1.一种含有酸性气体的气体处理用分离膜，其由在引入了烃基的聚硅氧烷网状结构体上掺杂对酸性气体有亲和性的金属盐而成。
2.根据权利要求1所述的含有酸性气体的气体处理用分离膜，其中引入了所述烃基的所述聚硅氧烷网状结构体为通过四烷氧基硅烷和含有所述烃基的含烃基三烷氧基硅烷的反应而得到的复合聚硅氧烷网状结构体。
3.根据权利要求2所述的含有酸性气体的气体处理用分离膜，其中所述四烷氧基硅烷为四甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷(将其记为A)，
所述含烃基三烷氧基硅烷为在三甲氧基硅烷或三乙氧基硅烷的Si原子上键合了碳原子数为1-6的烷基或苯基的含烃基三烷氧基硅烷(将其记为B)。
4.根据权利要求3所述的含有酸性气体的气体处理用分离膜，其中所述A与所述B的配合比率(A/B)以摩尔比计设定为1/9-9/1。
5.根据权利要求1-4中的任一项所述的含有酸性气体的气体处理用分离膜，其中所述金属盐为从由Li、Na、K、Mg、Ca、Ni、Fe、及Al组成的组中选择的至少一种金属的乙酸盐、硝酸盐、碳酸盐、硼酸盐、或磷酸盐。
6.一种含有酸性气体的气体处理用分离膜的制造方法，其包含：
(a)准备步骤，调制混合了酸催化剂、水、及有机溶剂的第一准备液以及混合了酸催化剂、有机溶剂、及对酸性气体有亲和性的金属盐的第二准备液；
(b)第一混合步骤，在所述第一准备液中混合四烷氧基硅烷；
(c)第二混合步骤，在所述第一混合步骤得到的混合液中混合含烃基三烷氧基硅烷；
(d)第三混合步骤，在所述第二混合步骤得到的混合液中混合所述第二准备液；
(e)涂布步骤，在无机多孔支撑体上涂布所述第三混合步骤得到的混合液；及(f)形成步骤，对完成了所述涂布步骤的无机多孔支撑体进行热处理，在该无机多孔支撑体的表面形成掺杂了所述金属盐的引入了烃基的聚硅氧烷网状结构体。
7.一种含有酸性气体的气体处理用分离膜的制造方法，其包含：
(a)准备步骤，调制混合了酸催化剂、水、及有机溶剂的第一准备液以及混合了酸催化剂、有机溶剂、及对酸性气体有亲和性的金属盐的第二准备液；
(b)第一混合步骤，将所述第一准备液和所述第二准备液混合；
(c)第二混合步骤，在所述第一混合步骤得到的混合液中混合四烷氧基硅烷；
(d)第三混合步骤，在所述第二混合步骤得到的混合液中混合含烃基三烷氧基硅烷；
(e)涂布步骤，在无机多孔支撑体上涂布所述第三混合步骤得到的混合液；及(f)形成步骤，对完成了所述涂布步骤的无机多孔支撑体进行热处理，在该无机多孔支撑体的表面形成掺杂了所述金属盐的引入了烃基的聚硅氧烷网状结构体。
8.一种含有酸性气体的气体处理用分离膜的制造方法，其包含：
(a)准备步骤，调制混合了酸催化剂、水、及有机溶剂的准备液；
(b)第一混合步骤，在所述准备步骤得到的准备液中混合四烷氧基硅烷；
(c)第二混合步骤，在所述第一混合步骤得到的混合液中混合含烃基三烷氧基硅烷；
(d)第三混合步骤，在所述第二混合步骤得到的混合液中混合对酸性气体有亲和性的金属盐；
(e)涂布步骤，在无机多孔支撑体上涂布所述第三混合步骤得到的混合液；及(f)形成步骤，对完成了所述涂布步骤的无机多孔支撑体进行热处理，在该无机多孔支撑体的表面形成掺杂了所述金属盐的引入了烃基的聚硅氧烷网状结构体。
9.根据权利要求6-8中的任一项所述的含有酸性气体的气体处理用分离膜的制造方法，其中所述四烷氧基硅烷为四甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷(将其记为A)，所述含烃基三烷氧基硅烷为在三甲氧基硅烷或三乙氧基硅烷的Si原子上键合了碳原子数为1-6的烷基或苯基的含烃基三烷氧基硅烷(将其记为B)。
10.根据权利要求9所述的含有酸性气体的气体处理用分离膜的制造方法，其中所述A与所述B的配合比率(A/B)以摩尔比计设定为1/9-9/1。
11.根据权利要求6-10中的任一项所述的含有酸性气体的气体处理用分离膜的制造方法，其中所述金属盐为从由Li、Na、K、Mg、Ca、Ni、Fe、及Al组成的组中选择的至少一种金属的乙酸盐、硝酸盐、碳酸盐、硼酸盐、或磷酸盐。
12.一种酸性气体或甲烷气体的分离方法，其使含有酸性气体及甲烷气体的消化气体通过权利要求1-5中的任一项所述的含有酸性气体的气体处理用分离膜，并分离所述酸性气体或所述甲烷气体。
13.一种酸性气体或甲烷气体的制造方法，其使含有酸性气体及甲烷气体的消化气体通过权利要求1-5中的任一项所述的含有酸性气体的气体处理用分离膜，并提取所述酸性气体或所述甲烷气体。