Light amplifying device

申请号 JP17545391 申请日 1991-07-16 公开(公告)号 JP2693662B2 公开(公告)日 1997-12-24
申请人 株式会社東芝; 发明人 幸勇 知念;
摘要
权利要求 (57)【特許請求の範囲】
  • 【請求項1】 信号光が入力される光ファイバと、一端が該光ファイバに結合し、他端が希土類元素を添加した光ファイバに結合した半導体レ−ザとを備え、上記信号光を上記半導体レ−ザの活性層を伝搬させ、上記半導体レ−ザにより上記希土類元素を添加した光ファイバを励起して上記信号光を増幅することを特徴とする光増幅装置。
  • 【請求項2】 上記信号光が入力される光ファイバと上記半導体レ−ザ、及び上記半導体レ−ザと上記希土類元素を添加した光ファイバとは、それぞれ集光用レンズを介して結合していることを特徴とする請求項1記載の光増幅装置。
  • 【請求項3】 上記光ファイバに対抗する上記半導体レ−ザの一端が、上記希土類元素を励起する波長に対し高反射率をもち、かつ、上記光ファイバから放出される波長に対し低反射率をもつ誘電体膜で被覆されており、上記半導体レ−ザの他端が、上記希土類元素を励起する波長に対し低反射率をもち、かつ、上記光ファイバから放出される波長に対し低反射率をもつ誘電体膜で被覆されていることを特徴とする請求項1記載の光増幅装置。
  • 说明书全文

    【発明の詳細な説明】

    【0001】

    【産業上の利用分野】この発明は光送受信等に使用される光増幅装置に関する。

    【0002】

    【従来の技術】光通信は半導体レ−ザ等の発光素子を用いて信号光を送信し、光ファイバ等を媒体として長距離伝送を行うものである。 このような光通信システムでは、信号光を増幅し伝送距離を延ばしたり受光信号レベルを高くしたりする場合が多い。 この信号光を増幅する光増幅装置は例えば図2に示すように構成されている。
    信号光を送信する光ファイバ21は集光用レンズ22を介して合波器23に接続されている。 また半導体レ−ザも集光用レンズ27を介して合波器23に接続されている。 合波器23の出部分は、光ファイバにエルビウムなどの希土類元素を数100ppm添加した、希土類元素添加光ファイバEDF(ErbiumDoped F
    iber)24に接続されている。

    【0003】入力信号光P inは光ファイバ21を通過し、集光用レンズ22を介して合波器23に入力される。 EDF24の希土類元素を励起するための励起用レ−ザ光P mは半導体レ−ザ26より照射され、集光用レンズ27を介して合波器23に入力される。 上記入力信号光P inと上記励起用レ−ザ光P mのそれぞれの波長を合波器23を用いて、光学的に結合させ一方向にのみ導波させる。 合波された光はEDF24に入力される。 それらの光のうち上記励起用レ−ザ光P mは、EDF24
    中に添加されている希土類元素を励起する。 それにより励起した希土類元素により誘導放出が起こり、上記入力信号光P inは利得を得て、増幅されEDF24の他端から出力される。

    【0004】ところで従来の光増幅装置では、異なる波長の光を合波し一方向のみに出力させるための複雑な構造を有する合波器23が必要である。 また、この合波器23からの出力光をEDF24に入力させるために、合波器23の一端とEDF24の一端をサブミクロンの精度で接続する必要があり、光ファイバ融着(スプライシング)法などの難度の高い技術が不可欠である。

    【0005】

    【発明が解決しようとする課題】従来、光ファイバ中の希土類元素が励起され誘導放出が起こり、信号光は利得を得て増幅され送信される。 しかしながら、希土類元素は信号光の波長のみでは励起できない。 そのために希土類元素を誘導放出するための励起光が必要であり、励起光源として半導体レ−ザを用いる。 そのため信号光と励起光を希土類元素添加光ファイバに入力するためには、
    それら2つの光を合波し一方向にのみ導波する必要がある。 そのために合波器を用いるが、その合波器は複雑な構造を有しており、高価である。 また合波器と光ファイバ等とを接続するには、難度の高い技術を用いなければならない。 故に、本発明は光増幅を複雑な装置や難しい技術を用いずに、容易に行える装置を提供するのが目的である。

    【0006】

    【課題を解決するための手段】信号光を入力する光ファイバ等を集光用レンズを介して、半導体レ−ザの一端に対抗させる。 また上記半導体レ−ザの他端を集光用レンズを介して、希土類元素を添加した光ファイバ等に対抗させる。 希土類元素を励起させるための励起光は、上記半導体レ−ザで生成される。 信号光を半導体レ−ザの活性層中を導波させ、上記励起光の出力と重ねて、希土類元素添加光ファイバ等に入力することを特徴とするものである。

    【0007】

    【作用】上記のように構成された光増幅装置では、光ファイバから出力される信号光は集光用レンズを介して半導体レ−ザの一端に入力される。 入力された上記信号光は、半導体レ−ザで生成された励起光と半導体レ−ザ中で合波する。 そして合波された光は、上記半導体レ−ザの他端から、集光用レンズを介して希土類元素を添加した光ファイバに入力される。 半導体レ−ザで生成した励起光は希土類元素を励起し誘導放出がなされ、信号光は利得を得て増幅される。

    【0008】よって光ファイバ等の精密接合技術で作られる合波器などを使用せずに、容易に異なる波長を合波できる。 そのため従来、スプライシング法などの難度の高い技術を必要とした、合波器と希土類元素を添加した光ファイバの接続を行う必要がない。

    【0009】

    【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。

    【0010】図1は本実施例の構成図であり、図3A及び図3Bは半導体レ−ザの端面に被膜する誘電体膜の透過率−波長特性図であり、図4は半導体レ−ザから出射される励起光のスペクトル図である。

    【0011】図1に示されるように、本実施例の構成は以下のとおりである。 光ファイバ11は集光用レンズ1
    2を介して半導体レ−ザ16の一端、特に活性層15に対抗している。 上記半導体レ−ザ16の他端は希土類元素を添加した光ファイバ19に集光用レンズ18を介して対抗している。 それぞれの上記集光用レンズ12、1
    8に対抗する半導体レ−ザ16の両端は、それぞれ誘電体膜13、17で被膜されている。

    【0012】本実施例においては1.5μm帯の波長を用いて説明する。 また、希土類元素を添加する光学材料として、例えばコア径9μmグラッド径125μmの石英系単一モ−ド光ファイバを用いる。 希土類元素はこの光ファイバ製造時にコアの中心付近数μm径内に添加される。 添加する希土類元素は増幅する光の波長により選ばれ、1.5μm帯の場合はエルビウム元素を用いる。
    エルビウム元素は石英ファイバ中で 423/2
    411/2 49/2 49/2 43/2のエネルギ−
    準位を形成し、それぞれ波長換算して、1.54,0.98,0.
    8 , 0.65 ,0.514 μmのエネルギ−準位が形成される。 この中で 423/2の準位を利用し、1.54μm帯波長の光を放出させるためには、このエネルギ−準位以上の高いエネルギ−準位に電子を励起させる。 423/2の準位は波長換算で1.48,1.535 ,1.55μmの準安定準位からなっており、1.48μmの波長をもつ光で励起し、1.53
    5,1.55μmの波長の光を放出させることができる。

    【0013】尚、励起光源として半導体レ−ザを用いる。 その場合、0.98と1.48μmの波長が効率がよいが0.
    98μm帯の半導体レ−ザは超格子歪構造を必要とする。
    よって幾分効率は劣るが1.48μm帯の通常の半導体レ−
    ザを高出力動作させて使用することで十分励起動作が可能である。 この高出力半導体レ−ザ16はInGaAs
    P/InP系の組成をもつ埋め込みヘテロ接合で実現できる。 活性層15はInGaAsPの混晶組成をもち、
    1.46〜1.5 μmの波長の光を放出することができる。 この半導体レ−ザ16に300 〜500 mAの電流I fを注入した場合のレ−ザ光のスペクトルを図4に示す。 EDF
    19中の各準位は、ある一定の幅を持っているため、1.
    48μmの準位を励起するには1.46〜1.5 μmの波長のレ−ザ光で十分可能である。 光増幅率を大きくするにはできるだけ大きなパワ−のレ−ザ光が必要であるが、5 〜
    100 mWの強さがあれば実用的な光増幅率が得られる。
    この半導体レ−ザ16の端面から放出された励起用レ−
    ザ光P mは半値全幅約30度、40度の楕円系の出力パタ−ンをもっているため、コア径9μmのEDF19に入力するには、集光用レンズ18を用いる必要がある。

    【0014】ところで、入力信号光P inは石英系ファイバの低損失波長であり、かつEDF19のエネルギ−準位にあった1.535 や1.55μmの波長である。 入力信号光P inは石英系ファイバ11を用いて半導体レ−ザ16中の活性層15の端面に集光用レンズ12を用いて入力される。 活性層15は0.2×1.5μmの断面と長さ40
    0 〜1000μmである。 この断面寸法はレ−ザ光出力と活性層15を伝搬する光信号のモ−ド制御を考慮して決められる。 活性層15を伝搬した入力信号光P inは、半導体レ−ザで生成された1.48μm帯波長の励起用レ−ザ光P mと共に、半導体レ−ザ16の他端から集光用レンズ18を介してEDF19の端面に入力される。

    【0015】このとき、入力信号光P inは1.535や1.55μmの波長である。 そのため、入力信号光P in
    は活性層15内でほとんど吸収されずにレ−ザ光と合波される。 (しかし、例えば1.48μmの波長であると、活性層15内で吸収され増幅されてEDF19に入力される。)

    【0016】半導体レ−ザ16のEDF19に対抗する面は高出力な励起用レ−ザ光と信号光を放出するため、
    図3Aに示す低反射率を有する誘電体多層膜17により被覆されている。 石英系ファイバ11に対抗する面は、
    半導体レーザ16で生成される1.48μm帯レ−ザ光に対し高反射率をもち、入力信号光P inの1.53〜1.56μmに対し低反射率をもち、図3Bに示す反射特性を有する誘電体多層膜13により被覆されている。

    【0017】なお、上記実施例においては、1.5μm
    帯波長を用いて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、赤外から紫外領域に及ぶ波長の光にも実施し得るものである。 また、光ファイバ、空気、レンズを光伝搬の媒体として説明したが、どのような媒体、例えば半導体基板や誘電体基板上でも、同等に実施し得るものである。 加えて、半導体レ−ザの構造は活性層にM
    QW構造や光導波路構造があっても同等に実施し得るものである。

    【0018】

    【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明では、光ファイバ中に添加された希土類元素を励起するための励起光を生成する半導体レ−ザ自体を、信号光の光導波路として用いる。 それにより、容易に異なる2つの波長をもつ光を合波できる。 したがって、これまで使用していた方向性合波器などの複雑な装置を省くことができ、さらに半導体レ−ザの活性層においても、信号光が増幅され利得を得る場合もある。

    【図面の簡単な説明】

    【図1】本発明の一実施例の構成図。

    【図2】従来例を示す構成図。

    【図3】半導体レ−ザに使用されている誘電体膜の反射率−波長特性図。

    【図4】半導体レ−ザに使用されている誘電体膜の反射率−波長特性図。

    【図5】図1の半導体レ−ザで生成されたレ−ザ光のスペクトル図。

    【符号の説明】

    11…光ファイバ,12…集光用レンズ,13…誘電体膜,15…活性層,16…半導体レ−ザ,17…誘電体膜,18…集光用レンズ,19…希土類元素添加光ファイバ。

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