 2의 오염 방지제 조성물을 5ml/min 산포하고 1주간 가동시켰다.

    그리고, 캔버스(K1)의 1m 2 당에 있어서의 직경 5mm 이상의 피치의 부착수를 계측했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.

    4. 캔버스 평가 2

    도 1에 나타내는 원통상 드라이어의 캔버스(K1)에 실시예 1~10 및 비교예 1, 2의 오염 방지제 조성물을 5ml/min 산포하고 1주간 가동시켰다.

    그리고, 캔버스(K1)를 안내하는 아웃 롤(KR1)에 부착된 피치를 긁어내어 피치의 중량을 측정했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.

    (실시예 11~22 및 비교예 3~8)

    상기 식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물 10질량%와, 폴리에틸렌데실에테르(유화제) 2.0질량%를 물에 가하고, 믹서로 교반함으로써 오염 방지제 조성물을 얻었다.

    폴리실록산 화합물에 있어서의 아미노 변성기로서는 하기 식(3)으로 표시되는 치환기를 사용했다. 또한, 아미노 변성기 이외의 R 1 은 메틸기이다.

    또, 각 실시예 및 비교예에 있어서의 폴리실록산 화합물 1분자당 아미노 변성기의 개수와, 상기 식(1)으로 표시되는 폴리실록산 화합물의 실록산 단위의 반복수 n을 표 3에 나타낸다.

    (평가 방법)

    실시예 11~22 및 비교예 3~8에서 얻어진 오염 방지제 조성물에 대하여, 상기 서술한 실린더 평가 1, 실린더 평가 2, 캔버스 평가 1, 캔버스 평가 2를 했다.

    얻어진 결과를 표 4에 나타낸다.

    이러한 점에서, 본 발명의 오염 방지제 조성물에 의하면, 드라이 파트 부위로의 피치의 부착을 충분히 방지할 수 있는 것이 확인되었다.

    본 발명의 오염 방지제 조성물은 종이의 초조시에 드라이 파트 부위에 부여하여 사용된다. 본 발명의 오염 방지제 조성물에 의하면, 드라이 파트 부위로의 피치의 부착을 방지할 수 있으므로, 종이의 제조에 있어서의 수율을 매우 향상시킬 수 있다.

    B… 브레이커 스택 롤
    C… 캘린더 롤
    D… 드라이 파트
    D1, D2, D3, D4, D5, D6, D7, D8… 실린더
    K1, K2… 캔버스
    KR… 캔버스 롤
    KR1… 아웃 롤
    W… 종이체

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