键盘结构 |
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申请号 | CN201610255266.X | 申请日 | 2016-04-22 | 公开(公告)号 | CN105788928A | 公开(公告)日 | 2016-07-20 |
申请人 | 苏州达方电子有限公司; 达方电子股份有限公司; | 发明人 | 张立德; 廖瑞铭; 颜志仲; | ||||
摘要 | 本 发明 关于一种 键盘 结构,包括键帽、 底板 与第一 支架 、第二支架。该键帽具有键帽滑动部,该键帽滑动部凸出设置键帽干涉 块 ;该底板具有底板滑动部,该底板滑动部凸出设置底板干涉块。当该键帽受到按压时,该键帽迫使该第一支架与该第二支架由未按压 位置 移动至按压位置,该键帽干涉块干涉该第一支架滑动部相对该键帽滑动部的滑动,而该底板干涉块干涉该第二支架滑动部相对该底板滑动部的滑动,藉以在该键帽的按压过程中提供阻 力 而造成按压手感。本发明通过键帽与底板的至少一者上凸出设置干涉块,藉以在键帽的按压过程中提供阻力,因而可在不使用非线性弹性体的情况下,对键帽的操作提供按压手感。 | ||||||
权利要求 | 1.一种键盘结构,其特征在于,该键盘结构包括: |
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说明书全文 | 键盘结构技术领域[0001] 本发明涉及一种键盘结构,尤其涉及一种可提供按压手感的键盘结构。 背景技术[0002] 键盘是计算机使用上不可或缺的配件。现在的键盘除了要能提供指令输入外,还得要对键帽的操作提供按压手感,以符合键盘的各种使用需求。而键帽操作的按压手感一般会通过对键帽提供顶撑力的非线性弹性体来达成,藉由非线性弹性体的弹性变形量与受力大小具有不成正比的关系,使得操作者在操作键帽时会受到程度不一的反馈力而产生按压手感。 [0003] 但是,并非所有键盘都会为键帽设置非线性弹性体,所以,如何在不通过非线性弹性体的情况下,对键帽的操作提供按压手感,即为当下键盘的制造业者所亟待解决的技术问题。 发明内容[0004] 为达到不使用非线性弹性体也能提供按压手感的效果,本发明提供一种键盘结构。 [0005] 上述的键盘结构包括: [0006] 键帽,该键帽具有键帽滑动部,该键帽滑动部凸出设置有键帽干涉块,该键帽干涉块将该键帽滑动部的内部空间,分为第一空间与第二空间; [0008] 第一支架,该第一支架具有第一支架滑动部,该第一支架滑动部与该键帽滑动部搭配,使该第一支架相对该键帽滑动;以及 [0009] 第二支架,该第二支架具有第二支架滑动部,该第二支架滑动部与该底板滑动部搭配,使该第二支架相对该底板滑动; [0010] 当该键帽受到按压时,该键帽迫使该第一支架与该第二支架由未按压位置移动至按压位置,使得该第一支架滑动部相对该键帽滑动部滑动,而自该第一空间移动进入该第二空间,且使得该第二支架滑动部相对该底板滑动部滑动,而自该第三空间移动进入该第四空间,其中,该键帽干涉块干涉该第一支架滑动部相对该键帽滑动部的滑动,而该底板干涉块干涉该第二支架滑动部相对该底板滑动部的滑动,藉以在该键帽的按压过程中提供阻力而造成按压手感。 [0011] 作为可选的技术方案,该键盘结构还包括弹性体,该弹性体受力后的弹性变形量与受力大小值成正比,该弹性体对该键帽提供顶撑力,使该第一支架滑动部接触该键帽滑动部滑槽下方的槽壁面,以及使该第二支架滑动部接触该底板滑动部滑槽上方的槽壁面,并在该键帽受到的按压力释放时,使该第一支架及该第二支架移动返回该未按压位置,使得该第一支架滑动部自该第二空间移动返回该第一空间,以及使得该第二支架滑动部自该第四空间移动返回该第三空间。 [0012] 作为可选的技术方案,该底板干涉块具有底板干涉块引导面,能够引导该第二支架滑动部沿着第二预定路径相对该底板滑动部滑动,而使该第一支架与该第二支架在该未按压位置与该按压位置间移动。 [0013] 本发明还提供一种键盘结构,该键盘结构包括: [0014] 键帽,该键帽具有键帽滑动部,该键帽滑动部凸出设置有键帽干涉块,该键帽干涉块将该键帽滑动部的内部空间,分为第一空间与第二空间;以及 [0015] 第一支架,该第一支架具有第一支架滑动部,该第一支架滑动部与该键帽滑动部搭配,使该第一支架相对该键帽滑动; [0016] 当该键帽受到按压时,该键帽迫使该第一支架由未按压位置移动至按压位置,使得该第一支架相对该键帽滑动部滑动,而自该第一空间移动进入该第二空间,其中,该键帽干涉块干涉该第一支架滑动部相对该键帽滑动部的滑动,藉以在该键帽的按压过程中提供阻力而造成按压手感。 [0017] 作为可选的技术方案,该键盘结构还包括弹性体,该弹性体受力后的弹性变形量与受力大小值成正比,该弹性体对该键帽提供顶撑力,使该第一支架滑动部接触该键帽滑动部滑槽下方的槽壁面,并在该键帽受到的按压力释放时,使该第一支架移动返回该未按压位置,使得该第一支架滑动部自该第二空间移动返回该第一空间。 [0018] 本发明还提供一种键盘结构,该键盘结构包括: [0019] 键帽; [0020] 底板,该底板具有底板滑动部,该底板滑动部凸出设置有底板干涉块,该底板干涉块将该底板滑动部的内部空间,分为第三空间与第四空间;以及 [0021] 第二支架,该第二支架具有第二支架滑动部,该第二支架滑动部与该底板滑动部搭配,使该第二支架相对该底板滑动; [0022] 当该键帽受到按压时,该键帽迫使该第二支架由未按压位置移动至按压位置,使得该第二支架相对该底板滑动,而自该第三空间移动进入该第四空间,其中,该底板干涉块干涉该第二支架滑动部相对该底板滑动部的滑动,藉以在该键帽的按压过程中提供阻力而造成按压手感。 [0023] 作为可选的技术方案,该键盘结构还包括弹性体,该弹性体受力后的弹性变形量与受力大小值成正比,该弹性体对该键帽提供顶撑力,使该第二支架滑动部接触该底板滑动部滑槽上方的槽壁面,并在该键帽受到的按压力释放时,使该第二支架移动返回该未按压位置,使得该第二支架滑动部自该第四空间移动返回该第三空间。 [0024] 作为可选的技术方案,该底板干涉块具有底板干涉块引导面,能够引导该第二支架滑动部沿着第二预定路径相对该底板滑动部滑动,而使该第二支架在该未按压位置与该按压位置间移动。 [0025] 作为可选的技术方案,该键帽滑动部为滑槽,该键帽干涉块位于该键帽滑动部滑槽内侧上方、下方或侧边的槽壁面。 [0026] 作为可选的技术方案,该第一支架滑动部包含第一支架干涉块,该第一支架干涉块干涉该第一支架滑动部相对该键帽滑动部的滑动,藉以在该键帽的按压过程中提供阻力。 [0027] 作为可选的技术方案,该键帽干涉块具有键帽干涉块引导面,能够引导该第一支架滑动部沿着第一预定路径相对该键帽滑动部滑动。 [0028] 作为可选的技术方案,该键帽干涉块引导面具有波浪状或平滑状的表面。 [0029] 作为可选的技术方案,该底板滑动部为滑槽,该底板干涉块位于该底板滑动部滑槽内侧上方、下方或侧边的槽壁面。 [0030] 作为可选的技术方案,该第二支架滑动部包含第二支架干涉块,该第二支架干涉块干涉该第二支架滑动部相对该底板滑动部的滑动,藉以在该键帽的按压过程中提供阻力。 [0031] 作为可选的技术方案,该底板干涉块引导面具有波浪状或平滑状的表面。 [0032] 相比于现有技术,本发明的键盘结构,通过干涉支架构件相对于键帽与底板的滑动,以在键帽的按压过程中提供阻力,因而可在不使用非线性弹性体的情况下,对键帽的操作提供按压手感。 附图说明[0034] 图1为本发明键盘结构的示意图; [0035] 图2为本发明键盘结构的分解图; [0036] 图3为本发明键帽滑动部第一实施例的示意图; [0037] 图4为本发明键帽滑动部第二实施例的示意图; [0038] 图5为本发明键帽滑动部第三实施例的示意图; [0039] 图6为本发明底板滑动部第一实施例的示意图; [0040] 图7为本发明底板滑动部第二实施例的示意图; [0041] 图8为本发明底板滑动部第三实施例的示意图; [0042] 图9为图1中键盘结构处于未按压位置时沿AA线段截切的截面图; [0043] 图10为图1中键盘结构处于按压位置时沿AA线段截切的截面图; [0044] 图11为图1中键盘结构处于未按压位置时沿BB线段截切的截面图; [0045] 图12为图1中键盘结构处于按压位置时沿BB线段截切的截面图。 具体实施方式[0046] 以下内容将搭配图式,藉由特定的具体实施例说明本发明的技术内容,熟悉此技术之人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其它优点与功效。本发明亦可藉由其它不同的具体实施例加以施行或应用。本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用,在不背离本发明的精神下,进行各种修饰与变更。尤其是,在图式中各个组件的比例关系及相对位置仅具示范性用途,并非代表本发明实施的实际状况。 [0047] 针对本发明键盘结构的特征,请一并参阅图1至图12,且为使本发明的揭露内容更为简洁而容易明了,以下各实施例中相同或近似功能的组件将采用相同的符号进行说明,且省略相同或均等特征的描述。 [0048] 本发明所提供的键盘结构,通过干涉支架构件相对键帽与底板的滑动,以在键帽的按压过程中提供阻力,因而可在不使用非线性弹性体的情况下,对键帽的操作提供按压手感。 [0049] 图1为本发明键盘结构的示意图,图2为本发明键盘结构的分解图,请参照图1、图2。本发明的按键结构1包括:键帽11、底板12、第一支架13、第二支架14、弹性体15以及电路板16。弹性体15可对键帽11提供顶撑力。弹性体15为受力后的弹性变形量与受力大小值成正比的螺旋弹簧。 [0050] 图3为本发明键帽滑动部第一实施例的示意图,请参照图3。键帽11具有键帽滑动部111,而键帽滑动部111为凸出设置有键帽干涉块1111的滑槽,键帽干涉块1111位于键帽滑动部111滑槽内侧的槽壁面。键帽干涉块1111可干涉图2所示的第一支架13相对键帽滑动部111的滑动,藉以在键帽11的按压过程中提供阻力。键帽干涉块1111可选择与键帽滑动部111成型为一体,或者可选择结合于键帽滑动部111的金属材质所制成。 [0051] 关于键帽干涉块1111的设置位置,在本实施例中,键帽干涉块1111位于键帽滑动部111滑槽内侧上方的槽壁面。当然,在其他实施例中,键帽干涉块1111也可设置在其他位置,例如:如图4所示的本发明键帽滑动部第二实施例中,键帽干涉块1111位于键帽滑动部111滑槽内侧侧边的槽壁面,又或者如图5所示的本发明键帽滑动部第三实施例中,键帽干涉块1111位于键帽滑动部111滑槽内侧下方的槽壁面。 [0052] 如图9至图10所示,键帽干涉块1111将键帽滑动部111的内部空间,分为第一空间1112与第二空间1113,第一支架13具有第一支架滑动部131,第一支架滑动部131与键帽滑动部111搭配,使第一支架13可以相对键帽11滑动,且藉由弹性体15对键帽11的顶撑力,而保持接触键帽滑动部111滑槽下方的槽壁面。第一支架滑动部131包含第一支架干涉块 1311,第一支架干涉块1311干涉第一支架滑动部131相对键帽滑动部111的滑动,藉以在键帽11的按压过程中提供阻力。 [0053] 键帽干涉块1111具有表面为波浪状或平滑状的键帽干涉块引导面11111。当键帽11受到按压时,键帽11迫使第一支架13由图9所示的未按压位置移动至图10所示的按压位置,使得键帽干涉块引导面11111引导第一支架滑动部131,沿着第一预定路径相对键帽滑动部111滑动,而自第一空间1112移动进入第二空间1113,其中,键帽干涉块1111干涉第一支架滑动部131相对键帽滑动部111的滑动,藉以在键帽11的按压过程中提供阻力而造成按压手感。当键帽11受到的按压力释放时,弹性体15对键帽11提供顶撑力,而使第一支架13移动返回图9所示的未按压位置,使得第一支架滑动部131自第二空间1113移动返回第一空间 1112。 [0054] 图6为本发明底板滑动部第一实施例的示意图,请参照图6。底板12具有底板滑动部121,而底板滑动部121为凸出设置有底板干涉块1211的滑槽,底板干涉块1211位于底板滑动部121滑槽内侧的槽壁面。底板干涉块1211可干涉图2所示的第二支架14相对第二支架滑动部141的滑动,藉以在键帽11的按压过程中提供阻力。底板干涉块1211可选择与底板滑动部121成型为一体。 [0055] 关于底板干涉块1211的设置位置,在本实施例中,底板干涉块1211位于底板滑动部121滑槽内侧上方的槽壁面。当然,在其他实施例中,底板干涉块1211也可设置在其他位置,例如如图7所示的本发明底板滑动部第二实施例中,键帽干涉块1111位于底板滑动部121滑槽内侧下方的槽壁面,又或者如图8所示的本发明底板滑动部第三实施例中,底板干涉块1211位于该底板滑动部121滑槽侧边的槽壁面。 [0056] 如图11至图12所示,底板干涉块1211将底板滑动部121的内部空间,分为第三空间1212与第四空间1213,第二支架14具有第二支架滑动部141,第二支架滑动部141与底板滑动部121搭配,使第二支架14可以相对底板12滑动,且藉由弹性体15对键帽11的顶撑力,而保持接触第二支架滑动部141滑槽上方的槽壁面。第二支架滑动部141包含第二支架干涉块 1411,第二支架干涉块1411干涉第二支架滑动部141相对底板滑动部121的滑动,藉以在键帽11的按压过程中提供阻力。 [0057] 底板干涉块1211具有表面为波浪状或平滑状的底板干涉块引导面12111。当键帽11受到按压时,键帽11迫使第二支架14由图11所示的未按压位置移动至图12所示的按压位置,使得底板干涉块引导面12111引导第二支架滑动部141,沿着第二预定路径相对底板滑动部121滑动,而自第三空间1212移动进入第四空间1213,其中,底板干涉块1211干涉第二支架滑动部141相对底板滑动部121的滑动,藉以在键帽11的按压过程中提供阻力而造成按压手感。当键帽11受到的按压力释放时,弹性体15系对键帽11提供顶撑力,而使第二支架14移动返回图11所示的未按压位置,使得第二支架滑动部141自第四空间1213移动返回第三空间1212。 [0058] 综上所述,本发明的键盘结构,通过干涉支架构件相对于键帽与底板的滑动,以在键帽的按压过程中提供阻力,因而可在不使用非线性弹性体的情况下,对键帽的操作提供按压手感。 [0059] 当然,本发明还可有其它多种实施例,在不背离本发明精神及其实质的情况下,熟悉本领域的技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形,但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。 |