1. 用于处理基于液体的物质的装置，所述装置包括多个体积，至少两个体积至少部分 地被所述体积内和/或与其连接的管道内的一个或多个相位引导器界定，以控制所述体积 内的一种或多种基于液体的物质的等分， 每个体积具有在将一种或多种基于液体的物质填充或排空所述体积期间被界定的、相 对于弯月面运动方向的上游侧和下游侧， 每个体积具有至少一个上游体积管道，所述装置包括至少一个公共上游侧管道，所述 公共上游侧管道被连接来通过多个上游体积管道供给流体， 多个相位引导器表现出预定水平的稳定性，并且与至少一个其他相位引导器的稳定性 相比，一个或多个相位引导器表现出预定的不同的稳定性，藉此控制填充和/或排空至少一 个所述体积期间相位引导器发生溢出的优先顺序;所述稳定性由构造和一个所述相位引导 器的下游侧所对的锐角的值和半径确定，其中所述构造是或者包括下游侧相位引导器的弯 曲、下游侧相位引导器的分支、下游侧相位引导器的进口或下游侧相位引导器与壁的相交 处。
2. 根据权利要求1所述的装置，所述装置包括多个体积，至少两个体积至少部分地被所 述体积内的一个或多个相位引导器界定，以控制所述体积内的一种或多种基于液体的物质 的等分， 每个体积具有至少两个上游体积管道，藉此允许向含有至少一个相位引导器的至少一 个所述体积加入至少两种液体， 每个体积具有在将一种或多种基于液体的物质填充或排空所述体积期间被界定的、相 对于弯月面运动方向的上游侧和下游侧， 所述装置包括至少一个公共上游侧管道，所述公共上游侧管道被连接来通过多个上游 体积管道供给流体； 在允许加入第二所述基于液体的物质之前，所述装置用来将第一基于液体的物质限制 在一个所述体积内。
3. 根据权利要求1或2所述的装置，其中一个或多个体积具有至少一个在所述体积内的 相对于弯月面前进的上游的或与所述体积相连的相位引导器。
4. 根据前述权利要求1或2所述的装置，其中一个或多个体积具有至少一个在所述体积 内的相对于弯月面前进的下游的或与所述体积相连的相位引导器。
5. 根据前述权利要求1或2所述的装置，其中至少一个所述体积包括或者被连接至上游 侧相位引导器，所述上游侧相位引导器在第一所述体积内或者与第一所述体积相连，并且 比在至少一个第二所述体积内或者与第二所述体积相连的至少一个其他下游侧相位引导 器具有更低的稳定性。
6. 根据前述权利要求1或2所述的装置，所述装置包括用于两个或以上的所述体积的公 共下游侧管道，其中位于影响公共下游侧管道或与其连接的进一步的含有流体的特征的、 离公共下游侧管道的相对下游起源最远的所述体积的下游侧的第一相位引导器，与位于连 接至所述下游侧管道的、比第一下游侧相位引导器更加靠近公共下游侧管道的相对下游起 源的进一步的体积的下游侧的至少一个进一步的相位引导器相比，具有更低的稳定性。
7. 根据权利要求6所述的装置，其中下游侧管道包括至少一个体积或进一步的含有流 体的结构，它们从中分支并且具有相对于至少一个分支的体积设于下游管道的相对下游起 源的远端的相位引导器，所述分支的体积包括所述体积内或者所述体积上游的至少一个上 游侧相位引导器， 设于远端的相位引导器比所述至少一个上游侧相位引导器具有更低的稳定性，使得在 排空所述体积时，所述第一相位引导器被流过，因此排空管道并在所述至少一个体积内隔 离基于液体的物质。
8. 根据权利要求7所述的装置，所述装置额外包括高层级公共下游侧管道，所述高层级 公共下游侧管道被连接至更低层级的两个或以上的所述公共下游侧管道并且比它们具有 更高的层级;并且其中高层级下游侧管道包括相对低稳定性相位引导器，所述相对低稳定 性相位引导器比更低层级的分支中的更低稳定性的相位引导器具有更高的稳定性。
9. 根据权利要求1所述的装置，其中所述体积或至少一个所述体积被至少两个相位引 导器内部地分为第一部分、第二部分和第三部分，至少一个体积部分与管道接触。
10. 根据权利要求9所述的装置，其中至少一个相位引导器包括相位引导器不稳定性的 定义的位置，在该位置至少一个相位引导器开始溢出，从而建立两种基于液体的物质之间 的接触。
11. 根据权利要求9或10所述的装置，其中下游体积管道被连接至两个相位引导器之间 的体积的第二部分，两个上游体积管道被连接至两个相位引导器的两侧的体积的第一部分 和第三部分，所述装置被设置来使两种基于液体的物质接触。
12. 根据权利要求11所述的装置，当其引用权利要求10时，其中相位引导器不稳定性的 位置远离与第二体积部分连接的下游体积管道。
13. 根据权利要求9或10所述的装置，其中上游体积管道被连接至两个相位引导器之间 的体积的第二部分，两个下游体积管道被连接至两个相位引导器的两侧的体积的第一部分 和第三部分，所述装置被设置来回收基于液体的物质的特定部分。
14. 根据权利要求1或2所述的装置，所述装置包括至少一个具有允许弯月面溢出的第 一侧和第二侧的相位引导器，并且包括在两端与壁相交的弯月面，相位引导器的第一侧相 对于壁对着第一角度，而第二侧与壁对着第二角度，第一侧与壁的角度和半径独立于所述 第二侧与一个所述壁的角度和半径，使得相位引导器的稳定性能够在弯月面的运动的正向 和反向方向中被独立地调整。
15. 根据权利要求1或2所述的装置，所述装置包括至少一个具有允许弯月面溢出的第 一侧和第二侧的相位引导器，第一侧具有第一分支而第二侧具有第二分支，每个分支相对 于相位引导器对着一个角度;第一分支与相位引导器的角度和半径独立于第二分支与相位 引导器的角度和半径，使得相位引导器的稳定性能够在弯月面的运动的正向和反向方向中 被独立地调整。
16. 根据权利要求1或2所述的装置，所述装置包括至少一个具有允许弯月面溢出的第 一侧和第二侧的相位引导器，第一侧和第二侧各自包括它的轮廓的第一 V状和第二V状，第 一V状和第二V状被形成为相位引导器的进口或者被形成为相位引导器的尖锐的弯曲，第一 V状具有独立于所述第二V状的角度和半径的角度和半径，使得相位引导器的稳定性能够相 对于弯月面的运动的正向和反向方向被独立地调整。
17. 根据权利要求1或2所述的装置，所述装置包括至少一个作为进入相位引导器基板 的突出的相位引导器，所述突出通过允许弯月面溢出的第一侧和第二侧界定，所述第一侧 和第二侧各自为相位引导器的侧壁，每个侧壁具有相对于普通的相对基板的小于45°的拔 模角，相位引导器在每个末端具有与管道或腔室壁的相交处，相位引导器侧壁进一步具有 润湿性，所述润湿性形成大于一个所述弯月面与相对基板的接触角度的、相对于正在前进 或后退的弯月面的接触角度。
18. 根据权利要求1或2所述的装置，所述装置包括至少一个作为进入管道的突出的相 位引导器，所述突出通过允许弯月面溢出的第一侧和第二侧界定，所述第一侧和第二侧为 相位引导器的侧壁，每个侧壁具有相对于普通的相对基板的小于45°的拔模角，相位引导器 在每个末端具有与管道或腔室壁的相交处，相位引导器侧壁进一步具有润湿性，所述润湿 性形成大于弯月面与相对基板的接触角度的、相对于正在前进或后退的弯月面的接触角 度。
19. 根据权利要求1或2所述的装置，其中多个相位引导器彼此靠近设置。
20. 根据权利要求1或2所述的装置，在至少一个所述体积内包括至少一个相位引导器， 所述相位引导器选自包括死角相位引导器或支撑性相位引导器的列表。
21. 根据权利要求1所述的装置，其中一个体积的至少部分是透明的或半透明的，并且 所述装置包括连接来读出或者监测过程的一个或多个光学设备。
22. 根据权利要求1或2所述的装置，其中一个所述体积的至少一部分包括当被选定的 基于液体的物质接触时化学地或可见地变化的部分。
23. 根据权利要求1或2所述的装置，所述装置包括由多个公共上游侧管道处理的多个 体积，所述公共上游侧管道被设置成使得每个体积由至少两个公共上游侧管道的单独组合 处理。
24. 根据权利要求1或2所述的装置，其中至少一个体积或管道含有感应器或转换元件。
25. 根据权利要求1或2所述的装置，其中至少一个体积含有颗粒，所述颗粒能够通过允 许外部驱动的搅拌器和所述颗粒的传输来操作，所述颗粒能够是或者包括磁性或金属微 球。
26. -种使用基于液体的物质填充或部分填充多个体积的方法，所述体积通过一个或 多个管道被连接在系列或阵列中； 所述系列或阵列包括当参照液体-液体或液体-气体弯月面的运动方向时判定的上游 和下游部分； 所述系列或阵列包括至少两个相位引导器，所述相位引导器表现出彼此不同的稳定 性，所述稳定性取决于构造与每个所述相位引导器的下游侧所对的锐角的值，还取决于在 所述构造和相关的所述相位引导器的相交处界定的半径的尺寸， 所述方法包括设置相位引导器的稳定性，以进行填充步骤，使得相位引导器的溢出以 由相位引导器稳定性决定的预定的顺序发生，其中所述构造是或者包括相位引导器与一个 所述体积的壁之间的相交处、相位引导器中的弯曲和/或形成于相位引导器内的进口。
27. 根据权利要求26所述的方法，其中因为所述体积内设有限制基于液体的物质的填 充范围的一个或多个相位引导器，发生至少一个所述体积的部分填充，从而临时地界定所 述体积的一个或多个未填充的部分，所述方法进一步包括以下步骤:将进一步的基于液体 的物质引入一个所述未填充的部分;并使得所述体积内的基于液体的物质相互接触。
28. 根据权利要求26或27所述的方法，所述方法进一步包括从一个所述体积排空基于 液体的物质的步骤。
29. 根据权利要求26或27所述的方法，所述方法包括以下步骤：引起或允许位于一个所 述体积的相对上游的相位引导器被基于液体的物质溢出，所述位于相对上游的相位引导器 比位于所述体积的相对下游的至少一个额外的相位引导器具有更低的稳定性。
30. 根据权利要求28所述的方法，所述方法包括以下步骤：引起或允许位于一个所述体 积的相对上游的相位引导器被基于液体的物质溢出，所述位于相对上游的相位引导器比位 于所述体积的相对下游的至少一个额外的相位引导器具有更低的稳定性。
31. 根据权利要求29所述的方法，所述方法包括以下步骤:在分别使用预定的量的基于 液体的物质填充一个或多个所述体积之后，允许或引起基于液体的物质流进被连接在所述 系列或阵列中的过流体积。
32. 根据权利要求30所述的方法，所述方法包括以下步骤:在分别使用预定的量的基于 液体的物质填充一个或多个所述体积之后，允许或引起基于液体的物质流进被连接在所述 系列或阵列中的过流体积。