[0001] 本发明涉及一种便于卸料的真空滚揉机。

[0002] 真空滚揉机是在真空状态下，利用物理冲击原理，让肉块或肉馅在滚筒内上下翻动，相互撞击、摔打，从而达到按摩、腌渍作用；腌渍液被肉充分地吸收，增强肉的结合力及弹性，提高产品的口感及断面效果；并且大幅提高了食品的生产效率，在食品加工中发挥着重要的作用，现有的滚揉机多为卧式结构，即滚筒水平设置，在滚揉结束后，物料堆积在滚筒的下部，导致下料困难；而且在滚揉开始前以及结束后都需要对设备进行清洗，卧式的滚筒结构会导致水和清洗剂不容易排出，增大了操作难度，影响了加工效率。

[0003] 由于存在上述问题，现在市面上也有一些便于卸料的新型真空滚揉机结构，如授权公告号为CN204104634U的实用新型专利，其公开了一种卸料简便的新型食品加工滚揉机，但显然其技术方案仅仅是针对上述技术问题的简单设计概念，并没有考虑到机器实际工作运行时的问题；如其滚筒仍然通过常规的转轮支撑，显然，当卸料翻转时，转轮并不能起到很好的支撑效果；而且其升降气缸的简单设置在实际应用中是无法将旋转座翻转的；还有安装座与旋转座通过连接转轴的铰接方式会导致整体机架过大，滚筒高度过高，不利于滚揉机的实际使用。

[0004] 针对上述存在的技术问题，本发明的目的是：提出了一种便于卸料的真空滚揉机。

[0005] 本发明的技术解决方案是这样实现的：一种便于卸料的真空滚揉机，包含机架、支撑架、电器架、滚筒和滑动座；所述支撑架和滑动座分别设置在机架的前后两侧，滑动座与机架滑动配合，电器架通过卸料缸与滑动座连接，卸料缸的上端与电器架铰接，下端与滑动座铰接；所述滚筒的前端部设置有舱盖，滚筒的前后两侧均设置有配合环，滚筒与配合环通过多个滚轮转动配合；所述支撑架上设置有滑槽和丝杆升降装置；所述滚筒前侧的配合环与支撑架铰接，铰接部与滑槽滑动配合，并与丝杆升降装置连接，滚筒后侧的配合环固定在电器架上；所述机架上还设置有真空泵，电器架中设置有减速电机和传动组件，滚筒的后端与传动组件连接。

[0006] 优选的，所述电器架下侧的中部开有配合槽，卸料缸与电器架的铰接部分设置在该配合槽中。

[0007] 优选的，所述滚筒后侧的配合环通过固定脚设置在电器架上。

[0008] 优选的，所述机架底部的四角上均设置有伸缩支撑脚。

[0009] 优选的，所述机架底部的四角上均设置有万向轮。

[0010] 由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：本发明的便于卸料的真空滚揉机，电器架与滑动座过卸料缸以铰接的方式连接，滑动座与机架滑动连接，并且滚筒前侧的配合环与支撑架铰接，并通过滑槽和丝杆升降装置控制滚筒的前端升降，使得卸料缸可以很方便地将滚筒的后端抬起，同时，滑动座滑动调节，滚筒的前端下降，便于卸料缸快速卸料；滚筒与配合环配合，提高其在工作和卸料时的稳定性；卸料缸伸入电器架的配合槽中，降低了滚筒高度，便于实际操作。
附图说明

[0011] 下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明：附图1为本发明的一种便于卸料的真空滚揉机的示意图。

[0012] 下面结合附图来说明本发明。

[0013] 如图1所示，本发明所述的一种便于卸料的真空滚揉机，包含机架1、支撑架2、电器架3、滚筒4和滑动座13；所述机架1上设置有真空泵，机架1底部的四角上均设置有伸缩支撑脚9和万向轮10；所述支撑架2有两个，分别安装在机架1前端的左右两侧上，滑动座13滑动设置在机架1的后侧，并且滑动座13通过电机丝杆传动组件控制前后滑动；所述电器架3与滑动座13之间连接有两个卸料缸5，当然，卸料缸5还可以设置多个，多个卸料缸5可以前后或并排设置；所述电器架3中设置有减速电机和传动组件以及其他电控元器件，电器架3下侧的中部开有配合槽，减速电机和其他电控元器件设置在配合槽的左右两侧，卸料缸5的上端伸入配合槽中，并与电器架3铰接，卸料缸5的下端与滑动座13铰接；所述滚筒4的前端部设置有舱盖6，舱盖6上设置有与真空泵连接的抽真空气孔，滚筒4的前后两侧均设置有圆环状的配合环7，滚筒4与配合环7转动配合，滚筒4与配合环7之间设置有多个滚轮，形成类似轴承的结构；所述支撑架2上设置有滑槽11和丝杆升降装置12；所述滚筒4前侧的配合环7与支撑架2铰接，铰接部与滑槽11滑动配合，并与丝杆升降装置12连接，通过丝杆升降装置12控制滚筒4前端升降，滚筒4后侧的配合环7通过固定脚8设置在电器架3上，滚筒4的后端与电器架3上的传动组件连接，传动组件一般为皮带轮结构；本实施例中的真空泵、减速电机、传动组件以及其他电控元器件均为本领域常规结构，因此在图中未予示出，机架1或电器架3上还可以设置操作面板，滚筒4上还可以设置真空压力表。

[0014] 上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。