Dispositif d'élévation d'un individu, de type échasses |
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申请号 | EP10155785.8 | 申请日 | 2010-03-08 | 公开(公告)号 | EP2233179A1 | 公开(公告)日 | 2010-09-29 |
申请人 | Gatech; | 发明人 | Andrei, Gérard; | ||||
摘要 | La présente invention concerne un dispositif d'élévation (1) d'un individu au-dessus du sol comprenant une semelle (2a) supportée par une embase (3) de telle sorte qu'elle se trouve surélevée par rapport au sol (10) lorsque la surface inférieure (3a) de ladite embase repose sur le sol, caractérisé en ce que : - ladite semelle (3a) dépasse sur l'avant (L'2) par rapport à la surface inférieure (3a) de contact avec le sol de ladite embase, et - ladite surface inférieure (3a) de contact avec le sol de ladite embase dépasse sur l'arrière (L'1) par rapport à ladite semelle, et - la longueur (L4) d'une zone de chevauchement, sur laquelle ladite semelle et ladite embase se chevauchent dans leur direction longitudinale (XX') avec une largeur d'embase de ladite surface inférieure supérieure à celle de la semelle dans ladite zone de chevauchement (L4), est égale à au moins les 2/3 de la longueur (L1) de ladite surface inférieure (3a) de l'embase, de préférence au moins les 3/4 de la longueur( L1) de ladite surface inférieure de l'embase et au moins les 2/3 de la longueur (L2) de ladite semelle. |
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权利要求 | |||||||
说明书全文 | La présente invention concerne un dispositif d'élévation d'un individu au dessus du sol, de type échasses. Ce type de dispositif est donc destiné à être adapté sur chacun des deux pieds d'un utilisateur, de préférence, et doit permettre à un individu, équipé dudit dispositif à chaque pied, de se déplacer en marchant avec les pieds équipés de tels dispositifs, sans l'utilisation des mains. On connaît, dans Dans Ce dispositif, s'il apporte une réponse satisfaisante quant à la stabilisation d'un individu au repos perché sur ladite surface supérieure ou semelle, présente toutefois certains inconvénients lorsque l'individu, équipé desdites échasses à ses pieds, souhaite se déplacer en marchant. On comprend en effet que, du fait que la surface inférieure de la base est à la fois plus large, plus longue et dépasse, à la fois, vers l'avant et vers l'arrière par rapport à la surface supérieure des semelles, l'individu est contraint de lever les genoux assez haut pour compenser la plus grande difficulté de basculement résultant de la plus grande longueur des surfaces inférieures de la base par rapport à celle de la semelle. Dans Le but de la présente invention est de fournir un nouveau type de dispositif d'élévation d'un individu au dessus du sol, de type échasses, qui améliore la stabilité de l'individu perché sur un dit dispositif et facilite le déplacement en marchant d'un individu équipé d'un dispositif d'élévation à chaque pied. Un autre but de la présente invention est de fournir un dispositif d'élévation qui soit, à la fois, simple à utiliser et à fabriquer et relativement peu coûteux à fabriquer. Pour ce faire, la présente invention fournit un dispositif d'élévation d'un individu au-dessus du sol comprenant :
On comprend que le dispositif selon l'invention s'utilise par paire avec chaque pied chaussé de l'individu adapté sur une semelle. On comprend que :
Du fait que l'aire de chevauchement de la semelle et de l'embase, sur laquelle l'embase est de plus grande largeur que la semelle, s'étend sur au moins les 2/3 des longueurs desdites embase et de préférence semelle, la stabilité de l'individu surélevé par rapport au sol est suffisante. Par "chevauchement", on entend que c'est la surface projetée au sol de la semelle qui se chevauche avec la surface inférieure de l'embase. Les longueur et largeur de ladite zone de chevauchement de l'embase par rapport à la semelle permettent de stabiliser de façon suffisante l'équilibrage de l'individu perché sur lesdites semelles et compenser le risque plus élevé de perte d'équilibre résultant de l'élévation des pieds par rapport au sol. En particulier, cette plus grande largeur de l'embase dans ladite zone diminue aussi le risque de perte d'équilibre par basculement latéral. Cette plus grande largeur de l'embase permet d'autre part de mettre en oeuvre une embase de longueur réduite par rapport à celle de la semelle pour faciliter le déplacement de l'individu chaussé du dispositif selon l'invention par pivotement sur l'avant de la semelle par rapport à l'embase, ce pivotement ou basculement vers l'avant de la semelle par effet de levier évite de devoir trop lever le pieds pour permettre le déplacement d'un individu chaussé sur chacun de ses pieds d'un dispositif selon l'invention. Le déplacement vers l'avant d'un individu équipé à chaque pied d'un dispositif selon l'invention est encore facilité par les caractéristiques dimensionnelles et de positionnement relatif de ladite semelle et dite embase telles que définies ci-dessus. En particulier, le décalage vers l'avant de la semelle, par rapport à la surface inférieure de l'embase, permet de favoriser un effet de levier pour obtenir un pivotement vers l'avant de la semelle par rapport à l'embase par poussée en avant de la semelle au niveau du genou et du pied. Ce décalage conforte également la stabilité au regard d'une perte d'équilibre par basculement vers l'arrière de l'individu, ce risque de perte d'équilibre vers l'arrière étant plus difficile à maîtriser par un individu que le risque de perte d'équilibre par basculement vers l'avant. Dans un mode préféré de réalisation, un dispositif d'élévation selon l'invention comprend les caractéristiques selon lesquelles :
De par sa forme ovoïde, la surface de contact avec le sol de l'embase présente une partie avant, à partir de sa mi-longueur de largeur, réduite par rapport à sa partie arrière. Cette terminaison vers l'avant, relativement en pointe de ladite embase, facilite les changements de direction vers la droite ou la gauche de l'individu en cours de déplacement avec le dispositif selon l'invention au pied, en comparaison à la forme de la base du dispositif de La plus grande largeur de l'embase légèrement en retrait par rapport à sa mi longueur, c'est-à-dire plus proche du centre de sa longueur que de son extrémité arrière, favorise la stabilisation de l'individu au regard d'un risque de basculement vers l'arrière, sans toutefois rendre plus difficile le pivotement vers l'avant de la semelle par rapport à l'embase lors du déplacement de l'individu équipé dudit dispositif. Les caractéristiques dimensionnelles de ladite colonne supportant la semelle contribuent à assurer une bonne stabilité de l'équilibre de l'individu perché sur lesdites semelles. En pratique, les jambes de l'individu perché, debout avec les pieds fixés aux dites semelles, sont sensiblement dans l'axe ZZ' de ladite colonne et le centre de gravité de l'individu en mouvement de marche, équipé de dispositifs selon l'invention aux pieds , reste toujours à l'intérieur de surface de ladite colonne en projection au sol ce qui évite tout effet de levier involontaire qui pourrait résulter de la surélévation de l'individu désaxé par rapport à la surface inférieure de l'embase. Enfin, l'avancée de la semelle par rapport ladite colonne produit le même effet technique d'augmentation de l'inertie que celui d'un marteau par rapport à son manche, lors du pivotement de la semelle vers l'avant par rapport à ladite embase en cas de déplacement vers l'avant de l'individu. Avantageusement encore, ladite semelle forme la paroi de fond plate surmontée sur sa périphérie d'une paroi latérale formant ainsi une coque semi ouverte sur sa face de supérieure à l'extrémité supérieure d'une dite colonne. Cette caractéristique est avantageuse car, en principe, l'individu voulant se déplacer en marchant avec le dispositif à ses pieds devra exercer une poussée vers l'avant, à la fois au niveau du genou et du pied, de sorte que la butée constituée par la paroi latérale périphérique de la semelle complètera en tant que de besoin la retenue du pied par lesdits moyens de fixation, en particulier lorsque lesdits moyens de fixation du pied sur la semelle sont constitués par des sangles sur ladite paroi latérale. Dans un mode de réalisation préféré, un dispositif selon l'invention comprend deux pièces emboîtées l'une dans l'autre en coulissement avec :
La forme non circulaire des colonnes et trou central de l'embase contribue à les maintenir en position angulaire respective, c'est-à-dire contribue à résister à une rotation relative de la colonne dans le trou central, par rotation autour dudit axe vertical de symétrie commun ZZ lors du déplacement d'un individu équipé de dispositifs aux pieds. En pratique, ladite semelle présentera une longueur d'au moins 30 cm, de préférence d'environ 35 cm, de manière à pouvoir recevoir des pieds équipés de chaussures pour les plus grandes tailles de chaussures d'homme. Toutefois, il est concevable qu'il puisse être prévu plusieurs tailles selon la catégorie d'âge et de taille de l'individu. Un dispositif selon l'invention peut être à hauteur unique. Toutefois, dans un mode préféré de réalisation, la hauteur dudit trou central interne est telle que :
En pratique, la position basse de ladite semelle correspondra à une hauteur de celle-ci d'au moins 45 cm et la position haute d'au moins 60 cm, de manière à permettre l'accès à une surface de travail en hauteur correspondant à la hauteur du plafond d'une maison d'habitation, à savoir de 2,50 à 2,70 m pour un individu de taille de 1,50 à 1,85 m. Selon d'autres caractéristiques avantageuses d'un dispositif selon l'invention, notamment en vue de sa fabrication :
Ce type de pièces rotomoulée creuses est avantageux car il est léger, relativement à son volume, ce qui est important fonctionnellement pour le dispositif, et il est peu coûteux à réaliser en grande série. La jonction entre les parois de fond de l'enveloppe externe et paroi interne de l'embase permet de rigidifier l'embase et permet à la paroi interne de l'embase et au trou cylindrique central de rester dans l'axe de l'embase quand ladite colonne de la pièce supérieure porte sur l'embase en basculement. Dans un mode de réalisation particulier, ladite colonne de la pièce supérieure comprend des premières perforations la traversant diamétralement, de préférence à plusieurs niveaux en hauteur, et ladite embase comprend au moins une seconde perforation la traversant diamétralement, apte à coopérer avec les premières perforations de ladite colonne pour régler la hauteur de coulissement et bloquer le coulissement des pièces supérieure et inférieure par introduction d'une tige de blocage apte à traverser transversalement, dans une direction horizontale, de part en part, ladite embase et ladite de colonne à l'intérieur dudit trou central de ladite embase. Avantageusement encore, ladite paroi latérale externe de l'embase comprend au moins une zone incurvée de rétrécissement en section transversale horizontale, et une zone en bosse, au moins à mi hauteur de la dite embase, au dessus de ladite zone de rétrécissement, ladite zone en bosse présentant une surface en section transversale horizontale au moins égale au 3/4 de la surface de la sous face ou surface inférieure de ladite embase en contact avec le sol. La zone incurvée correspond à une incurvation concave aussi bien en section horizontale qu'en section verticale. Le rétrécissement de cette zone correspond à une longueur réduite en section horizontale. Plus particulièrement encore, ladite paroi latérale externe de ladite embase comprend une première dite zone de rétrécissement 3c entre l'extrémité inférieure de ladite embase et une dite zone en bosse à environ mi hauteur de ladite embase, et une seconde dite zone de rétrécissement 3c entre ladite zone en bosse à environ mi hauteur et l'extrémité supérieure de ladite embase, lesdites extrémités supérieure et inférieure de l'embase formant desdites zones en bosse, présentant une surface en section transversale horizontale sensiblement égale à celle de la surface inférieure 3a de ladite embase en contact avec le sol. Ces caractéristiques de zones de rétrécissement et zones en bosse ou en saillie ou extension optimisent la rigidité de ladite embase et son inertie en dépit de son poids relativement réduit de par son volume creux interne. La présente invention a donc également pour objet une utilisation d'une paire de dispositifs selon l'invention, par un individu dont les pieds sont fixés aux dites semelles et dont les mains, le cas échéant, sont occupées par un outil de travail pour lui permettre d'opérer avec ledit outil à une surface de travail inaccessible sans surélévation de l'individu au dessus du sol. Le dispositif selon l'invention donne ainsi la possibilité de travailler en opérant au niveau d'une surface de travail en hauteur en se déplaçant, sans devoir monter et descendre d'une échelle, pour déposer l'outil et libérer les mains de l'individu pour ce faire. On comprend que ce résultat permet de travailler de façon plus confortable, plus rapide et moins fatigante. Le dispositif selon l'invention peut ainsi être utilisé par des professionnels du bâtiment ou des bricoleurs ayant à opérer au niveau d'un plafond, tels que des électriciens, peintres, plâtriers, laveurs de vitre, ou encore en extérieur par un jardinier pour tailler une haie notamment. D'autres caractéristiques et avantages de la présente invention ressortiront mieux à la lecture de la description qui va suivre, faite de manière illustrative et non limitative, en référence aux dessins annexés sur lesquels :
Un dispositif 1 d'élévation d'un individu 10 au dessus du sol, lorsque ledit individu est équipé, à chacun de ses pieds chaussés 10a, d'un dit dispositif d'élévation, comprend les deux pièces supérieure 2 et inférieure 3 décrites ci-après. Ses chaussures 10a sont fixées à ladite semelle 2a grâce à des sangles 5 avec anneaux ou boucles de blocage 5a. Lesdites sangles sont fixées sur la paroi latérale 2c de la coque 2a' décrite ci-après, travers des fentes 5b de 2c. La pièce supérieure 2 est constituée par une colonne 2b à section ovale en section horizontale, de plus grand diamètre L3 = 18 cm et de petit diamètre 13 = 16 cm, ladite colonne 2b se prolongeant à son extrémité supérieure par une coque 2a' ouverte sur sa face supérieure comprenant une paroi 2a plate de fond, formant une semelle de forme oblongue en section horizontale, apte à supporter une chaussure 10a. Ladite semelle présente une longueur L2 d'environ 34,5 cm et une largeur 12 d'environ 14 cm. Ladite coque 2a' surmontant la colonne 2b est également constituée par une petite bordure latérale 2b, surmontant la paroi de fond ou semelle 2a, formant ainsi une coque ouverte sur sa face supérieure. L'axe de symétrie vertical ZZ' de la colonne 2b coïncide avec un point C1 dans l'axe de symétrie longitudinal XX' de ladite semelle, ledit point C1 étant décalé vers l'arrière par rapport au centre C2 de la longueur de la semelle, c'est-à-dire le point C1 correspond à un peu plus d'1/3 de la longueur L2 de ladite semelle 2a à partir de son extrémité arrière 2a-2 et donc un peu moins de 2/3 de ladite longueur L2 de ladite semelle à partir de son extrémité avant 2a-1. La pièce supérieure 2, depuis son extrémité inférieure 2b-3 de la colonne 2b jusqu'au niveau de la surface supérieure ou dite semelle 2a, présente une hauteur H2 d'environ 38 cm, la colonne 2b ayant une hauteur H2' d'environ 2/3 à 3/4 de H2 dessous la coque 2a'. La pièce inférieure 3 ou embase 3 est réalisée, comme la pièce supérieure 2, en matière plastique polyéthylène ou polypropylène par rotomoulage avec des épaisseurs de parois de 3 à 5 mm. L'embase 3 est constituée par une pièce en élévation d'une hauteur H1 d'environ 39 cm et présente une surface inférieure 3a en sous-face, plate, apte à rentrer en contact avec le sol, de forme ovoïde, présentant un axe de symétrie axial longitudinal dans la même direction XX' que ladite semelle 2a et ladite colonne 2b, et une longueur L1 dans ladite direction XX' d'environ 33,5 cm. Le point de mi longueur de ladite surface inférieure 3a coïncide avec l'axe vertical ZZ'. Et, la plus grande largeur I1 de ladite surface inférieure 3a de forme ovoïde est d'environ 20 cm. Et, le point correspondant à la plus grande largeur I1 se situe le long de la longueur L1 de ladite surface inférieure 3a, en C'1, légèrement en retrait par rapport à l'axe ZZ' et à la projection du point C1, plus proche de l'axe ZZ' que de l'extrémité arrière 3a-2 de ladite surface inférieure 3a. La partie avant 3a-3 de la surface inférieure 3a, située entre le point C'1 de plus grande largeur (i1 = 20 cm) de la surface inférieure 3a et l'extrémité avant 3a-1 de ladite surface inférieure 3, présente une largeur allant en diminuant depuis C'1 vers ladite extrémité avant 3a-1. La partie arrière 3a-4 de la surface inférieure 3a est, en moyenne, plus large que la partie avant 3a-3. La largeur maximale 12 de ladite semelle 2a est à peu près égale à la largeur maximale 13 de ladite colonne 2b, elle-même inférieure à la largeur maximale I1 de ladite surface inférieure 3a, I1 représentant de 1,3 à 1,5 fois la largeur maximale I2, ici I1 est égal environ à 1,5 fois I2. En revanche, la longueur L1 de ladite semelle inférieure 3a est légèrement inférieure à la longueur L2 de ladite semelle 2a, leur zone de chevauchement en longueur uniquement L5 correspondant à environ 90% de L1, la longueur L'1 de dépassement de l'extrémité arrière 3a-2 de la surface 3a par rapport à l'extrémité arrière 2a-2 de la semelle 2a représentant environ 10% de la longueur L1. En revanche, la longueur de dépassement L'2 de l'extrémité avant 2a-1 de la semelle 2a par rapport à l'extrémité avant 3a-1 de la surface inférieure 3a de l'embase est supérieure à L'1 et représente environ 15 à 20% de L5 (la longueur de la zone de chevauchement en longueur seulement de la semelle 2a et de la surface inférieure 3a comprenant une largeur supérieure à la largeur maximale 12 de la semelle 2a). L5 représente plus des 3/4 de la longueur L2 de la semelle 2a. La longueur L"2 de dépassement de l'extrémité avant 2a-1 de la semelle 2a par rapport à la limite avant de la colonne 2b est d'environ deux fois la longueur de dépassement L'2 de l'extrémité avant 2a-1 de la semelle 2a par rapport à l'extrémité avant 3a-1 de la surface inférieure 3a de l'embase. La longueur L4 de chevauchement, à la fois en largeur et en longueur, de la surface de ladite semelle 2a et celle de ladite surface inférieure 3a de l'embase est supérieure à 2/3 de L2 et environ égale à 3/4 de L1. La pièce inférieure ou embase 3 présente un orifice supérieur débouchant sur un trou central 3-1 à parois cylindriques verticales à section horizontale ovale, destiné à recevoir ladite colonne 2b en coulissement, ladite colonne 2b étant blocable à différentes hauteurs à l'intérieur de ladite embase 3 grâce à une tige 4 que l'on peut introduire dans un orifice 3-4, traversant diamétralement ladite embase, et des orifices 2-3 correspondant de ladite colonne 2b, la tige 4 traversant donc les parois de l'enveloppe externe 3-2 et paroi interne 3-3 de ladite embase, au niveau des trous 2-3 et 3-4 diamétralement opposés. La hauteur H'1 dudit trou central interne 3-1 est telle que :
Ladite embase 3 comporte une paroi externe 3-2, délimitant sur sa surface supérieure un orifice supérieur débouchant sur le trou central vertical 3-1, et une paroi interne 3-3, comprenant une deuxième paroi de fond interne 3-3b surmontée de la paroi cylindrique latérale interne 3-3a délimitant ledit trou cylindrique central 3-1 de l'embase 3. L'enveloppe externe 3-2 comporte également une surface inférieure constituant la surface inférieure 3a de ladite embase. Ladite embase constitue donc une pièce délimitant un volume interne creux 3-3 délimité par ladite enveloppe externe 3-2 comprenant la paroi de fond 3a, la paroi externe latérale 3-3a, d'une part, et, d'autre part, la paroi interne 3-3 comprenant ladite première paroi de fond interne 3-3b et la paroi cylindrique latérale interne 3-3a. La paroi de fond 3a de l'enveloppe externe 3-2 de ladite embase est surmontée sur sa périphérie par une paroi latérale externe 3b, rejoignant en 3-6, à son extrémité supérieure, l'extrémité supérieure de la paroi latérale interne 3-3a de ladite embase. Compte-tenu de la fabrication par rotomoulage, la paroi de fond 3-3b du trou 3-1 vient, en partie, de matière en 3-5 avec la paroi de fond 3a de l'enveloppe externe. Ladite paroi latérale externe 3-2b de ladite embase comprend une première dite zone de rétrécissement 3c entre l'extrémité inférieure de ladite embase et une dite zone en bosse 3d à environ mi hauteur de ladite embase, et une seconde dite zone de rétrécissement 3c entre ladite zone en bosse 3d à environ mi hauteur et l'extrémité supérieure 3-5 de ladite embase, lesdites extrémités supérieure 3-5 et inférieure 3-6 de l'embase formant desdites zones en bosse 3d, présentant une surface en section transversale horizontale sensiblement égale à celle de la surface inférieure 3a de ladite embase en contact avec le sol. Ces rétrécissements des zones 3c sont des rétrécissements dans la longueur, c'est-à-dire dans la direction longitudinale XX' de la section transversale horizontale perpendiculaire à l'axe vertical ZZ' de ladite embase 3. Ces zones de rétrécissement sont des zones incurvées, concaves en section verticale et en section horizontale, dont les bords adjacents de deux zones de rétrécissement 3c consécutives, en section verticale, forment une zone en bosse 3d. Sur les Sur la Sur la Le dispositif 1 selon l'invention est avantageux car il permet de continuer à opérer avec l'outil 11 au niveau de la zone de travail 12, tout en se déplaçant ou, à tout le moins, sans avoir à poser ledit outil 11 lorsqu'il se déplace pour travailler d'un point à un autre de la zone 12. |