1.一种用于空心件（50）的等离子体处理的装置，所述装置包括：
·用于容纳至少一个待处理的空心件（50）的处理室（20）；
·至少一个等离子体源（10），其包括能量源（30）以用于产生等离子体（P）；
·至少一个抽排装置（60），其用于调节该等离子体源（10）和该处理室（20）之间的压差（Δp）；
其特征在于，
·所述至少一个等离子体源（10）设置在该处理室（20）之外；
·通过控制单元（33）能够如此控制所述能量源（30），即，能够产生脉动的等离子体（P）；
和
·每个等离子体供应机构（13）分别借助于一个用于等离子体（P2）进流（15）的出口（14）经由各个空心件（50）的开口（52）进入每个空心件（50）。
2.根据权利要求1所述的装置（1），其中，每个等离子体供应机构（13）上分别装有一个第一定量单元（D1），其用于使得等离子体（P2）进流（15）定量进入各空心件（50）中。
3.根据权利要求1所述的装置（1），其中，在所述等离子体供应机构（13）和所述空心件（50）的开口（52）之间形成环绕的间隙开口面（53），通过所述间隙开口面从所述空心件（50）起形成与所述处理室（20）的流体连通。
4.根据权利要求1所述的装置（1），其中，所述等离子体供应机构（13）的出口（14）如此定位在所述空心件（50）内，和/或其中所述定量单元（D1）如此与所述抽排装置（60）相互协调，即，被提供给所述空心件（50）的等离子体（P2）均匀作用于所述空心件（50）的内表面（51）。
5.根据权利要求2至4所述的装置（1），其中，用于供应处理材料（M）的供应管路（40）通入所述等离子体供应机构（13）。
6.根据权利要求5所述的装置，其中，在用于供应处理材料（M）的所述供应管路（40）之前接设有第二定量单元（D2）。
7.根据权利要求6所述的装置（1），其中，通过第一定量单元（D1）和第二定量单元（D2）能够如此控制，即，处理材料（M）的进流在时间和数量方面能够与等离子体（P2）的进流相协调。
8.一种用于空心件（50）的等离子体处理的方法，其特征在于，所述方法具有以下步骤：
·在处理室（20）内设置至少一个空心件（50）并且借助抽排装置（60）调节所述处理室（20）内的压力（p20），从而在至少一个等离子体源（10）和该处理室（20）之间形成压差（Δp）；
·在所述至少一个等离子体源（10）中产生脉冲化的等离子体（P）；
·分别将每个等离子体供应机构（13）引入每个空心件（50），从而等离子体（P）从所述等离子体源（10）通过第一定量单元（D1）被导引入设于所述压力室（20）内的每个空心件（50）中；
·受控地打开所述第一定量单元（D1），从而脉冲化的等离子体（P2）在每个空心件（50）内均匀分布。
9.根据权利要求8所述的方法，其中，每个等离子体源（10）与一个能量源（30）相连，所述能量源为了产生脉冲化等离子体（P）而输出电压脉冲（V(t)）。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述电压脉冲（V(t)）是直流电压脉冲，所述直流电压脉冲具有脉冲持续时间、脉冲间隔和/或电压大小的固定值或可变值。
11.根据权利要求9和10所述的方法，其中，通过调制所述电压脉冲（V(t)），调节由等离子体（P）和/或被送入所述空心件（50）的等离子体（P2）带来的热负荷和/或静电负荷。
12.根据权利要求8所述的方法，其中，利用来自所述等离子体源（10）的等离子体（P），进行涂覆或与一个或多个组成部分或用于产生等离子体的工艺气体（g1）的反应产物和/或处理材料（M）进行化学反应、进行所述空心件（50）的内表面（51）的聚合化或者前置清理或后置清理。
13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述处理材料（M）是通过通入所述等离子体供应机构（13）的供应管路（40）来输入的。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，通过用于定量提供处理材料（M）的第一定量单元（D1）和第二定量单元（D2）能够如此控制，即，处理材料（M）的进流在时间和数量方面与等离子体（P）的进流相协调。
15.根据权利要求8至14之一所述的方法，其中，在被提供给至少一个空心件（50）的等离子体（P2）的脉冲之间还至少间歇地输入工艺气体（g1），用于散走因等离子体处理而出现的热量。
16.根据权利要求12至15之一所述的方法，其中，该处理材料（M）由载运气体（G2）构成，该载运气体载有呈蒸汽或雾或悬浮液形式的活性物质（A）。
1.一种用于空心件（50）的等离子体处理的装置，所述装置包括：
·用于容纳至少一个待处理的空心件（50）的处理室（20）；
·至少一个等离子体源（10），其包括能量源（30）以用于产生等离子体（P）；
·至少一个抽排装置（60），其用于调节该等离子体源（10）和该处理室（20）之间的压差（Δp）；
其特征在于，
·所述至少一个等离子体源（10）设置在该处理室（20）之外；
·通过控制单元（33）能够如此控制所述能量源（30），即，能够产生脉动的等离子体（P）；
·每个等离子体供应机构（13）分别借助于一个用于等离子体（P2）进流（15）的出口（14）经由各个空心件（50）的开口（52）进入每个空心件（50）；和
·每个等离子体供应机构（13）上分别装有一个第一定量单元（D1），其用于使得等离子体（P2）进流（15）定量进入各空心件（50）中。
2.根据权利要求1所述的装置（1），其中，在所述等离子体供应机构（13）和所述空心件（50）的开口（52）之间形成环绕的间隙开口面（53），通过所述间隙开口面从所述空心件（50）起形成与所述处理室（20）的流体连通。
3.根据权利要求1所述的装置（1），其中，所述等离子体供应机构（13）的出口（14）定位在所述空心件（50）内，和/或其中所述定量单元（D1）能够与所述抽排装置（60）相互协调，即，被提供给所述空心件（50）的等离子体（P2）均匀分布于所述空心件（50）的内表面（51）。
4.根据权利要求2至3所述的装置（1），其中，用于供应处理材料（M）的供应管路（40）通入所述等离子体供应机构（13）。
5.根据权利要求4所述的装置，其中，在用于供应处理材料（M）的所述供应管路（40）之前接设有第二定量单元（D2）。
6.根据权利要求5所述的装置（1），其中，通过第一定量单元（D1）和第二定量单元（D2）能够如此控制，即，处理材料（M）的进流在时间和数量方面能够与等离子体（P2）的进流相协调。
7.一种用于空心件（50）的等离子体处理的方法，其特征在于，所述方法具有以下步骤：
·在处理室（20）内设置至少一个空心件（50）并且借助抽排装置（60）调节所述处理室（20）内的压力（p20），从而在至少一个等离子体源（10）和该处理室（20）之间形成压差（Δp）；
·在所述至少一个等离子体源（10）中产生脉冲化的等离子体（P）；
·分别将每个等离子体供应机构（13）引入每个空心件（50），从而等离子体（P）从所述等离子体源（10）通过第一定量单元（D1）被导引入设于所述压力室（20）内的每个空心件（50）中；
·受控地打开所述第一定量单元（D1），从而脉冲化的等离子体（P2）在每个空心件（50）内均匀分布。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，每个等离子体源（10）与一个能量源（30）相连，